【技术实现步骤摘要】
一种新型碳化硅载盘
[0001]本技术涉及机械领域,具体地,涉及载盘。
技术介绍
[0002]碳化硅载盘用于刻蚀、蒸镀、气体沉淀等方面,例如,在对半导体衬底进行刻蚀时,需通过碳化硅载盘承载半导体衬底,然而现有的碳化硅载盘为了适应生产仪器的腔体,往往采用呈正方形的盘体,盘体上仅可放置四片半导体衬底,盘体实际使用面积小、容量较小,导致产能降低;同时,现有的碳化硅载盘不便于半导体衬底等物料的放置与拿取。
[0003]针对相关技术中的问题,目前尚未提出有效的解决方案。
技术实现思路
[0004]本技术的目的是提供一种新型碳化硅载盘,以解决上述至少一个技术问题。
[0005]为了达到上述目的,本技术采用下述技术方案:
[0006]一种新型碳化硅载盘,包括碳化硅制成的载盘本体,其特征在于,所述载盘本体包括呈正方形的片状体,所述片状体的四个角部均设有向外凸出的圆弧部;
[0007]所述载盘本体上设有五个放置槽,五个所述放置槽包括第一放置槽、第二放置槽、第三放置槽、第四放置槽、第五放置槽,所述第一放置槽、所述第二放置槽、所述第三放置槽、所述第四放置槽与所述第五放置槽的横截面均呈圆形,所述第一放置槽设置在所述片状体的中部,靠近所述片状体的四个角部处分别设有所述第二放置槽、第三放置槽、第四放置槽、第五放置槽,所述第二放置槽、所述第三放置槽、所述第四放置槽、所述第五放置槽均与所述第一放置槽连通;
[0008]五个所述放置槽的侧壁上均设有用于取出物料的凹槽。
[0009]所述圆弧部 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种新型碳化硅载盘,包括碳化硅制成的载盘本体,其特征在于,所述载盘本体包括呈正方形的片状体,所述片状体的四个角部均设有向外凸出的圆弧部;所述载盘本体上设有五个放置槽,五个所述放置槽包括第一放置槽、第二放置槽、第三放置槽、第四放置槽、第五放置槽,所述第一放置槽、所述第二放置槽、所述第三放置槽、所述第四放置槽与所述第五放置槽的横截面均呈圆形,所述第一放置槽设置在所述片状体的中部,靠近所述片状体的四个角部处分别设有所述第二放置槽、第三放置槽、第四放置槽、第五放置槽,所述第二放置槽、...
【专利技术属性】
技术研发人员:朱孟奎,
申请(专利权)人:上海百兰朵电子科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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