信息记录介质用玻璃基板以及信息记录介质制造技术

该信息记录介质用玻璃基板和信息记录介质设置成第1滚降变化量（S1）和第2滚降变化量（S2）处于≤第1滚降变化量（S1）（条件1）和≤第2滚降变化量（S2）（条件2）的范围内。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】信息记录介质用玻璃基板以及信息记录介质
本专利技术涉及信息记录介质用玻璃基板以及信息记录介质。
技术介绍
在HDD（HardDiskDrive：硬盘驱动器）等信息记录装置中，内置有磁盘或磁光盘等圆板状的信息记录介质。信息记录介质中采用了圆板状的信息记录介质用玻璃基板。在信息记录介质用玻璃基板的主表面上，形成有包含利用了磁、光、或光磁等的性质的记录层的磁薄膜层。磁薄膜层通过磁头被磁化，由此将规定的信息记录到信息记录介质中。信息记录介质在HDD等信息记录装置的内部高速旋转。为了向信息记录介质进行信息的记录和信息记录介质中的信息的再现，磁头在形成于信息记录介质用玻璃基板的主表面上的磁薄膜层上飞行。为了提高记录密度，信息记录装置中采用了DFH（DynamicFlyingHeight：动态飞行高度）机构。磁头与信息记录介质的最表面（磁薄膜层的表面）之间的距离（以下称作“悬浮高度”。）为超过10nm的间隔。在将信息记录介质的中心到半径方向的外端部的半径长度设为了100%的情况下，即使将磁头行进区域扩展到从中心超过97%的区域，利用磁头进行的向信息记录介质的信息写入和读出也不会产生问题。近年来，伴随记录密度的增加，悬浮高度处于减小的趋势。通过降低悬浮高度，磁头中的接收信号的S/N比提高，能够提高向信息记录介质中的记录密度。在悬浮高度为5nm以下的情况下，为了抑制信息记录介质的最表面与磁头的接触（所谓的磁头撞击（headclash）现象），对信息记录介质用玻璃基板的主表面的平滑度和平坦度的要求日益增高。此外，认为在磁头从退避位置朝向信息记录介质的记录面突入时，容易受到由于信息记录介质的外周端面的形状引起的空气流的紊乱的影响，从而磁头的悬浮变得不稳定（滑行雪崩（glideavalanche））。由此，在从退避位置向信息记录介质的记录面上行进位置的移动中，当磁头的悬浮变得不稳定时，会对记录面上行进中的磁头的悬浮产生不良影响。其结果，无法高效地提高向信息记录介质中的记录密度。在日本特开2011－000704号公报（专利文献1）和日本特开2007－257811号公报（专利文献2）中记载了如下技术：为了增大可存储在1张信息记录介质中的信息量，与要求信息记录介质的表面的平坦性同样，在信息记录介质的外缘附近，也同样要求平坦性。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2011-000704号公报专利文献2：日本特开2007-257811号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题本专利技术所要解决的问题是以下方面：在磁头从退避位置朝向信息记录介质的记录面突入时，容易受到由于信息记录介质的外周端面附近区域的形状引起的空气流的紊乱的影响，从而磁头的悬浮变得不稳定。本专利技术就是鉴于上述实际情况而完成的，其目的在于提供一种具有如下结构的信息记录介质用玻璃基板以及信息记录介质，即在磁头从退避位置朝向信息记录介质的记录面突入时，该结构使得难以产生由于信息记录介质的外周端面附近区域的形状引起的空气流的紊乱。用于解决问题的手段基于本专利技术的信息记录介质用玻璃基板被用于信息存储装置的信息记录介质，具有旋转中心，且为圆板状，在该信息记录介质用玻璃基板中，包含形成有上述磁薄膜层的主表面、和位于上述信息记录介质用玻璃基板的缘部的外周端面。