显影装置制造方法及图纸

一种显影装置包括：显影剂承载部件（套筒）；管控部分，该管控部分包括在与套筒表面最接近的位置处的边缘部分，或者在最接近位置处相对于与套筒表面接触的接触平面倾斜2度或更小角度的平坦部分；以及整流部分，该整流部分与边缘部分或平坦部分连接。整流部分具有凹形弯曲表面，使得在整流部分和接触平面之间的间隙的减小速率朝着显影剂进给方向的下游侧增大，并且通过除了边缘部分之外使得各自为0.2mm或更小的直线或者曲线平滑连接而形成，从而在整流部分和接触平面之间的间隙朝着显影剂进给方向的下游侧单调地减小。

【技术实现步骤摘要】
显彭装直
本专利技术涉及一种用于通过使得通过电子照相类型、静电记录类型等形成于图像承载部件上的静电潜像显影而形成可见图像的显影装置，特别是涉及一种包括涂覆定量部分的结构，该涂覆定量部分用于管控显影剂承载部件上承载的显影剂的涂覆量。
技术介绍
成像装置(例如复印机、打印机、传真机或者这些机器的多功能机器)通常包括显影装置，用于通过使得通过电子照相类型、静电记录类型等形成于作为图像承载部件的感光鼓上的静电潜像显影而形成可见图像。这样的显影装置在作为显影剂承载部件的显影套筒的表面处通过磁力来承载和进给显影剂。然后，在显影套筒表面上的显影剂的涂覆量(层厚)通过作为涂覆量管控部分(用于管控所承载的显影剂的涂覆量)的刮刀而均匀，使得实现显影剂稳定地供给至感光鼓(感光部件)。这里，在这种显影装置的情况下，由刮刀刮去的显影剂容易滞留在刮刀和显影套筒之间的间隙(下文中称为“SB间隙”)的上游侧。这样，由于显影剂的滞留，在显影装置中产生显影剂的不动层和流动层，且在这些层的边界处，在不动层侧的显影剂总是受到剪切力，因此容易由于热量而产生熔化和粘附。这样，当在SB间隙的上游侧产生粘附时，该粘附部分刮去在显影套筒的表面上的显影剂，因此不能充分获得通过刮刀而均匀化的效果，使得在一些情况下引起图像缺陷，例如通过显影而获得的图像密度不均匀和条纹化。因此，已经提出通过由显影剂滞留限制部件来填充空间(在该空间中，不容易产生在SB间隙的上游侧借助于磁力在显影套筒上承载显影剂的效果)而限制SB间隙的上游产生的多余滞留层的结构(日本特开专利申请(JP-A) 2005-215049)。不过，在JP-A2005-215049所述的结构中，连接显影剂滞留限制部件和刮刀的部分构成台阶部分。而且，通常，SB间隙经受以下调节，用于保证SB间隙具有例如大约±30-50 μ m的精度，以便获得最佳的显影密度。也就是，如图11中所示，使用这样的结构，以便调节刮刀73向显影套筒70的凸出量，并通过调节螺钉75而固定在作为基部的显影剂滞留限制部件76上。这里，为了相对于纵向方向使显影密度均匀化，相对于纵向方向在多个位置处测量SB间隙，类似地，多个调节螺钉75相对于纵向方向设置于多个位置处。这样，调节刮刀73的凸出量，因此如图12的(a)中所示，在显影剂滞留限制部件76和刮刀73之间的连接部分(缝隙)导致台阶部分。这里，通过提供显影剂滞留限制部件76，显影剂的主要流动能够认为是由显影套筒70的磁力来承载和进给的显影剂的流动(即在朝向显影套筒并且以图12的(a)中箭头Fm为边界的区域中的显影剂流动，下文中简称为主流(主要流动)Fm)。不过，一部分主流Fm在显影剂滞留限制部件76和刮刀73之间的台阶部分处被切割，因此导致产生阻碍主流Fm的另一流动Fs (下文中简称为侧流(侧流动)Fs)。如图12的(a)中所示，这种侧流Fs产生循环流动，该循环流动在刮刀73的上游侧形成滞留层，并在主流Fm和侧流Fs之间的边界处构成剪切流动。因此，主流Fm在SB间隙的上游侧受到侧流Fs的影响，因此承载在显影套筒70上的显影剂的涂覆量容易不稳定，因此在一些情况下不能获得稳定的显影密度。另一方面，为了通过主流Fm获得最大进给效果，考虑使得从显影剂滞留限制部件76至SB间隙G的流动路径形状形成为流线型形状，如图12的(b)中所示。不过，在采用这种结构的情况下，尽管几乎消除了作为循环流动的侧流Fs，但是主流Fm的影响过强，因此在显影套筒70上显影剂的涂覆量的变化相对于SB间隙G的变化将极其敏感。也就是，在几乎不产生侧流的情况下，需要严格控制部件精度和调节精度，这是获得合适的涂覆量所需要的。
技术实现思路
