斜入射反射型点衍射板及其干涉测量方法技术

本发明专利技术公开了一种斜入射反射型点衍射板及其干涉测量方法。该点衍射板的基底采用折射率均匀的光学玻璃，且该光学玻璃为平行平板结构；所述基底的入射面上部镀有增透膜、下部镀有介质膜，基底的反射面上部镀有高反膜、下部镀有增透膜；所述入射面下部的介质膜内设有一个椭圆孔；所述基底反射面上部的高反膜在入射面上的投影与入射面下部的介质膜部分重叠，使反射面上部的高反膜只将入射光反射一次。干涉测量方法为：(1)调整点衍射板的位置，(2)用探测器采集载频干涉图，(3)对干涉图进行傅里叶变换处理恢复波前相位，(4)对恢复的相位进行Zernike拟合，(5)系统误差标定。本发明专利技术对激光瞬态波前检测的精度高、成本低，且测试过程简单方便。

【技术实现步骤摘要】
斜入射反射型点衍射板及其干涉测量方法
本专利技术属于光干涉计量
，特别是一种斜入射反射型点衍射板及其干涉测量方法。
技术介绍
瞬态激光波前检测在激光核聚变、天文观测、现代医学技术中发挥了巨大的作用，如何测量瞬态波前以及提高波前测量精度一直是学术界的热点问题。目前主要采用干涉仪测量激光瞬态波前，所不同的是干涉测量的手段不同。同步移项点衍射干涉是较常用的一种干涉测量方法，测量过程为：将激光通过会聚透镜聚焦到偏振式点衍射板上，一部分光通过极小孔径衍射形成近乎理想的球面波作为测试基准波前，另一部分光直接透过点衍射板作为测试光，点衍射板出射的一对相干光束由二维正交光栅衍射，经空间滤波器形成四对相同的相干光束，利用四分之一波片与偏振片阵列组件对上述相干光束同步移相，形成四幅位相依次相差π/2的移相干涉图，通过相应的移向算法即可得到瞬态波前。该方法摆脱了参考面精度的限制，能够达到极高的检测精度，但是偏振式点衍射板的制作极为困难，系统结构复杂，导致该方法成本过高，不能得到普遍应用。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种精度高、成本低的斜入射反射型点衍射板及其干涉测量方法，测试过程简单方便且易本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种斜入射反射型点衍射板，其特征在于，该点衍射板的基底采用折射率均匀的光学玻璃，且该光学玻璃为厚度为h的平行平板结构；所述基底的入射面上部镀有透过率为t1的增透膜、下部镀有透过率为r1的介质膜，基底的反射面上部镀有反射率为r2的高反膜、下部镀有透过率为t2的增透膜；所述入射面下部的介质膜内设有一个椭圆孔，该椭圆孔的中心到入射面上部增透膜的距离为d；所述基底反射面上部的高反膜在入射面上的投影与入射面下部的介质膜部分重叠，使反射面上部的高反膜只将入射光反射一次。

【技术特征摘要】
1.一种斜入射反射型点衍射板，其特征在于，该点衍射板的基底采用折射率均匀的光学玻璃，且该光学玻璃为厚度为h的平行平板结构；所述基底的入射面上部镀有透过率为t1的增透膜、下部镀有透过率为r1的介质膜，基底的反射面上部镀有反射率为r2的高反膜、下部镀有透过率为t2的增透膜；所述入射面下部的介质膜内设有一个椭圆孔，该椭圆孔的中心到入射面上部增透膜的距离为d；所述基底反射面上部的高反膜在入射面上的投影与入射面下部的介质膜部分重叠，使反射面上部的高反膜只将入射光反射一次；所述光学玻璃为厚度为h的平行平板结构，其中h如下式所示：其中，N为探测器横向像素数，λ为入射光的中心波长，F为会聚光束的F数，n为点衍射板基底的折射率，θ为点衍射板的工作角度，即会聚光束的光轴与点衍射板入射面法线的夹角。2.根据权利要求1所述的斜入射反射型点衍射板，其特征在于，所述入射面上部增透膜的透过率t1≥50％、下部介质膜的透过率r1≤0.1％，所述反射面上部高反膜的反射率r2≥90％、下部增透膜的透过率t2≥90％。3.根据权利要求1所述的斜入射反射型点衍射板，其特征在于，所述椭圆孔的长轴与短轴之比为且所述椭圆孔的短轴长b满足下式：b＜1.22λF。4.根据权利要求1所述的斜入射反射型点衍射板，其特征在于，所述椭圆孔的中心到入射面上半部分增透膜的距离d满足下式：5.一种基于斜入射反射型点衍射板的干涉测量方法，其特征在于，采用权利要求1所述的斜入射反射型点衍射板进行干涉测量，步骤如下：(1)调整点衍射板的位置，使会聚光束焦面位于点衍射板的入射面与反射面之间，调整点衍射板入射面法线与会聚光束光轴之间的夹角为θ，使得会聚光束经反射面上半部分的高反膜进行反射，并且产生的反射光能够经过椭圆孔衍射，同时由入射面下半部分的介质膜产生的反射光能够经过反射面下半部分的增透膜透射出去；(2)用探测器采集载频干涉图，通过成像透镜将光束出瞳处的波前干涉图成像到探测器靶面，得...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈磊，朱文华，韩志刚，李金鹏，郑东晖，李建欣，乌兰图雅，
申请(专利权)人：南京理工大学，
类型：发明
国别省市：江苏;32