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一种用于烧制釉面陶瓷茶具的底垫，其特征在于包括底盘和凸起，凸起位于底盘中心位置，凸起上端中心位置设有凹陷，凸起上面为环形支撑面，环形支撑面支撑在茶具底部凹陷面，环形支撑外缘位于茶具底部凹陷内，底盘和凸起均为陶瓷；本实用新型通过将要烧制的表面...
该专利属于李淑平所有，仅供学习研究参考，未经过李淑平授权不得商用。

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