在上述主表面的从所述外周端面朝向所述旋转中心的半径方向距离中，在将连接所述主表面上的距离所述外周端面的所述半径方向距离为1.2mm的位置的点和距离所述外周端面的所述半径方向距离为0.75mm的位置的点的延长线设为基准位置，将在穿过上述旋转中心的旋转轴延伸的方向上上述基准位置与上述主表面上的所选择的任意位置之间的偏离量设为滚降（rolloff）值的情况下，将距离上述外周端面的上述半径方向距离为0.55mm的第1半径位置处的上述滚降值设为第1滚降值，将距离上述外周端面的上述半径方向距离为0.45mm的第2半径位置处的上述滚降值设为第2滚降值，将距离上述外周端面的上述半径方向距离为0.30mm的第3半径位置处的上述滚降值设为第3滚降值，在将上述第1滚降值与上述第2滚降值之差设为第1滚降变化量，将上述第2滚降值与上述第3滚降值之差设为第2滚降变化量的情况下，上述第1滚降变化量和上述第2滚降变化量满足下述条件1和条件2。≤第1滚降变化量···条件1≤第2滚降变化量···条件2在其他方式中，上述条件1为≤第1滚降变化量≤上述条件2为≤第2滚降变化量≤在其他方式中，上述条件1为≤第1滚降变化量≤上述条件2为≤第2滚降变化量≤在其他方式中，上述信息记录介质用玻璃基板在上述主表面与上述外周端面相交的区域中，具有从上述外周端面起的上述半径方向上的宽度为0.1mm的倾斜面。在其他方式中，从上述外周端面至上述旋转中心轴的上述半径方向距离为32.5mm。基于本专利技术的信息记录介质是用于信息存储装置的信息记录介质，其具有上述信息记录介质用玻璃基板、和设置在上述信息记录介质用玻璃基板的主表面上的磁薄膜层。在其他方式中，上述主表面的单面侧的记录密度为500G比特/平方英寸以上。专利技术的效果根据基于本专利技术的信息记录介质用玻璃基板和信息记录介质，能够提供一种具有如下结构的信息记录介质用玻璃基板以及信息记录介质，即在磁头从退避位置朝向信息记录介质的记录面突入时，该结构使得难以产生由于信息记录介质的外周端面附近区域的形状引起的空气流的紊乱。附图说明图1是示出实施方式中的信息记录装置的概略结构的图。图2是实施方式中的信息记录介质用玻璃基板的立体图。图3是实施方式中的信息记录介质的立体图。图4是图2中的IV线箭头部分放大剖视图。图5是示出实施例1至实施例6以及比较例1的信息记录介质各自的第1半径位置P1处的第1滚降值RO1、第2半径位置P2处的第2滚降值RO2、和第3半径位置P3处的第3滚降值RO3的测定值的图。图6是示出实施例1至实施例6以及比较例1中的各自的第1滚降值（RO1）、第2滚降值（RO2）、第3滚降值（RO3）、第1滚降变化量（S1）、第2滚降变化量（S2）、磁头撞击的有无（LU）、距外周端面1.3mm位置处的悬浮测试评价（GA1）、距外周端面1.1mm位置处的悬浮测试评价（GA2）、和距外周端面0.9mm位置处的悬浮测试评价（GA3）的图。具体实施方式以下，参照附图说明基于本专利技术的实施方式和实施例。在实施方式和实施例的说明中，在提及个数、量等的情况下，除了有特别记载的情况以外，本专利技术的范围不一定限于该个数、量等。在实施方式和实施例的说明中，有时对相同的部件和对应部件标注相同的参考标号，并不重复进行重复的说明。（信息记录装置2的概略结构）参照图1，对信息记录装置2的概略结构的一例进行说明。图1是示出实施方式中的信息记录装置2的概略结构的图。如图1所示，信息记录装置2将磁头2D与沿箭头DR1方向被旋转驱动的信息记录介质1相对配置。之后将使用图2和图3叙述信息记录介质1的形状。信息记录介质1以旋转中心CP为中心高速旋转。磁头2D被搭载到悬架2C的前端部。悬架2C被设置成能够以支轴2A为支点沿箭头DR2方向（跟踪方向）转动。在支轴2A上安装有跟踪用致动器2B。