【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于X射线衍射测量的具有针对非理想传感器行为的校正的多次采样CMOS传感器
本专利技术涉及X射线衍射系统。X射线衍射是一种用于对晶体材料样本(通常以单晶形式提供)进行定性和定量分析的无损技术。根据此技术,X射线束通过具有固定阳极的X射线管、通过常规的旋转阳极型X射线源或通过同步源而生成,且在研究中被定向成朝向材料样本。当X射线撞击样本时,X射线根据样本的原子结构而被衍射。
技术介绍
用于执行单晶衍射试验的典型的实验室系统100一般由如图1中示出的五个部件组成。所述部件包含X射线源102,它产生具有所要求的辐射能量、焦斑尺寸和强度的初级X射线束104。提供了X射线光学器件106,以将初级X射线束104调节成具有所要求的波长、束聚焦尺寸、束轮廓和散度的经调节的束或入射束108。测角器110被用于建立和操纵入射X射线束108、晶体样本112和X射线传感器114之间的几何关系。入射X射线束108撞击晶体样本112,并产生散射X射线116,散射X射线116被记录在传感器114中。样本对准和监测组件包括样本照明器118(通常是激光器)和样本监测器120(通常是视频摄像器),样本照明器118照亮样本112,样本监测器120生成该样本的视频图像,以辅助用户将该样本定位在仪器中心并监测样本状态和位置。测角器110允许晶体样本112绕几个轴线旋转。精确晶体学要求样本晶体112对准测角器110的中心,且要求样本晶体112在数据收集期间在绕该测角器的旋转轴线旋转时维持在该中心。在曝光期间,该样本(所研究的化合物的单晶)在X射线束108中以精确的角速度旋转经过一个精确的角范围。此旋 ...
【技术保护点】
一种用于针对X射线衍射系统的CMOS传感器中的非理想行为来校正像素电荷数据的方法,包括,针对该传感器中的每个像素:(a)在一个传感器帧时间段期间多次对该像素中积累的电荷进行无损采样,且针对增益变化和非线性来校正每个样本值;(b)针对该像素来估计固定图案噪声和暗电流噪声,且从每个经校正的样本值中减去所估计的固定图案噪声和暗电流噪声;(c)针对该像素来估计复位噪声,且从在步骤(b)中经校正的每个样本值中减去所估计的复位噪声,以产生多个经校正的样本值;(d)将电荷与时间的关系的模型基函数拟合到在步骤(c)中产生的经校正的样本值;以及(e)在该帧时间段结束处评估经拟合的模型基函数。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.10.31 US 13/285,0891.一种针对X射线衍射系统的CMOS传感器中的非理想行为来校正像素电荷数据的方法,包括,针对该传感器中的每个像素:(a)在一个传感器帧时间段期间多次对该像素中积累的电荷进行无损采样,且针对增益变化和非线性来校正每个样本值以产生第一组经校正的样本值;(b)针对该像素来估计固定图案噪声和暗电流噪声,且从在步骤(a)中产生的第一组经校正的样本值中的每个样本值中减去所估计的固定图案噪声和暗电流噪声以产生第二组经校正的样本值;(c)针对该像素来估计复位噪声,且从在步骤(b)中产生的第二组经校正的样本值中的每个样本值中减去所估计的复位噪声,以产生第三组经校正的样本值;(d)将电荷与时间的关系的模型基函数拟合到在步骤(c)中产生的第三组经校正的样本值;以及(e)在该帧时间段结束处评估经拟合的模型基函数。2.根据权利要求1所述的方法,其中步骤(a)包括:测量该像素响应于由该传感器产生的预定数目的输出校准图像的输出,且将像素响应拟合到电荷与时间的关系的模型函数。3.根据权利要求2所述的方法,其中每个输出校准图像是泛野图像。4.根据权利要求1所述的方法,其中步骤(b)包括:测量该像素响应于由该传感器产生的预定数目的噪声校准图像的输出,且在该数目的噪声校准图像上对该像素的输出进行平均。5.根据权利要求4所述的方法,其中该噪声校准图像是相同的暗图像。6.根据权利要求1所述的方法,其中步骤(c)包括:对由该传感器产生的且含有该像素的图像执行空间频率滤波,以确定该图像的每行中具有零空间频率的分量,且使用该零空间频率分量作为所估计的复位噪声。7.根据权利要求6所述的方法,其中该空间频率滤波包括:检测并掩蔽布拉格共振信号,且此后对该图像应用快速傅里叶变换,随后进行低通滤波。8.根据权利要求1所述的方法,其中步骤(c)包括:对由全部位于该传感器的边缘处的预定数目的像素产生的信号进行平均,且使用该平均作为所估计的复位噪声。9.根据权利要求1所述的方法,其中在步骤(d)中,电荷与时间的关系的模型基函数是电荷与时间的关系的三次多项式。10.根据权利要求1所述的方法,进一步包括:在相邻的帧时间上对在步骤(e)中确定的最佳估计求和,且将该和除以平均转换增益。11.一种X射线衍射系统,包括:X射线源;CMOS传感器;以及像素处理单元,用于该传感器中的每个像素;(a)在一个传感器帧时间段期间多次对该像素中...
【专利技术属性】
技术研发人员:R·D·杜尔斯特,G·A·瓦克特,J·凯尔彻,
申请(专利权)人:布鲁克AXS公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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