【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术公开了一种合成铜盘的排污结构，包括铜盘主体和排污结构，铜盘主体包括内环区和外环区，排污结构包括排污入口、排污通道以及排污出口；其中，排污入口位于铜盘主体的内环区且位置低于铜盘主体的表面，排污入口与铜盘主体表面之间设置有倾斜结构，排污入口通过排污通道与排污出口相连接，排污通道位于铜盘主体的内部，排污出口位于铜盘主体的侧壁；即通过在排污入口处增加了具有一定倾斜角度的倾斜结构，从而使得产生的废液可以堆积在内环区的低凹处，进而使得废液快速流入到该排污孔内，最终实现了加速排污的效果，达到了提高生产效率的目的。【专利说明】一种合成铜盘的排污结构
本技术涉及研磨盘领域，特别涉及一种合成铜盘的排污结构。
技术介绍
特殊工件对于其表面的平整度有要求，如LED芯片、LED衬底、LED显示屏光学晶体、硅片、化合物晶体、液晶面板、宝石、陶瓷、锗片、金属工件等，通常这些工件表面的平整工艺需要研磨盘，再配以研磨液进行抛光。由于研磨盘需要与研磨液配合使用，而使用后的研磨液则需要从研磨盘上排放掉，现有的排污结构虽然能够实现对废液的排污效果，但排污效率较低，从而影响了整个...
【技术保护点】
一种合成铜盘的排污结构，包括铜盘主体和排污结构，所述铜盘主体包括内环区和外环区，所述排污结构包括排污入口、排污通道以及排污出口；其特征在于，所述排污入口位于铜盘主体的内环区且位置低于铜盘主体的表面，所述排污入口与铜盘主体表面之间设置有倾斜结构，所述排污入口通过排污通道与排污出口相连接，所述排污通道位于铜盘主体的内部，所述排污出口位于铜盘主体的侧壁。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：朱孟奎，
申请(专利权)人：上海百兰朵电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31
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