【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于电子信息材料与元器件领域,具体涉及一种新型氧化锌压控薄膜变容管的制备方法。
技术介绍
微波介质材料作为新型功能电子陶瓷,由于其在微波功能器件中的应用受到越来越多的关注。与块体材料相比,薄膜器件工作电压低、响应速度快、能够与微带线电路技术和半导体技术集成。微波电子系统正向宽频带、高容量、体积更加小型化的方向发展,因此对集成化、高性能的微波元器件的需求日益迫切。介电可调材料其介电常数可通过外加电场来调节,利用这种特性可以调制微波信号的频率、相位、幅度,制成压控微波器件,使得它在移动通信、卫星系统、雷达系统等军事和民用电子系统中有着广阔的应用前景。ZnO材料易得、价廉,成为最有开发潜力的薄膜材料之一,我们以Pt-Si为衬底,采用磁控溅射法沉积ZnO薄膜,所得到的新型ZnO可调谐薄膜变容管的调谐率达到70%以上,驱动电压低,因此,ZnO薄膜在微波通信元器件中具有良好的应用前景。
技术实现思路
本专利技术的目的,是采用价廉、易得的ZnO材料,利用磁控溅射沉积技术,提供一种制备新型ZnO高调谐率压控薄膜变容管的制备方法。本专利技术通过如下技术方案予以实现。,具有如下步骤:(I)称取ZnO粉末,压制成型,采用固相烧结法于1100°C烧制ZnO靶材;(2)将Pt-Si衬底清洗干净,以N2吹干并放入磁控溅射样品台上;(3)将磁控溅射系统的本底真空抽至P〈7.0X KT6Torr,然后加热Pt-Si衬底至300 ~700。。;(4)以高纯氩气和氧气作为溅射气体,Ar和O2的流量比为10:1~2:1,气体总流量为lOOsccm,溅射气压为IOmTorr, ...
【技术保护点】
一种氧化锌压控变容管的制备方法,具有如下步骤:(1)称取ZnO粉末,压制成型,采用固相烧结法于1100℃烧制ZnO靶材;(2)将Pt‑Si衬底清洗干净,以N2吹干并放入磁控溅射样品台上;(3)将磁控溅射系统的本底真空抽至P<7.0×10‑6Torr,然后加热Pt‑Si衬底至300~700℃;(4)以高纯氩气和氧气作为溅射气体,Ar和O2的流量比为10:1~2:1,气体总流量为100sccm,溅射气压为10mTorr,溅射功率为100~200W,进行沉积得到ZnO薄膜;(5)步骤(4)停止后,待Pt‑Si衬底温度降至200℃以下时,取出制品,在氧气气氛炉中进行后退火处理,所述退火温度为400℃~600℃,退火时间为5~60min;(6)在步骤(5)退火后的ZnO薄膜上面利用掩膜版制备金属电极,并利用热蒸镀法或者溅射法制备Au或者Pt电极。
【技术特征摘要】
1.一种氧化锌压控变容管的制备方法,具有如下步骤: (1)称取ZnO粉末,压制成型,采用固相烧结法于1100°C烧制ZnO靶材; (2)将Pt-Si衬底清洗干净,以N2吹干并放入磁控溅射样品台上; (3)将磁控溅射系统的本底真空抽至P〈7.0X 10_6Torr,然后加热Pt-Si衬底至300~700 V ; (4)以高纯氩气和氧气作为溅射气体,Ar和O2的流量比为10:1~2:1,气体总流量为lOOsccm,溅射气压为1OmTorr,溅射功率为100~200W,进行沉积得到ZnO薄膜; (5)步骤(4)停止后,待Pt-Si衬底温度降至200°C以下时,取出制品,在氧气气氛炉中进行后退火处理,所述退火温度为400°C~600°C,退火时间为5~60min ; (6)在步骤(5)退火后的ZnO薄膜上...
【专利技术属性】
技术研发人员:李玲霞,郑浩然,于仕辉,许丹,董和磊,金雨馨,
申请(专利权)人:天津大学,
类型:发明
国别省市:天津;12
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