一种真空精炼炉用石墨坩埚制造技术

技术编号:10452179 阅读:111 留言:0更新日期:2014-09-18 16:57
本实用新型专利技术涉及一种真空精炼炉用石墨坩埚。该石墨坩埚呈圆筒状,由熔炼坩埚、浇嘴辅圈和浇嘴三部分构成。熔炼坩埚底部内外拐角处均经过圆角处理。熔炼坩埚与浇嘴辅圈、浇嘴间通过凹槽实现结合,浇嘴辅圈、浇嘴通过楔形结构加强与筑炉材料的结合。该坩埚结构能平稳地将熔液引导到承接坩埚。相比于无浇嘴坩埚,能有效减少坩埚高度,进而改善热场,提高精炼效果,延长石墨坩埚使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种真空精炼炉用石墨坩埚
本技术属于高温冶炼设备领域,涉及石墨坩埚,具体涉及一种真空精炼炉用石墨樹祸。
技术介绍
真空精炼炉用石墨坩埚是精炼过程的容器,也是熔炼的发热源,在熔炼结束后,通过倾转运动转移液态金属。从杂质迁移过程来看,坩埚径高比越大,杂质元素更容易挥发;扩散通道越短,杂质元素扩散受到阻碍的可能性越小,更容易扩散出去;坩埚上下部温差越小,杂质元素越不容易沉积到坩埚壁上,同时也能减少由于膨胀系数不同而对坩埚造成的破坏。因此,实验中要求未被液态金属淹没的石墨部分尽可能短,以便提高提纯效果和延长坩埚使用寿命。对比现有的石墨坩埚,为了实现液态金属倾倒转移到承接容器中,一般是通过增加坩埚高度来实现,这从提纯效果上而言,是不具有可取性,同时从经济角度讲,大块的石墨比小块石墨花费更多。
技术实现思路
本技术提供一种真空精炼炉用石墨坩埚,所述石墨坩埚呈圆筒状,由熔炼坩埚、浇嘴辅圈及浇嘴构成。熔炼坩埚的底部内外拐角处为圆角,且顶部外侧有凹槽;坩埚底部内外拐角处为圆角,且顶部有凹槽。 本专利技术所述的真空精炼炉用石墨坩埚,其浇嘴辅圈为一个半圆形,底部有凹槽和楔形结构。 本专利技术所述的真空精炼炉用石墨坩埚,其坩埚浇嘴为一个半圆形,中间部位有一个伸出的导槽,底部有凹槽和楔形结构。 本专利技术设计的带浇嘴的真空精炼炉用石墨坩埚,该坩埚结构能精确平稳地将硅液引导到承接坩埚,并且相对于无浇嘴的坩埚,能有效减少坩埚高度节约成本,进而改善热场,提闻精炼效果,延长石墨樹祸使用寿命。 【附图说明】 图1为石墨坩埚侧视图,图1中:1为熔炼坩埚,2为浇嘴辅圈,3为浇嘴。 图2为坩埚浇嘴辅圈的侧视图与俯视图,图2中:4为凹槽,5为楔形结构。 图3为坩埚浇嘴的三视图。 【具体实施方式】 本技术的核心为提供一种新型的真空精炼炉用石墨坩埚。 为了使本领域的技术人员更好地理解本技术的技术方案,下面结合附图和具体实施例对本技术作进一步的详细说明。显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。 如图1所示,本技术的真空精炼炉用石墨坩埚包括三部分,底部的熔炼坩埚I,上部的浇嘴辅圈2和浇嘴3。如图2和图3所示,上下部之间通过凹槽4连接,且上部的浇嘴辅圈和浇嘴在与底部熔炼坩埚连接处有向外的楔形结构5,这样便于在筑炉过程中,通过石墨坩埚外部的打结料固定住浇嘴辅圈和浇嘴。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空精炼炉用石墨坩埚,其特征在于,所述石墨坩埚呈圆筒状,由熔炼坩埚、浇嘴辅圈及浇嘴构成;坩埚底部内外拐角处为圆角,且顶部有凹槽。

【技术特征摘要】
1.一种真空精炼炉用石墨坩埚,其特征在于,所述石墨坩埚呈圆筒状,由熔炼坩埚、浇嘴辅圈及浇嘴构成;坩埚底部内外拐角处为圆角,且顶部有凹槽。2.根据权利要求1所述的石墨坩埚,...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘仁源洪礼清陈烨坚
申请(专利权)人:东莞市长安东阳光铝业研发有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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