【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种用于半导体引线框架表面处理的表面处理床，包括支架和床体，床体设置在支架上，其特征在于：在床体上从左到右依次设置为电解除油区、三级水洗区、酸活化区、四级水洗区、镀镍区、三级水洗区、镀碱铜区、三级水洗区、镀酸铜区、三级水洗区、预镀银区、三级水洗区、镀银区、三级水洗区、退银区、三级水洗区、镀保护液区、三级水洗区和烘干区。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：黄斌，任俊，
申请(专利权)人：四川金湾电子有限责任公司，
类型：新型
国别省市：四川;51
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