本专利技术考虑到上述情况。本专利技术的主要目的是提供一种显影装置和管控部件，它们能够实现这样的结构，通过该结构，能够在不需要较高部件精度和较高调节精度的情况下获得稳定的显影密度。根据本专利技术的一个方面，提供了一种显影装置，它包括:显影剂承载部件，用于承载和进给显影剂；管控部分，用于管控所述显影剂承载部件上承载的显影剂的涂覆量，其中，所述管控部分包括在与所述显影剂承载部件的表面最接近位置处的边缘部分，或者包括在所述最接近位置处相对于与显影剂承载部件的表面接触的接触平面倾斜2度或更小角度的平坦部分；以及调整部分，用于调整显影剂的流动，其中，相对于显影剂进给方向，所述调整部分在所述管控部分的上游侧与所述边缘部分或平坦部分的上游端连接；其中，在与所述显影剂承载部件的轴向方向垂直的截面中，当坐标设置成使得所述平坦部分的上游端或所述边缘部分为原点E，与所述接触平面平行且与显影剂进给方向相反的方向是X轴线的正侧，与X轴线垂直并且远离所述显影剂承载部件延伸的方向是Y轴线的正侧，且在所述管控部分和所述显影剂承载部件之间的最接近距离是G时，在X轴线的分量是3G或更小的区域中，所述调整部分具有凹形弯曲表面使得在所述调整部分和所述接触平面之间的间隙的减小速率朝着显影剂进给方向的下游侧增大，并且通过除了原点E之外使得各自为0.2mm或更小的直线或者各自为0.2_或更小的曲线平滑连接而形成，从而在所述调整部分和所述接触平面之间的间隙朝着显影剂进给方向的下游侧单调地减小。根据本专利技术的另一方面，提供了一种管控部件，设置成与用于承载显影剂的显影剂承载部件相对，用于管控要涂覆在显影剂承载部件上的显影剂，所述管控部件包括:管控部分，用于管控所述显影剂承载部件上承载的显影剂的涂覆量，其中，所述管控部分包括在与所述显影剂承载部件的表面最接近位置处的边缘部分，或者包括在所述最接近位置处相对于与显影剂承载部件的表面接触的接触平面倾斜2度或更小角度的平坦部分；以及调整部分，用于调整显影剂的流动，其中，相对于显影剂进给方向，所述调整部分在所述管控部分的上游侧与所述边缘部分或平坦部分的上游端连接；其中，在与所述显影剂承载部件的轴向方向垂直的截面中，当坐标设置成使得所述平坦部分的上游端或所述边缘部分为原点E，与所述接触平面平行且与显影剂进给方向相反的方向是X轴线的正侧，与X轴线垂直并且远离所述显影剂承载部件延伸的方向是Y轴线的正侧，且在所述管控部分和所述显影剂承载部件之间的最接近距离是G时，在X轴线的分量是3G或更小的区域中，所述调整部分具有凹形弯曲表面使得在所述调整部分和所述接触平面之间的间隙的减小速率朝着显影剂进给方向的下游侧增大，并且通过除了原点E之外使得各自为0.2_或更小的直线或者各自为0.2mm或更小的曲线平滑连接而形成，从而在所述调整部分和所述接触平面之间的间隙朝着显影剂进给方向的下游侧单调地减小。通过下面参考附图对本专利技术优选实施例的说明，将更清楚本专利技术的这些和其它目的、特征和优点。【附图说明】图1是包括根据本专利技术第一实施例的显影装置的成像装置的示意性剖视图。图2是第一实施例中的显影装置的剖视图。图3是第一实施例中的显影装置的透视图。在图4中，(a)是表示第一实施例中在涂覆量管控表面、显影剂整流(rectifying)表面和显影套筒表面之间的关系的示意图，而(b)是表示第一实施例中显影剂的流动的示意图。图5是类似于图4的示意图，用于表示第一实施例中显影剂整流表面的多个区段和形状。图6是表示在第一实施例(EMB.1)和在对比实例(本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显影装置，包括：显影剂承载部件，用于承载和进给显影剂；管控部分，用于管控所述显影剂承载部件上承载的显影剂的涂覆量，其中，所述管控部分包括在与所述显影剂承载部件的表面最接近位置处的边缘部分，或者包括在所述最接近位置处相对于与显影剂承载部件的表面接触的接触平面倾斜2度或更小角度的平坦部分；以及整流部分，用于整流显影剂的流动，其中，相对于显影剂进给方向，所述整流部分在所述管控部分的上游侧与所述边缘部分或平坦部分的上游端连接；其中，在与所述显影剂承载部件的轴向方向垂直的截面中，当坐标设置成使得所述平坦部分的上游端或所述边缘部分为原点E，与所述接触平面平行且与显影剂进给方向相反的方向是X轴线的正侧，与X轴线垂直并且远离所述显影剂承载部件延伸的方向是Y轴线的正侧，且在所述管控部分和所述显影剂承载部件之间的最接近距离是G时，在X轴线的分量是3G或更小的区域中，所述整流部分具有凹形弯曲表面使得在所述整流部分和所述接触平面之间的间隙的减小速率朝着显影剂进给方向的下游侧增大，并且通过除了原点E之外使得各自为0.2mm或更小的直线或者各自为0.2mm或更小的曲线平滑连接而形成，从而在所述整流部分和所述接触平面之间的间隙朝着显影剂进给方向的下游侧单调地减小。...

