一种用于氧化镁烧结体靶材的组合式坩埚制造技术

本发明专利技术公开了一种用于氧化镁烧结体靶材的组合式坩埚，由两部分组成，分别是圆筒形坩埚壁(1)和坩埚底座(2)；一个坩埚底座(2)可以配合一个至多个圆筒形坩埚壁(1)使用。其中，所述圆筒形坩埚壁(1)的上下接口较坩埚壁中心存在偏移，结合时留有余量。所述坩埚底(2)做以凸台的形式设置接口。本发明专利技术具备多段坩埚壁(1)和坩埚底座(2)，若有损坏情况发生时，只需报废局部即可；而且在生产过程中，不需要复杂的模具，为成型和脱模也提供了方便。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于高温炉用工装领域，涉及到一种用于氧化镁烧结体靶材的组合式坩埚。
技术介绍
彩色交流等离子体显示器(PDP)对性能要求的提高，氧化镁材料越来越受到关注。各种试验研究显示，氧化镁是最耐离子撞击的材料之一，且具有很高的二次电压发射效率与透光率。目前应用广泛的坩埚材质主要有石墨、石英、陶瓷、刚玉、碳化硅、白金等。氧化镁烧结体靶材需要在1700℃温度下长时间烧结，且有水汽排出，在生产过程中对现有坩埚逐一进行了考察，结果都不理想。在使用过程中对坩埚损坏情况进行观察，总结发现，坩埚损坏都发生在局部，即坩埚壁的上部、中部、下部或坩埚底部。一般都是由于局部过热，或附着与坩埚上的杂质在高温下发生共融形成损坏。因局部的损坏而报废整个坩埚，是一项很大的浪费，增加了生产成本。从另一个角度讲，生产窑炉和实验窑炉高度不同，因此选用的坩埚尺寸也不同，没有高度可调节的坩埚可以使用。
技术实现思路
鉴于上述现状，为满足氧化镁烧结体靶材生产中因局部受损而报废整个坩埚的问题，本专利技术提供一种用于氧化镁烧结体靶材的组合式坩埚。本专利技术的目的通过以下措施实现：提供一种用于氧化镁烧结体靶材的组合式坩埚，由圆筒形坩埚壁1和坩埚底座2两部分组成，其特征在于，一个坩埚底座2可以配合一个至多个圆筒形坩埚壁1使用。其中，所述圆筒形坩埚壁1的上下接口较坩埚壁中心存在偏移，结合时留有余量。所述坩埚底2做以凸台的形式设置接口。有益效果：本专利技术制备的组合式坩埚在有损坏情况发生时，只需报废局部即可；而且在生产过程中，不在需要复杂的模具，为成型和脱模提供了方便。附图说明图1是本专利技术的组合式坩埚的分体剖面示意图。图2是本专利技术的组合式坩埚三层坩埚壁组合后的剖面示意图。图中，1为圆筒形坩埚壁；2为底座。具体实施方式下面结合附图和实施例对本专利技术进行详细说明。参照图1和2，在本实施例中的用于氧化镁烧结体靶材的组合式坩埚，具体分为多段坩埚壁1和底座2。如图1所示，底座2直径200mm，厚10mm，凸台高10mm，接口处15mm；圆筒形坩埚壁1高100mm，直径200mm，厚25mm，接口处厚度10mm。实际使用时，可根据炉膛高度自由组合多个坩埚壁1。本实例中使用在推板电窑中，炉膛高度340mm，采用三段组合，组合后如图2所示。使用其在氧化镁烧结体靶材需要在1700℃温度下烧结后，若局部损坏，只需更换损坏对应的坩埚壁1，其它仍可使用。以上内容是结合优选技术方案对本专利技术所做的进一步详细说明，不能认定专利技术的具体实施仅限于这些说明。对本专利技术所属
的普通技术人员来说，在不脱离本专利技术的构思的前提下，还可以做出简单的推演及替换，都应当视为本专利技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于氧化镁烧结体靶材的组合式坩埚，由圆筒形坩埚壁(1)和坩埚底座(2)两部分组成，其特征在于，一个坩埚底座(2)可以配合一个至多个圆筒形坩埚壁(1)使用。

【技术特征摘要】
1.一种用于氧化镁烧结体靶材的组合式坩埚，由圆筒形坩埚壁(1)和
坩埚底座(2)两部分组成，其特征在于，一个坩埚底座(2)可以配合一个至
多个圆筒形坩埚壁(1)使用。
2.根据权利要求1所述的一种用于氧化镁烧结体靶材的组合式...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾卫军，
申请(专利权)人：营口镁质材料研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：辽宁;21