一种掩膜板和曝光方法技术

本发明专利技术实施例公开了一种掩膜板和曝光方法，涉及显示技术领域，使用该掩膜板能够形成多层结构。该掩膜板包括至少两个叠加的子掩膜板，每个所述子掩膜板包括遮光图案和透光图案，所有所述遮光图案在所述掩膜板上的垂直投影无交叠。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术实施例公开了，涉及显示
，使用该掩膜板能够形成多层结构。该掩膜板包括至少两个叠加的子掩膜板，每个所述子掩膜板包括遮光图案和透光图案，所有所述遮光图案在所述掩膜板上的垂直投影无交叠。【专利说明】
本专利技术涉及显示
，尤其涉及。
技术介绍
在液晶显示器的制作过程中，需要经过多次构图工艺以形成各层结构。通常构图工艺包括在涂覆光刻胶、使用掩膜板遮盖、曝光、显影、刻蚀、剥离光刻胶等步骤。 具体地，掩膜板包括遮光图案和透光图案，示例性地，当构图工艺中基板上涂覆的光刻胶为正性光刻胶时，曝光过程中，掩膜板上的遮光图案遮挡住光线，使得遮光图案下方的光刻胶未被光线照射，光刻胶没有发生变性，在后续的显影过程中保留，掩膜板上的透光图案使得光线透过，进而照射到透光图案下方的光刻胶上，光刻胶变性，在显影过程中溶解。在后续的刻蚀工艺中，无光刻胶覆盖的膜层被刻蚀掉，光刻胶覆盖的膜层保留，最后剥离光刻胶，从而形成一层结构。 专利技术人发现，现有技术中，一张掩膜板上的遮光图案和透光图案固定，因此，使用一张掩膜板只能形成一层结构，进而使得在液晶显示器的制作过程中，需要使用的掩膜板的数量较多，从而使得液晶显示器的成本高、产能低、竞争力差。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于提供，使用该掩膜板能够形成多层结构。 为解决上述技术问题，本专利技术实施例提供了一种掩膜板，采用如下技术方案: —种掩膜板包括至少两个叠加的子掩膜板，每个所述子掩膜板包括遮光图案和透光图案，所有所述遮光图案在所述掩膜板上的垂直投影无交叠。 所述掩膜板还包括透明的保护膜，所述保护膜位于所述子掩膜板靠近光源一侧。 所述子掩膜板还包括透明的衬底基板，所述遮光图案位于所述衬底基板上，所述遮光图案的材质为铬。 本专利技术实施例提供了一种掩膜板，该掩膜板包括至少两个叠加的子掩膜板，每个子掩膜板包括遮光图案和透光图案，所有遮光图案在掩膜板上的垂直投影无交叠，在一次构图工艺中，曝光光线聚焦于一个子掩膜板上，仅一个子掩膜板上的遮光图案遮光，由于曝光光线的衍射，从而使得曝光光线未聚焦的其他子掩膜板上的遮光图案下方有光线通过，从而使得在一次构图工艺中可以将一个子掩膜板上的遮光图案或者透光图案转移至基板上，形成一层结构，因此，经过多次构图工艺，在每次构图工艺中将曝光光线分别聚焦于不同的子掩膜板上，使用该掩膜板即可形成多层结构，降低了液晶显示器制作过程中掩膜板的使用数量，降低了成本，提高了产能，进而提高竞争力。 为了进一步解决上述技术问题，本专利技术实施例还提供了一种曝光方法，采用如下技术方案: 一种曝光方法包括:至少两个曝光过程，每个所述曝光过程包括: 在基板上形成光刻胶； 使用掩膜板遮盖形成有所述光刻胶的所述基板，所述掩膜板包括至少两个叠加的子掩膜板，每个所述子掩膜板包括遮光图案和透光图案，所有所述遮光图案在所述掩膜板上的垂直投影无交叠； 使曝光光线聚焦于一个所述子掩膜板上，对所述光刻胶进行曝光； 其中，在不同的所述曝光过程中，使所述曝光光线聚焦于不同的所述子掩膜板上。 所述在不同的所述曝光过程中，使所述曝光光线聚焦于不同的所述子掩膜板上，包括: 在不同的所述曝光过程中，所述曝光光线的波长相同，位于不同的所述子掩膜板上的所述遮光图案上方同一高度的聚光结构的焦距不同，不同的所述聚光结构使所述曝光光线聚焦于不同的所述子掩膜板上。 