【技术特征摘要】
2013.03.05 JP 2013-0427031.一种显影装置，包括: 显影剂承载部件，用于承载和进给显影剂； 管控部分，用于管控所述显影剂承载部件上承载的显影剂的涂覆量，其中，所述管控部分包括在与所述显影剂承载部件的表面最接近位置处的边缘部分，或者包括在所述最接近位置处相对于与显影剂承载部件的表面接触的接触平面倾斜2度或更小角度的平坦部分；以及 整流部分，用于整流显影剂的流动，其中，相对于显影剂进给方向，所述整流部分在所述管控部分的上游侧与所述边缘部分或平坦部分的上游端连接； 其中，在与所述显影剂承载部件的轴向方向垂直的截面中，当坐标设置成使得所述平坦部分的上游端或所述边缘部分为原点E，与所述接触平面平行且与显影剂进给方向相反的方向是X轴线的正侧，与X轴线垂直并且远离所述显影剂承载部件延伸的方向是Y轴线的正侧，且在所述管控部分和所述显影剂承载部件之间的最接近距离是G时， 在X轴线的分量是3G或更小的区域中，所述整流部分具有凹形弯曲表面使得在所述整流部分和所述接触平面之间的间隙的减小速率朝着显影剂进给方向的下游侧增大，并且通过除了原点E之外使得各自为0.2mm或更小的直线或者各自为0.2mm或更小的曲线平滑连接而形成，从而在所述整流部分和所述接触平面之间的间隙朝着显影剂进给方向的下游侧单调地减小。2.根据权利要求1所述的显影装置，其中:在X轴线的分量为3G或更小的区域中，所述整流部分的至少50%具有凹形弯曲表面。3.根据权利要求1所述的显影装置，其中:所述整流部分形成为在原点E处接触X轴线。4.根据权利要求1所述的显影装置，其中:在X轴线的分量为1.5G或更小的区域中，所述整流部分具有这样的区域，其中，在所述整流部分和所述接触平面之间的间隙的减小速率朝着显影剂进给方向的下游侧减小。5.根据权利要求1所述的显影装置，其中:在X轴线和Y轴线中的每个的分量为5G或更小的区域中，所述整流部分的至少70%具有凹形弯曲表面。6.根据权利要求1所述的显影装置，其中:当使得减小速率朝着显影剂进给方向的下游侧增大并且作为内接于矩形的两个相邻侧边的最大椭圆的弯曲表面为T35，且这两个相邻侧边包括沿X轴线的正方向离原点E的距离为3G的侧边以及沿Y轴线的正方向离原点E的距离为5G的侧边时，以及当使得减小速率朝着显影剂进给方向的下游侧增大并且作为内接于矩形的两个相邻侧边的最大椭圆的弯曲表面为T53且这两个相邻侧边包括沿X轴线的正方向离原点E的距离为5G的侧边以及沿Y轴线的正方向离原点E的距离为3G的侧边时，所述整流部分在X轴线的分量为3G或更小的区域中具有凹形弯曲表面，该凹形弯曲表面的形状使得凹形弯曲表面落在从由弯曲表面T35和弯曲表面T53确定的空间沿X轴线或Y轴线滑动的空间内。7.根据权利要求1所述的显影装置，其中:倾斜角度为I度或更小。8.根据权利要求1所述的显影装置，其中:所述整流部分和所述管控部分通过树脂材...

【专利技术属性】
技术研发人员：安本武士，金井大，渡边康一，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP