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用于烧制釉面陶瓷茶具的底垫制造技术

技术编号:10363594 阅读:126 留言:0更新日期:2014-08-27 19:35
一种用于烧制釉面陶瓷茶具的底垫,其特征在于包括底盘和凸起,凸起位于底盘中心位置,凸起上端中心位置设有凹陷,凸起上面为环形支撑面,环形支撑面支撑在茶具底部凹陷面,环形支撑外缘位于茶具底部凹陷内,底盘和凸起均为陶瓷;本实用新型专利技术通过将要烧制的表面上釉料的茶具底部凹陷处放置在凸起的环形支撑面上,茶具底部凹陷周围的向下凸起处于悬空状态,这样釉料不会与凸起接触,茶具和凸起就不会烧结在一起,使烧制出来的茶具底部无需打磨,底部周围光滑美观。

【技术实现步骤摘要】
用于烧制釉面陶瓷茶具的底垫
本技术涉及一种釉面茶具烧制工具,特别是涉及一种用于烧制釉面陶瓷茶具的底垫。
技术介绍
我国是茶文化的发源地,茶文化的传承与发展离不开茶具,随着文化、科技以及经济的发展,人们在饮茶的过程中更加注重茶具的品质,虽然茶具种类越来越多,但受传统文化的影响,目前茶具仍以陶瓷制品为主,这类陶制品仍沿袭传统制作方法,茶具在制作过程中仍有不足之处,茶具上釉水后都要放置在铺有特殊隔离物的平板装置上再进窑烧制,这样高温烧制后的茶具底部凹陷周围的向下凸起虽不会和平板装置粘接在一起,但还是会与隔离物发生粘连,为了美观烧制完后一般都需要人工打磨,打磨后的茶具底部周围一般都很粗糙,无釉水层,不光滑,从而影响到茶具的品质,仍有待于技术改进加以完善。
技术实现思路
为了解决上述问题,本技术提供了一种用于烧制釉面陶瓷茶具的底垫。本技术采用的技术方案为:一种用于烧制釉面陶瓷茶具的底垫,其特征在于包括底盘和凸起,凸起位于底盘中心位置,凸起上端中心位置设有凹陷,凸起上面为环形支撑面,环形支撑面支撑在茶具底部凹陷面,环形支撑外缘位于茶具底部凹陷内,底盘和凸起均为陶瓷。进一步的,所述底盘和凸起为一体式连接。进一步的,所述凸起的环形支撑面为多边环形或圆环形。进一步的,所述底盘和凸起为分体式连接。进一步的,所述凸起为三个其环形支撑面分别为圆环形、四边环形和六边环形,三个凸起择一与底盘配合连接。进一步的,所述环形支撑面上设有三个以上周向均匀分布的小孔,小孔内配有陶制支撑柱。进一步的,所述环形支撑面上设有径向凹槽。本技术通过将要烧制的表面上釉料的茶具底部凹陷处放置在凸起的环形支撑面上,茶具底部凹陷周围的向下凸起处于悬空状态,这样釉料不会与凸起接触,茶具和凸起就不会烧结在一起,使烧制出来的茶具底部无需打磨,底部周围光滑美观。【附图说明】图1为本技术实施例一结构示意图。图2为本技术实施例二结构示意图。图中标号名称:1底盘;2凸起;3环形支撑面。【具体实施方式】本技术实施例一如图1所示,该用于烧制釉面陶瓷茶具的底垫设有底盘和凸起,凸起位于底盘中心位置,底盘和凸起为一体式连接,凸起上端中心位置设有凹陷,凸起上面为环形支撑面,环形支撑面为圆环形,环形支撑面支撑在茶具底部凹陷面,环形支撑外缘位于茶具底部凹陷内,底盘和凸起均为陶瓷;使用时将要烧制的茶具底部打上一层蜡用于防止沾上釉料,再上表面釉料后将茶具底部凹陷处放置在凸起的环形支撑面上放入窑内烧制,茶具底部凹陷周围的向下凸起处于悬空状态,这样釉料不会与凸起接触,茶具和凸起就不会烧结在一起,使烧制出来的茶具底部无需打磨,底部周围光滑美观,本底垫可重复使用减小浪费,而且釉料流入底部模糊印记。本技术实施例二如图2所示,该用于烧制釉面陶瓷茶具底盘和凸起为分体式连接,凸起插在底盘上,凸起为三个其环形支撑面分别为圆环形、四边环形和六边环形,使用时根据窑烧制茶具底部形状选择,三个凸起择一与底盘配合连接,可以适用于多种茶具的烧制,具有实施例一同样效果。本技术实施时凸起的环形支撑面还可为其他多边环形,大小尺寸多样设置,分体式结构凸起数量可为更多,选择余地更大;还可在环形支撑面上设三个以上周向均匀分布的小孔,小孔内配有陶制支撑柱,支撑柱高矮可调,用于支撑底面不平的茶具;环形支撑面上还可设径向凹槽,用于气流流通导热;环形支撑面可为打磨面,使其更粗糙,使茶具放置更稳定。综上所述仅为本技术较佳实施例,凡依本申请所做的等效修饰和现有技术添加均视为本技术技术范畴。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于烧制釉面陶瓷茶具的底垫,其特征在于包括底盘和凸起,凸起位于底盘中心位置,凸起上端中心位置设有凹陷,凸起上面为环形支撑面,环形支撑面支撑在茶具底部凹陷面,环形支撑外缘位于茶具底部凹陷内,底盘和凸起均为陶瓷。

【技术特征摘要】
1.一种用于烧制釉面陶瓷茶具的底垫,其特征在于包括底盘和凸起,凸起位于底盘中心位置,凸起上端中心位置设有凹陷,凸起上面为环形支撑面,环形支撑面支撑在茶具底部凹陷面,环形支撑外缘位于茶具底部凹陷内,底盘和凸起均为陶瓷。2.根据权利要求1所述的用于烧制釉面陶瓷茶具的底垫,其特征在于所述底盘和凸起为一体式连接。3.根据权利要求1或2所述的用于烧制釉面陶瓷茶具的底垫,其特征在于所述凸起的环形支撑面为多边环形或圆环形。4.根据权利要求1或2所述的用于...

【专利技术属性】
技术研发人员:李淑平
申请(专利权)人:李淑平
类型:新型
国别省市:福建;35

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