所述在不同的所述曝光过程中，使所述曝光光线聚焦于不同的所述子掩膜板上，包括: 在不同的所述曝光过程中，所述曝光光线的波长不同，位于不同的所述子掩膜板上的所述遮光图案上方同一高度的聚光结构的焦距相同，所述聚光结构使波长不同的所述曝光光线聚焦于不同的所述子掩膜板上。 所述在不同的所述曝光过程中，使所述曝光光线聚焦于不同的所述子掩膜板上，包括: 在不同的所述曝光过程中，所述曝光光线的波长相同，位于不同的所述子掩膜板上的所述遮光图案上方的聚光结构的焦距相同，不同的所述聚光结构距离所述掩膜板的距离不同，所述聚光结构使波长相同的所述曝光光线聚焦于不同的所述子掩膜板上。 所述聚光结构为凸透镜。 本专利技术实施例提供了一种曝光方法，该曝光方法包括至少两个曝光过程，每个曝光过程包括:在基板上形成光刻胶；使用掩膜板遮盖形成有光刻胶的基板，掩膜板包括至少两个叠加的子掩膜板，每个子掩膜板包括遮光图案和透光图案，所有遮光图案在掩膜板上的垂直投影无交叠；使曝光光线聚焦于一个子掩膜板上，对光刻胶进行曝光，其中，曝光光线聚焦于一个子掩膜板上，仅一个子掩膜板上的遮光图案遮光，曝光光线未聚焦于其他子掩膜板上，由于曝光光线的衍射，从而使得其他子掩膜板上的遮光图案下方也有光线通过，从而使得在包括一个上述曝光过程的一次构图工艺中可以将一个子掩膜板上的遮光图案或者透光图案转移至基板上，形成一层结构，另外，由于不同的曝光过程中，曝光光线聚焦于不同的子掩膜板上，因此，经过多次构图工艺即可形成多层结构，降低了液晶显示器制作过程中掩膜板的使用数量，降低了成本，提高了产能，进而提高竞争力。 【专利附图】【附图说明】 为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。 图1为本专利技术实施例中的第一种掩膜板的示意图； 图2为本专利技术实施例中的第一个曝光过程示意图； 图3为本专利技术实施例中的第二个曝光过程示意图； 图4为本专利技术实施例中的第二种掩膜板的示意图； 图5为本专利技术实施例中的曝光方法流程图。 附图标记说明: I一第一子掩膜板；11 一第一子掩膜板的遮光图案；12—第一子掩膜板的透光图案； 2—第一子掩膜板；21—第二子掩膜板的遮光图案；22—第二子掩膜板的透光图案； 3一保护膜；4一聚光结构；10—基板； 101一第一结构膜层；102—第一层光刻胶；103—第一结构； 104一第二结构膜层；105—第二层光刻胶；106—第二结构。 【具体实施方式】 下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。 实施例一 本专利技术实施例提供了一种掩膜板，使用该掩膜板能够形成多层结构。 具体地，该掩膜板包括至少两个叠加的子掩膜板，每个子掩膜板包括遮光图案和透光图案，所有遮光图案在掩膜板上的垂直投影无交叠。示例性地，如图1所示，掩膜板包括两个上下设置的第一子掩膜板I和第二子掩膜板2,其中,第一子掩膜板I包括遮光图案11和透光图案12，第二子掩膜板2包括遮光图案21和透光图案22。 需要说明的是，上述“叠加”二字只是对多个子掩膜板的上下关系的限定，并未对其他特征进行限定，多个子掩膜板可以实际上相互独立，也可以为一个掩膜板虚拟划分出的多个子掩膜板，以便于对掩膜板的结构进行描述。 为了便于本领域技术人员理解，下本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板，其特征在于，包括至少两个叠加的子掩膜板，每个所述子掩膜板包括遮光图案和透光图案，所有所述遮光图案在所述掩膜板上的垂直投影无交叠。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王宝强，朴相镇，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11