在平面视图中，磁头2D在从信息记录介质1偏离的退避位置与在信息记录介质1上方悬浮行进的跟踪（记录面）位置之间移本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种信息记录介质用玻璃基板，其为圆板状，被用于信息存储装置的信息记录介质（1），该信息记录介质用玻璃基板具有旋转中心（CP），其中，该信息记录介质用玻璃基板包含：形成有所述磁薄膜层（23）的主表面（14、15）；以及外周端面（12），其位于所述信息记录介质用玻璃基板（1G）的缘部，在所述主表面（14、15）的从所述外周端面（12）朝向所述旋转中心（CP）的半径方向距离中，在设连接所述主表面（14、15）上的距离所述外周端面（12）的所述半径方向距离为1.2mm的位置的点（B1）和距离所述外周端面（12）的所述半径方向距离为0.75mm的位置的点（B2）的延长线为基准位置（BP），设在穿过所述旋转中心（CP）的旋转轴（CL）延伸的方向上所述基准位置（BP）与所述主表面上的所选择的任意位置之间的偏离量为滚降值（RO）的情况下，在设距离所述外周端面（12）的所述半径方向距离为0.55mm的第1半径位置（P1）处的所述滚降值（RO）为第1滚降值（RO1），设距离所述外周端面（12）的所述半径方向距离为0.45mm的第2半径位置（P2）处的所述滚降值（RO）为第2滚降值（RO2），设距离所述外周端面（12）的所述半径方向距离为0.30mm的第3半径位置（P3）处的所述滚降值（RO）为第3滚降值（RO3），设所述第1滚降值（RO1）与所述第2滚降值（RO2）之差（RO1－RO2）为第1滚降变化量（S1），设所述第2滚降值（RO2）与所述第3滚降值（RO3）之差（RO2－RO3）为第2滚降变化量（S2）时，所述第1滚降变化量（S1）和所述第2滚降变化量（S2）满足下述条件1和条件2：≤第1滚降变化量（S1）···条件1≤第2滚降变化量（S2）···条件2。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.09.30 JP 2011-2173741.一种信息记录介质用玻璃基板，其为圆板状，被用于信息存储装置的信息记录介质(1)，该信息记录介质用玻璃基板具有旋转中心(CP)，其中，该信息记录介质用玻璃基板包含：形成有磁薄膜层(23)的主表面(14、15)；以及外周端面(12)，其位于所述信息记录介质用玻璃基板(1G)的缘部，在所述主表面(14、15)的从所述外周端面(12)朝向所述旋转中心(CP)的半径方向距离中，在设连接所述主表面(14、15)上的距离所述外周端面(12)的所述半径方向距离为1.2mm的位置的点(B1)和距离所述外周端面(12)的所述半径方向距离为0.75mm的位置的点(B2)的延长线为基准位置(BP)，设在穿过所述旋转中心(CP)的旋转轴(CL)延伸的方向上所述基准位置(BP)与所述主表面上的所选择的任意位置之间的偏离量为滚降值(RO)的情况下，在设距离所述外周端面(12)的所述半径方向距离为0.55mm的第1半径位置(P1)处的所述滚降值(RO)为第1滚降值(RO1)，设距离所述外周端面(12)的所述半径方向距离为0.45mm的第2半径位置(P2)处的所述滚降值(RO)为第2滚降值(RO2)，设距离所述外周端面(12)的所述半径方向距离为0.30mm的第3半径位置(P3)处的所述滚降值(RO)为第3滚降值(RO3)，设所述第1滚降值(RO1)与所述第2滚降值(RO2)之差(RO1－RO2)为第1滚降变化量(S1)，设所述第2滚降值(RO2)与所述第3滚降值(RO3)之差(RO2－RO3)为第2滚降变化量(S2)时，所述第1滚降变化量(S1)和所述第2滚降变化量(S2)满足下述条件1和条件2：2.根据权利要求1所述的信息记录介质用玻璃基板，其中，所述条件1为所述条件2为3.根据权利要求2所述的信息记录介质用玻璃基板，其中，所述条件1为所述条件2为4.根据权利要求1～3中的任意一项所述的信息记录介质用玻璃基板，其中，所述信息记录介质用玻璃基板(1G)在所述主表面(14、15)与所述外周端面(12)相交的区域中，具...

【专利技术属性】
技术研发人员：远藤毅，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP