氧化镁活性均化设备制造技术

技术编号:10252322 阅读:171 留言:0更新日期:2014-07-24 13:07
本实用新型专利技术的目的是提供一种氧化镁活性均化设备,包括储料箱,所述储料箱内部设置有搅拌叶,所述搅拌叶通过设置在储料箱一侧的电机带动工作,所述储料箱的上方设置有绞龙提升装置,储料箱的底部设置有出料口,出料口上设置有绞龙装置。通过多个储料箱进行多次均化处理,使氧化镁的活性均化完全,并且使用绞龙提升装置进行进料,减少人工工作,提高工作效率,提高氧化镁的品质,结构简单,便于维修。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术的目的是提供一种氧化镁活性均化设备,包括储料箱,所述储料箱内部设置有搅拌叶,所述搅拌叶通过设置在储料箱一侧的电机带动工作,所述储料箱的上方设置有绞龙提升装置,储料箱的底部设置有出料口,出料口上设置有绞龙装置。通过多个储料箱进行多次均化处理,使氧化镁的活性均化完全,并且使用绞龙提升装置进行进料,减少人工工作,提高工作效率,提高氧化镁的品质,结构简单,便于维修。【专利说明】氧化镁活性均化设备
本技术涉及一种均化设备,尤其涉及一种用于均化氧化镁活性的均化设备。
技术介绍
氧化镁具有良好的导磁性(即具有较大的正磁化率)和优秀的绝缘性能。可使硅钢片表面形成良好的绝缘层和导磁介质,以抑制和克服变压器中硅钢铁芯的涡流和集肤效应损失(简称铁损)。提高硅钢片的绝缘性能,用作高温退火隔离剂。亦可用作陶瓷材料、电子材料、化工原料及粘结剂、添加剂等在硅钢中应用于脱磷剂、脱硫剂、绝缘涂层生成剂。在氧化镁的使用前,由于氧化镁与空气中的水进行接触,活性不均匀,需要将氧化镁进行均化处理,而目前的均化设备无法做到完全均化,并且容易使氧化镁粉末飘散的到处都是。因此,解决氧化镁均化不完全及污染工本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种氧化镁活性均化设备,包括储料箱(1),其特征在于:所述储料箱(1)内部设置有搅拌叶(2),所述搅拌叶(2)通过设置在储料箱(1)一侧的电机(3)带动工作,所述储料箱(1)的上方设置有绞龙提升装置(4),储料箱(1)的底部设置有出料口(5),出料口(5)上设置有绞龙装置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:郜春明
申请(专利权)人:芜湖市欧美德板材有限公司
类型:新型
国别省市:安徽;34

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