【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
地铁暗挖区间隧道预留通道保护结构，其特征是：它包括位于规划后建地铁暗挖区间隧道（20）两侧地层内的支撑构件和位于规划后建地铁暗挖区间隧道（20）上方地层内的顶部构件，支撑构件与顶部构件固结为一体形成门式框架结构。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：林刚，罗世培，郭俊，张增，杨征，张红英，王志远，宋同伟，陶星，代刚，
申请(专利权)人：中铁二院工程集团有限责任公司，
类型：新型
国别省市：四川;51
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