产生方法和信息处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种产生方法和信息处理装置。本发明专利技术提供一种产生在用于曝光基板的曝光装置中使用的多个掩模的图案的数据的产生方法，产生方法包括以下步骤：根据以要在基板上形成的图案要素为交点的网格上的多个点规定容许在构成要在基板上形成的目标图案的目标图案要素的点以外转印图案的容许点的步骤；和对包含到相邻的目标图案要素的距离比曝光装置的分辨率极限短的目标图案要素的图案要素组将间隙被容许点填充的网格上的相邻的目标图案要素形成组的步骤。

【技术实现步骤摘要】
产生方法和信息处理装置
本专利技术涉及产生用于曝光装置中的多个掩模的图案的数据的产生方法和信息处理装置。
技术介绍
曝光装置被用于光刻处理中，该光刻处理是半导体器件制造处理。在光刻处理中，半导体器件的电路图案被转印到基板(例如，硅基板、玻璃基板或晶片)。曝光装置包括用来自光源的光照射掩模(标线片)的照射光学系统和将在掩模上形成的图案(电路图案)投影到基板的投影光学系统。为了应对半导体器件近来的微细化设计规则，曝光装置执行通过使用多个掩模将基板多次曝光并在基板上的一个层上重叠和形成多个掩模的图案的多重曝光。曝光装置不能获得足够的曝光余裕的分辨率极限一般由hp = IqX λ /NA表达，这里，hp是相邻的图案之间的最短距离的一半，即，半间距，kl是处理因子，λ是曝光光的波长(曝光波长)，NA是投影光学系统的数值孔径。多重曝光是这样一种技术，即，将具有比与曝光装置的分辨率极限对应的半间距小的半间距的图案分成多个图案(即，多个掩模)并曝光掩模，由此分解(resolve)比一次曝光中的分辨率极限小的图案。作为与多重曝光相关的技术，例如，美国2011/0078638提出将掩模图案(要被转印到基板的图案(目标图案))分成多个图案的方法。美国2011/0078638公开了通过使用冲突图形和数学规划来分割图案的方法。冲突图形由节点和边缘形成。当分割图案时，构成图案的各图案要素由节点代表，并且，通过边缘连接具有超过分辨率极限的距离的图案要素。在美国2011/0078638中，通过使用数学规划分割图案，使得边缘在其两端具有不同的掩模号。美国2011/0078638还公开了通过将一个图案要素分成多个图案要素来从设计上减少(解决)分割矛盾(冲突图形的节点或边缘的数量)的方法。美国2007/0031738提出了从设计上减少分割矛盾的另一种方法。美国2007/0031738公开了通过将分开预先确定的距离或更大的距离的多个图案要素形成组来从设计上减少分割矛盾的方法。另一方面，对于低Ic1光刻，变得难以将二维布局的预先确定的图案(沿垂直方向和水平方向展开的图案)忠实地转印到基板。近来，在“Michael C.Smayling et.al., “LowklLogic Design using GriddedDesign Rules’Troc.0f SPIE Vol.6925 (2008)”中提出称为一维布局技术的电路图案形成方法。在该技术中，形成单间距L/S (线和空间)图案。然后，以相同的图案尺寸在多个位置在等网格上形成诸如孔图案和切割图案的图案要素。通过图案要素切割单间距L/S图案，由此形成电路图案。一维布局技术不仅与二维布局技术相比可减少曝光面积，而且还在技术上有利于曝光本身。但是，在美国2011/0078638和美国2007/0031738公开的技术中，以二维布局的图案为前提分割图案或者减少设计上的分割矛盾。由此，通过将图案要素分割成多个图案从设计上减少分割矛盾的方法不能被应用于不分割一个图案要素的一维布局。美国2007/0031738提出了将分开预先确定的距离(临界间距)或更大距离的非临界图案要素形成组的方法。但是，在美国2007/0031738中没有公开将临界图案要素形成组的方法，并且，设计上的许多分割矛盾仍然没有解决。
技术实现思路
本专利技术提供有利于产生用于多重曝光中的多个掩模的图案的数据的技术。根据本专利技术的第一方面，提供一种产生在用于曝光基板的曝光装置中使用的多个掩模的图案的数据的产生方法，该产生方法包括由计算机执行的以下步骤:根据以要在基板上形成的图案要素为交点的网格上的多个点规定容许在构成要在基板上形成的目标图案的目标图案要素的点以外转印图案的容许点的第一步骤；对包含到相邻的目标图案要素的距离比曝光装置的分辨率极限短的目标图案要素的图案要素组将间隙被容许点填充的网格上的相邻的目标图案要素形成组的第二步骤；和产生多个掩模的图案的数据使得与在第二步骤中形成组的目标图案要素对应的掩模图案要素被布置于相同的掩模中的第三步骤。根据本专利技术的第二方面，提供一种用于产生在用于曝光基板的曝光装置中使用的多个掩模的图案的数据的信息处理装置，该信息处理装置包括被配置为产生多个掩模的图案的数据的处理单元，该处理单元执行以下的步骤:根据以要在基板上形成的图案要素为交点的网格上的多个点规定容许在构成要在基板上形成的目标图案的目标图案要素的点以外转印图案的容许点的第一步骤；对包含到相邻的目标图案要素的距离比曝光装置的分辨率极限短的目标图案要素的图案要素组将间隙被容许点填充的网格上的相邻的目标图案要素形成组的第二步骤；和产生多个掩模的图案的数据使得与在第二步骤中形成组的目标图案要素对应的掩模图案要素被布置于相同的掩模中的第三步骤。根据本专利技术的第三方面，提供一种产生在用于曝光基板的曝光装置中使用的多个掩模的图案的数据的产生方法，该产生方法包括由计算机执行的以下步骤:根据以要在基板上形成的图案要素为交点的网格上的多个点规定禁止在构成要在基板上形成的目标图案的目标图案要素的点以外转印图案的禁止点的第一步骤；对包含到相邻的目标图案要素的距离比曝光装置的分辨率极限短的目标图案要素的图案要素组将间隙不包含禁止点的网格上的相邻的目标图案要素形成组的第二步骤；和产生多个掩模的图案的数据使得与在第二步骤中形成组的目标图案要素对应的掩模图案要素被布置于相同的掩模中的第三步骤。根据本专利技术的第四方面，提供一种用于产生在用于曝光基板的曝光装置中使用的多个掩模的图案的数据的信息处理装置，该信息处理装置包括被配置为产生多个掩模的图案的数据的处理单元，该处理单元执行以下的步骤:根据以要在基板上形成的图案要素为交点的网格上的多个点规定禁止在构成要在基板上形成的目标图案的目标图案要素的点以外转印图案的禁止点的第一步骤；对包含到相邻的目标图案要素的距离比曝光装置的分辨率极限短的目标图案要素的图案要素组将间隙不包含禁止点的网格上的相邻的目标图案要素形成组的第二步骤；和产生多个掩模的图案的数据使得与在第二步骤中形成组的目标图案要素对应的掩模图案要素被布置于相同的掩模中的第三步骤。从参照附图对示例性实施例的以下描述，本专利技术的其它特征将变得清晰。【附图说明】图1是用于解释根据本专利技术的第一实施例的产生方法的流程图。图2是示出在基板上形成的目标图案的例子的示图。图3是示出冲突图形的例子的示图。图4是用于解释根据现有技术的目标图案要素的分割的示图。图5是示出限定构成在基板上形成的图案的最小单位的阵列的网格上的容许点的示图。图6是示出冲突图形的例子的示图。图7是用于解释目标图案要素的分割(分布)的示图。图8是示出根据第一实施例的光刻模拟的结果的示图。图9是用于解释根据本专利技术的第二实施例的产生方法的流程图。图10是用于解释伪图案要素的插入的示图。图11是用于解释将目标图案要素与伪图案要素形成组的示图。图12是用于解释目标图案要素与伪图案要素的分割(分布)的示图。图13是用于解释通过插入伪图案要素导致的曝光余裕增加的示图。图14是用于解释根据本专利技术的第三实施例的产生方法的流程图。图15是用于解释目标图案要素的扩展的示图。【具体实施方式】以下将参照附图描述本专利技术的优选实施例。注意，相同的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种产生在用于曝光基板的曝光装置中使用的多个掩模的图案的数据的产生方法，包括由计算机执行的以下步骤：第一步骤，根据以要在基板上形成的图案要素为交点的网格上的多个点，规定容许在构成要在基板上形成的目标图案的目标图案要素的点以外转印图案的容许点；第二步骤，对于包含到相邻的目标图案要素的距离比曝光装置的分辨率极限短的目标图案要素的图案要素组，将间隙被容许点填充的网格上的相邻的目标图案要素形成组；和第三步骤，产生多个掩模的图案的数据，使得与在第二步骤中形成组的目标图案要素对应的掩模图案要素被布置于相同的掩模中。

【技术特征摘要】
2013.02.22 JP 2013-0338701.一种产生在用于曝光基板的曝光装置中使用的多个掩模的图案的数据的产生方法，包括由计算机执行的以下步骤: 第一步骤，根据以要在基板上形成的图案要素为交点的网格上的多个点，规定容许在构成要在基板上形成的目标图案的目标图案要素的点以外转印图案的容许点； 第二步骤，对于包含到相邻的目标图案要素的距离比曝光装置的分辨率极限短的目标图案要素的图案要素组，将间隙被容许点填充的网格上的相邻的目标图案要素形成组；和第三步骤，产生多个掩模的图案的数据，使得与在第二步骤中形成组的目标图案要素对应的掩模图案要素被布置于相同的掩模中。2.根据权利要求1的方法，其中， 在第二步骤中，伪图案要素被插入间隙被容许点填充的网格上的相邻的目标图案要素之间，并且，伪图案要素和间隙被容许点填充的相邻的目标图案要素形成组，并且， 在第三步骤中，产生多个掩模的图案的数据，使得与在第二步骤中形成组的伪图案要素和目标图案要素对应的掩模图案要素被布置于相同的掩模中。3.根据权利要求2的方法，其中，伪图案要素被插入以连接间隙被容许点填充的网格上的相邻的目标图案要素。4.根据权利要求2的方法，其中，伪图案要素是将被转印到基板的图案要素。5.根据权利要求1的 方法，其中， 在第二步骤中，间隙被容许点填充的网格上的相邻的目标图案要素向容许点扩展，并且，扩展的目标图案要素形成组，并且， 在第三步骤中，产生多个掩模的图案的数据，使得与在第二步骤中形成组的扩展的目标图案要素对应的掩模图案要素被布置于相同的掩模中。6.根据权利要求1的方法，其中， 在上面要形成目标图案的基板上形成线图案，并且， 所述目标图案是切割所述线图案的切割图案。7.根据权利要求1的方法,其中，在第三步骤中，定义成本函数,所述成本函数包含定义多个掩模的数量的函数，并且，产生多个掩模的图案的数据，使得成本函数的值通过使用整数规划满足基准值。8.根据权利要求1的方法，其中，所述容许点是即...

【专利技术属性】
技术研发人员：荒井祯，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP