【技术实现步骤摘要】
旋转编码器
本技术涉及一种旋转编码器。
技术介绍
旋转编码器是用于测量转速的装置,光电式旋转编码器通过光电转换,可将输出轴的角位移、角速度等机械量转换成相应的电脉冲以数字量输出。主要用于工业自动化中的高精度位移、角度等测量,使用领域非常广泛。近年来,对于旋转编码器的特性和精度的要求越来越高。在旋转编码器中,从作为光源的LED发出的光不可能是完美的平行光,这是由于从LED发光晶圆发出的光不能被视作点光源,因此经过球面或非球面镜头汇聚之后不能形成理想的平行光,因此呈现出一个以发光晶圆为中心向四周扩散的光源。扩散了的光线经过码盘的透光部到达受光元件,由于光线是倾斜的,所以光不仅到达应到达的各相应受光区域,同时也会因为反射、折射或者直接到达其他相的受光区域,从而对其他受光区域产生了干扰,我们称这种不应受到的干扰光线为“杂光”。杂光的存在可能造成编码器在工作过程中,信号的精度和周期产生波动,影响客户的使用和控制精度,甚至可能产生误动作,造成系统的失效。为了避免产生杂光,在专利文献1(CN201210506210.9)中公开了一种旋转编码器。图5是是现有的旋转编码器100的光线示意图。如图5所示,旋转编码器100包括光源、光栅区域位于光源的下方的旋转码盘102以及固定码盘103、受光元件(光电二极管)104。旋转码盘102和固定码盘103的光栅区域分别包括沿着径向交替配置的多个透光部和遮光部,并且旋转码盘102上的多个遮光部分别与固定码盘103上的多个遮光部彼此相对应。在俯视观察时,旋转码盘102的遮光部的径向上的靠光轴中心线的一侧比固定码盘103的对应的遮光 ...
【技术保护点】
一种旋转编码器,具有:光源,第一码盘,形成为圆盘状,位于所述光源的下方,且上表面垂直于所述光源的光轴中心线,在整周上形成有第一光栅形成区域,并且所述第一光栅形成区域位于所述光源的透光区域的下方,所述第一光栅区域包括沿所述第一码盘的径向交替配置的多个第一透光部和多个第一遮光部,第二码盘,与所述第一码盘平行,在与所述第一光栅形成区域相对应的位置形成有第二光栅形成区域,所述第二光栅形成区域包括沿所述径向交替配置的多个第二透光部和多个第二遮光部,多个所述第一透光部和多个所述第二透光部分别彼此相对应,且多个所述第一遮光部和多个所述第二遮光部分别彼此相对应,所述旋转编码器的特征在于,所述第一遮光部和所述第二遮光部中的一种遮光部的径向上的一端部到所述光轴中心线的距离,小于对应的另一种遮光部的径向上的一端部到所述光轴中心线的距离,所述一种遮光部的径向上的另一端部到所述光轴中心线的距离,小于对应的所述另一种遮光部的径向上的另一端部到所述光轴中心线的距离。
【技术特征摘要】
1.一种旋转编码器, 具有: 光源, 第一码盘,形成为圆盘状,位于所述光源的下方,且上表面垂直于所述光源的光轴中心线,在整周上形成有第一光栅形成区域,并且所述第一光栅形成区域位于所述光源的透光区域的下方,所述第一光栅区域包括沿所述第一码盘的径向交替配置的多个第一透光部和多个第一遮光部, 第二码盘,与所述第一码盘平行,在与所述第一光栅形成区域相对应的位置形成有第二光栅形成区域,所述第二光栅形成区域包括沿所述径向交替配置的多个第二透光部和多个第二遮光部, 多个所述第一透光部和多个所述第二透光部分别彼此相对应,且多个所述第一遮光部和多个所述第二遮光部分别彼此相对应, 所述旋转编码器的特征在于, 所述第一遮光部和所述第二遮光部中的一种遮光部的径向上的一端部到所述光轴中心线的距离,小于对应的另一种遮光部的径向上的一端部到所述光轴中心线的距离, 所述一种遮光部的径向上的另一端部到所述光轴中心线的距离,小于对应的所述另一种遮光部的径向上的另一端部到所述光轴中心线的距离。2.如权利要求1所述的旋转编码器,其特征在于, 多个所述第一透光部中,靠近所述光轴中心线的所述第一透光部在径向上的长度小于远离所述光轴中心线的所述第一透光部在径向上的长度, 多个所述第二透光部中,靠近所述光轴中心线的所述第二透光部在径向上的长度小于远离所述光轴中心线的所述第二透光部在径向上的长度。3.如权利要求1所述的旋转编码器,其特征在于, 所述第二码盘位于所述第一码盘的下方,所述一种遮光部为所述第一遮光部,所述另一种遮光部为所述第二遮光部。4.如权利要求2所述的旋转编码器,其特征在于, 所述第二码盘位于所述第一码盘的下方,所述一种遮光部为所述第一遮光部,所述另一种遮光部为所述第二遮光部。5.如权利要求3所述的旋转编码器,其特征在于, 多个所述第一遮光部的径向上的长度分别小于等于对应的所述第二遮光部的径向上的长度。6.如权利要求4所述的旋转编码器,其特征在于, 多个所述第一遮光部的径向上的长度分别小于等于对应的所述第二遮光部的径向上的长度。7.如权利要求5所述的旋转编码器,其特征在于, 多个所述第一遮光部的径向上的长度分别等于对应的所述第二遮光部的径向上...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈伟,柳秋圆,张少杰,
申请(专利权)人:欧姆龙上海有限公司,
类型:新型
国别省市:上海;31
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