本实用新型公开了一种分体式组合压环，其包括第一压环和第二压环，第一压环的三角处设置有凸片，第二压环的三角处固定连接有连接块，第二压环的三脚处开设有开口，第一压环的上表面一侧设置有第一螺丝，第一压环的上表面一侧设置有第二螺丝，第一压环和第...

本实用新型公开了一种分体式三角盘，其包括第一三角盘和第二三角盘，第一三角盘的三角处均设置有第一连接块，第二三角盘的三角处设置有第二连接块，第一连接块的表面贯穿设置有第一定位孔，第二连接块的表面贯穿设置有第二定位孔，第一三角盘的底端侧面开...

本实用新型涉及机械领域，具体涉及载盘。一种新型碳化硅载盘，包括碳化硅制成的载盘本体，载盘本体包括呈正方形的片状体，片状体的四个角部均设有向外凸出的圆弧部。本实用新型通过此设计，提供了一种新型碳化硅载盘，结构简单、使用便捷，通过在片状体的...

本实用新型公开了一种开口式晶片承载盘和中心限位圆块，包括承载盘整体，所述承载盘整体的上表面边缘设置有均匀分布的限位块，且限位块的数量为六个，所述承载盘整体的上表面位于限位块之间设置有限位条，且限位条在承载盘整体的上表面边缘均匀分布数量为...

本发明提出了一种硬质材料减薄抛光的工艺方法，其特征是利用合成铜盘研磨盘和研磨液；硬质材料的待减薄抛光面与合成铜盘研磨盘充分接触，对硬质材料进行加重；合成铜盘研磨盘转动对硬质材料进行减薄抛光；合成铜盘研磨盘转动时，同时滴加研磨液。本工艺方...

本实用新型公开了一种内侧给水砂轮，包括砂轮，砂轮内侧均匀分布有若干个喷水孔，喷水孔为倾斜喷水孔，倾斜喷水孔对砂轮内部进行冲水。采用上述技术方案制成了一种可以提高砂轮的废料排放率且，良好降温的内侧给水砂轮。本实用可以提高砂轮减薄时肥料的排...

本实用新型公开了一种合成铜盘的排污结构，包括铜盘主体和排污结构，铜盘主体包括内环区和外环区，排污结构包括排污入口、排污通道以及排污出口；上述的排污入口位于铜盘主体的内环区且位置低于铜盘主体的表面，排污入口与铜盘主体表面之间设置有直角沟槽...

本实用新型公开了一种合成铜盘研磨盘，包括盘体，其中，盘体的表面设置有若干锯齿结构，盘体的中心区域设置有预留区，预留区的中心区域设置有安装孔；即通过在合成铜盘研磨盘主体上设置了若干锯齿结构，并且在合成铜盘研磨盘的中心区域为其他部件的安装预...

本实用新型公开了一种合成铜盘的排污结构，包括铜盘主体和排污结构，铜盘主体包括内环区和外环区，排污结构包括排污入口、排污通道以及排污出口；其中，排污入口位于铜盘主体的内环区且位置低于铜盘主体的表面，排污入口与铜盘主体表面之间设置有倾斜结构...

本发明提供了一种低划伤钻石研磨液，由以下重量百分比的组分混合组成：烷烃:78～83%；分散触变剂：1～5%；表面活性剂：9～11%；润滑剂：2～5%；pH调节剂：2～5%；金刚石微粉：0.1～1%。本发明在磨料粒径相同的情况下可以减少划...

本实用新型公开了一种合成锡盘研磨盘，包括合成锡盘研磨盘本体，其特征在于所述合成锡盘研磨盘本体表面中心位置设置环形空白，所述环形空白内部设置功能孔。该盘有利于磨料的嵌入，有效提高加工件的产出率，同时该盘可以有效调整盘面的平整度，从而提高工...

本实用新型公开了一种合成铜盘研磨盘，包括合成铜盘研磨盘本体，其特征在于所述合成铜盘研磨盘本体表面设置若干起伏的凹槽，所述合成铜盘研磨盘中心位置设置环形空白。该盘可以实现高精度抛光、光学实验，同时有效的提高设备产能，可以显著提高工件的磨削...

本发明公开了一种永悬浮钻石研磨液，其特征在于是由以下组分及配比的物质混合而成：烷烃80～90％、分散触变剂1～5％、表面活性剂10％、pH调节剂1～3％、金刚石微分0.1～1％；制备方法为：将上述比例的烷烃、分散触变剂、表面活性剂充分搅...

本发明公开了一种合成铜盘研磨盘，其特征在于是由以下组分及配比物质组成：铜粉90～95％、镍粉1～5％、铈粉3～10％，混合后添加上述组分总量的10～50％的环氧树脂和聚氨酯胶的混合物；将上述混合物在反应容器中加热至100～200℃，充分...