【技术实现步骤摘要】
带有隔离阀的半导体基片生产系统
本技术涉及一种半导体基片生产系统，特别是涉及一种带有隔离阀的半导体基片生产系统。
技术介绍
目前，半导体工业界进入了 450mm时代，对于这种大直径的基片生产，为了便于控制基片的工艺特性和基片表面的工艺均一性，普遍采用了单基片处理室。单基片处理室通常包括反应室、传送室和操作室等结构。为了提高单基片处理室的空间利用率，通常在传送室周围环绕设置两个或两个以上的操作室。如图1中所示，反应室I的周围有若干操作室2，反应室I之间通过传送室3相连。多个反应室1、操作室2、传送室3相连后，构成了陈列式半导体基片生成系统。也有的生产商为了提高生产效率和扩展性，将多个反应室采用线性队列排布，将操作室排在反应室队列两侧。但无论是图1所示的系统还是线性排布的系统，都存在共同的问题:由于所有的反应室和操作室互相联通，且反应室和操作室内通常需要真空、低压或者无尘等环境，即使只有一个操作室或反应室发生故障，就需要停掉整个系统，经过复杂的工序才能拆除故障反应室或者操作室，并换上新的。这大大增加了维修维护的成本。所以急需要对现有的半导体基片制造系统做出改进...
【技术保护点】
一种带有隔离阀的半导体基片生产系统，其特征在于，包括： 操作室； 反应室，通过隔离结构与所述操作室连通； 其中，所述隔离结构包括隔离阀腔体，所述隔离阀腔体具有用于与所述操作室和所述反应室连接的法兰，所述隔离阀腔体内安装有隔离阀，所述隔离阀可以在打开、关闭位置之间移动。
【技术特征摘要】
1.一种带有隔离阀的半导体基片生产系统，其特征在于，包括: 操作室； 反应室，通过隔离结构与所述操作室连通； 其中，所述隔离结构包括隔离阀腔体，所述隔离阀腔体具有用于与所述操作室和所述反应室连接的法兰，所述隔离阀腔体内安装有隔离阀，所述隔离阀可以在打开、关闭位置之间移动。2.根据权利要求1所述的带有隔离阀的半导体基片生产系统，其特征在于，所述隔离阀腔体与所述反应室及所述操作室之间还分别设置有气阀。3.根据权利要求1所述的带有隔离阀的半导体基片生产系统，其特征在于，包括: 至少两个所述操作室，每个所述操作室分别通过所述隔离结构与至少一个所述反应室连通； 所述至少两个操作室之间包括传送室，所述传送室与所述操作室通过所述隔离结构连通。4.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员：三重野文健，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造北京有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11
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