本发明专利技术公开了一种热敏阴图记录成像元件和该成像元件作为在印刷机上显像的平版印
刷版前体，该热敏阴图成像元件由亲水聚合物颗粒与疏水聚合物微粒组成，亲水聚合物颗
粒主要由亲水性单体自由基聚合生成，拒绝墨水或油；而疏水聚合物颗粒主要由疏水性单
体自由基聚合生成，接受墨水或油。该热敏阴图成像元件还可能包含一种能够将辐射转换
成热量的物质，该成像元件可涂布到基材上形成一层辐射敏感的材料，从而产生一种平版
印刷版前体，同时也可以在制版机上生成图像或直接在印刷机的圆柱型滚筒上生成图像。
本发明专利技术所述成像元件及其作为平版印刷版前体，不但能够长程印刷和耐化学物质，且还能
够适应印刷机成像技术的迅速发展，包括喷涂技术。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种印刷成像元件及印刷版前体，具体而言，本专利技术涉及一种热敏阴图记 录成像元件和该成像元件作为在印刷机上显像的平版印刷版前体。
技术介绍
平版或胶印印刷是在一个特意准备的平面表面上印刷的过程。特意准备的平面表面的 一些地区能够接受胶印油墨或油，而其他地区被水湿润后，是不会接受墨水或油。接受墨 水或油的区域形成印刷图像区域，而拒绝墨水或油的区域形成背景区。光敏组分已被广泛运用在诸如印刷电路板和胶印制版。通常这些组分被覆盖在基板 上，干燥和/或固化，形成一个记录成像元件。然后经过辐射或粒子束的成像照射后，被照 射的区域和没有被照射的区域可以有不同的属性。在某些情况下，照射会直接导致辐射地 区被除去或烧蚀，在其他情况下辐射地区的化学行为会发生改变。其中一个例子就是辐射 地区比没有被照射的区域可以或多或少更易溶于合适的液体。在另一些情况下，辐射地区 和没有被照射的区域对某些液体例如油墨、油、水或润版剂的亲和力会不同。平版或胶印印刷技术是目前最常用的印刷形式。胶印印刷涉及在一个适合平面上生成 印刷和非印刷区。通过照射形成的印刷和非印刷区对于印刷油墨或水有不同的亲和力。当 没有被照射的区域的涂层最终形成了印刷区，前体则被称为"阳图版"。反过来说，当印 刷区由上述照射或粒子束造成，前体则被称为"阴图版"。在常规生产平版印刷版或印刷电路板的工艺中，原像胶片被放在成像元件层上，然后 紫外线和/或可见光通过原像胶片辐照成像元件层。这种工作方法的缺点是累赘和劳动密 集。在过去IO几年中，基于计算机数码的激光直接成像方法已被广泛开发和应用在生产平 版印刷版或印刷电路板，这样可以减少使用胶巻这个中间处理过程。激光直接成像方法提 供许多优势，例如印刷版质量好，成像速度快，产量髙，费用低，以及其他公认的好处。在热敏成像过程中，成像可以通过直接加热媒介的方式进行，例如使用热探头的方 法。比较典型的方法是一种非接触式的方法，例如通过光源成像的方法很受关注。在这种 方法中，光首先被吸收，然后转变成热。而由此产生的热量，被用来驱动有关热敏成像过 程。原则上，任何波长的光波都可以使用这种方法制作平版印刷版。最近的YAG激光器，或者更近的能产生800-卯0纳米红外线辐射波长光的大功率第三 组至第五组激光二极管和二极管列阵已经被广泛应用。使用这些红外线波长的光，可以消除在暗室成像的麻烦。即使红外线波长的光被用于成像过程，光能仍然要被转化为热量， 以驱动热过程。在传统的阳图版中，记录成像元件的单元层里包含有重氮醌化合物。在重氮醌化合物 的作用下，碱溶性树脂在碱性显影液中的溶解度受到抑制。另一方面，在紫外线的照射 下，重氮醌化合物发生光化学分解形成茚羧酸(indenecarboxylic酸)，而上述溶解度抑制 效应将丧失，感光层在碱性显影液中的溶解度会改善。含有重氮醌化合物的阳图版成像机 理就是成像元件的单元层中爆光部分与非爆光部分因化学变化而在碱性显影液中的溶解度 不同。包含有碱溶性树脂和重氮醌化合物的记录成像元件的单元层被覆盖在基板上，经过干 燥后制成的平版印刷版被称为阳图版。紫外线透过银盐原像胶片照射在阳图版上，然后由 碱溶液显影出阳图平版印刷版。然而，传统阳图平版印刷版的成像元件单元层内的重氮醌 化合物给它造成一个缺点，因为它对紫外光的敏感性，它必须在黄灯下处理。此外，其它 问题包括贮存稳定性，及较低的印刷质量。因此，光敏印刷版正在被热敏平版印刷版取 代。在生产阴图平版印刷版过程中，亲水支撑被包覆一层阴图记录成像元件薄膜。此用途 的典型涂料包括含有重氮化合物的光敏感聚合物层，铬酸盐预敏亲水胶体和大量的各种人 造光聚合物。尤其重氮预敏化系统是使用ft为广泛。对这些光敏感层进行辐射成像，受辐 照区域不易溶解在显影液里，而未受辐照区域仍然易溶于显影液里。这种版在一个合适的 显影液里可以除去未受辐照领域的涂层而生成一 块平版印刷版。在生产阴图平版印刷版过程中基本上有两种成像机制。 一种是基于记录成像元件的光 化学过程。光化学过程使得记录成像元件的被照射区域硬化。另一个更近的作法是利用热 过程。在这一办法中，覆盖在基版上的记录成像元件涂层凭借一个热过程使被照射区域硬 化。这种办法包括热驱动聚合或交联，聚合物微粒的熔化和聚集。其中一个最受欢迎的热机制方式获得阴图平版印刷版是使用一个催化反应。 一个合适 的光酸发生剂被添加在覆盖在基版上的记录成像元件涂层中。其他各种添加剂和试剂，如 填料，表面活性剂，稳定剂和着色剂，在需要的情况下也可以被加入。当印刷版被照射 时，根据所产生的酸的分布，产生一个清晰的图像，随后在显影前有一个被称为"预热" 加热步骤，酸引起交联，在印刷版上形成碱不溶区域。当与一个合适的碱性显影液接触 时，非照射区易溶于显影液中被除去。当安装在一个合适的印刷机上，该印刷版首先与润 版液接触，而润版液选择性地润湿亲水基版，而使己经交联的疏水区域接受油墨。由于"预热"过程容易产生许多问题，人们提出许多改进办法，其中之一涉及免除预 热步骤。"无预热"红外线敏感阴图印刷版就是利用乙烯基不饱和单体自由基引发聚合。覆盖在基版上辐射敏感层是一种红外光敏感混合物，由一个自由基聚合系统组成，至 少含有乙烯基不饱和单体和低聚物、引发体系、包括至少有一个化合物能够吸收红外辐射，和至少有一化合物能够产生自由基。在受到辐射时红外线吸收剂吸收红外线辐射，转 移能源(热或光子)到引发剂，然后形成自由基，进而引发乙烯基不饱和单体的聚合。虽然根据以上原则已经提出了一些"无预热"红外线敏感阴图印刷版系统，但是这些 系统往往具有显影宽度不足，耐印力低，影像稳定性差等缺点。对一个阴图版来说，显影 宽度是指在何种程度下版的非辐射部位可以被固定活性的显影液完全清除，但辐射部位却 完全不受影响。耐印力是指这一印刷版在使用过程中可以达到的印数。显然市场上对宽显 影度长耐印力的"无预热"红外线敏感阴图印刷版系统有着强烈地需求。日本专利60-61 752透露了一个取消原像胶片，将数据直接从计算机转移到印刷版的尝 试。由于光敏涂层对激光不够敏感，专利提出在记录成像元件涂层上面再涂一层卣化银。 卤化银层被直接暴露在受计算机控制的激光下，随后，对卤化银层进行显影，在记录成像 元件涂层上面产生一个银色的图像。该银色图像在对记录成像元件涂层进行整体曝光时起 着一个面具作用。经过整体曝光后，银色的图像被除去，记录成像元件涂层被显影。这种 方法的不利之处是太复杂以及需要相关的显影液体。另外一个尝试是将一个金属层或一个含炭黑层覆盖在记录成像元件涂层上，然后用激 光烧蚀金属层或含炭黑层，在记录成像元件涂层上面产生一个面具图像。透过面具图像， 记录成像元件涂层被完全暴露在紫外光下，除去面具图像，记录成像元件涂层被显影取得 印刷版。这种方法被披露在英国专利1 492 070，但是这种方法仍然具有在对记录成像元件 涂层显影前需除去面具图像的累赘。美国专利5340699描述了一个阴图红外激光成像元件。红外敏感层由可溶性酚醛树 脂，热固性酚醛树脂、布朗斯台德酸和红外吸收物质组成。但是用这种方法制备的印刷版 的性能不是很好。欧洲专利784233披露阴图化学放大型光敏复合物由可溶性酚醛树脂或聚乙烯本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种平版热敏阴图记录成像元件，其特征在于由亲水聚合物颗粒与疏水聚合物微粒组成；所述亲水聚合物颗粒主要由亲水性单体自由基聚合生成，拒绝墨水或油；而疏水聚合物颗粒主要由疏水性单体自由基聚合生成，接受墨水或油。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：于义松，黎仕友，何洪，王利军，
申请(专利权)人：于义松，黎仕友，何洪，王利军，
类型：发明
国别省市：90
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