本实用新型专利技术公开了一种水冷铜盘清洁装置，包括主导轨、副导轨和用于盛放吸尘器头的圆环；主导轨包括结构相同的左导轨和右导轨，左导轨和右导轨均设有第一轨道和第二轨道，第一轨道位于第二轨道的上方；副导轨包括结构相同的前导轨和后导轨，前导轨和后导轨均设有凹槽；圆环卡合于前导轨和后导轨的凹槽内，并可以沿凹槽滑动；副导轨卡合于左导轨和右导轨的第一轨道内，并可以沿第一轨道滑动。本实用新型专利技术结构简单，制作成本低，可以在炉体底部内侧狭小的空间内方便快捷的清理精工多晶铸锭炉的水冷铜盘，避免了杂质影响水冷铜盘的散热效率，有利于硅锭的质量。主导轨与副导轨协同使用可以实现铜盘表面二维清洁。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种水冷铜盘清洁装置。
技术介绍
多晶硅铸锭技术是从2004年前后发展起来的。当人们发现多晶硅铸锭后一样可以进行切片并制作太阳能电池的时候，就开始了多晶硅铸锭炉的制作。与单晶炉相比，多晶硅铸锭炉具有成本低、产量大、容易处理的特点。精工多晶铸锭炉通过水冷铜盘散热来控制长晶的速率。水冷铜盘:精功500N铸锭炉的水冷铜盘位于炉体底部内侧，上层为冷板，下层为水冷管，水冷管端部通过锥面和不锈钢套件密封。百叶打开后散发的热量会由水冷铜盘带走，水冷铜盘为热场提供良好的散热条件，这样会在硅锭的内部形成一个竖直的温度梯度，这样的设计不仅可以生产普通的多晶硅锭，更能生产超大晶粒的硅锭以及类单晶，水冷铜盘固定在炉体底部四个凸台上部，并且安装有卡槽，用以固定热门机构中的护板。但随着设备的运行，水冷铜盘表面的杂质会越来越多，由于水冷铜盘位于炉体底部内侧，空间狭小，特别不容易清理，平时维护时基本无法清理，导致铜盘的表面杂质越来越多，影响散热效率，对硅锭的生长产生很不利的影响。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种水冷铜盘清洁装置，结构简单，制作成本低，可以在炉体底部内侧狭小的空间内方便快捷的清理精工多晶铸锭炉的水冷铜盘，避免了杂质影响水冷铜盘的散热效率，有利于硅锭的质量。主导轨与副导轨协同使用可以实现铜盘表面二维清洁。为解决上述技术问题，本技术所采取的技术方案是:一种水冷铜盘清洁装置，包括主导轨、副导轨和用于盛放吸尘器头的圆环；主导轨包括结构相同的左导轨和右导轨，左导轨和右导轨均设有第一轨道和第二轨道，第一轨道位于第二轨道的上方；副导轨包括结构相同的前导轨和后导轨，前导轨和后导轨均设有凹槽；圆环卡合于前导轨和后导轨的凹槽内，并可以沿凹槽滑动；副导轨卡合于左导轨和右导轨的第一轨道内，并可以沿第一轨道滑动。优选的左导轨和右导轨顶端设有用于防止副导轨滑落的挡片。优选的左导轨和右导轨上设有固定孔。采用上述技术方案所产生的有益效果在于:本技术水冷铜盘结构简单，制作成本低，可以在炉体底部内侧狭小的空间内方便快捷的清理精工多晶铸锭炉的水冷铜盘，避免了杂质影响水冷铜盘的散热效率，有利于硅锭的质量。主导轨与副导轨协同使用可以实现铜盘表面二维清洁。以下结合附图和具体实施方式对本技术作进一步详细的说明。附图说明图1是本技术的俯视图；图2是本技术的主视图；I为圆环,2为左导轨,3为右导轨,4为第一轨道,5为第二轨道,6为前导轨,7为后导轨，8为固定孔。具体实施方式一种水冷铜盘清洁装置，包括主导轨、副导轨和用于盛放吸尘器头的圆环I ;主导轨包括结构相同的左导轨2和右导轨3，左导轨2和右导轨3均设有第一轨道4和第二轨道5，第一轨道4位于第二轨道5的上方；副导轨包括结构相同的前导轨6和后导轨7，前导轨6和后导轨7均设有凹槽；圆环I卡合于前导轨6和后导轨7的凹槽内，并可以沿凹槽滑动；副导轨卡合于左导轨2和右导轨3的第一轨道4内，并可以沿第一轨道4滑动；左导轨2和右导轨3顶端设有用于防止副导轨滑落的挡片；左导轨2和右导轨3上设有固定孔8。本技术使用时将圆环卡合于前导轨和后导轨的凹槽内，副导轨卡合于左导轨和右导轨的第一轨道内，将水冷铜盘卡合固定于左导轨和右导轨的第二轨道内，通过固定孔将水冷铜盘固定，以防止在清洁过程中的移动，用圆环固定吸尘器的吸头后即可使用。使用本技术清洁时，可以前后移动副导轨，左导轨和右导轨顶端的挡片可以防止副导轨滑落，左右移动圆环实现整个平面的二维清洁，方便快捷，避免了杂质影响水冷铜盘的散热效率，保证了硅锭的质量。权利要求1.一种水冷铜盘清洁装置，其特征在于:包括主导轨、副导轨和用于盛放吸尘器头的圆环(I);主导轨包括结构相同的左导轨(2)和右导轨(3)，左导轨(2)和右导轨(3)均设有第一轨道(4)和第二轨道(5)，第一轨道(4)位于第二轨道(5)的上方；副导轨包括结构相同的前导轨(6)和后导轨(7)，前导轨(6)和后导轨(7)均设有凹槽；所述圆环(I)卡合于前导轨(6)和后导轨(7)的凹槽内，并可以沿凹槽滑动；副导轨卡合于左导轨(2)和右导轨(3)的第一轨道(4)内，并可以沿第一轨道(4)滑动。2.如权利要求1所述的水冷铜盘清洁装置，其特征在于:左导轨(2)和右导轨(3)顶端设有用于防止副导轨滑落的挡片。3.如权利要求1所述的水冷铜盘清洁装置，其特征在于:左导轨(2)和右导轨(3)上设有固定孔(8)。专利摘要本技术公开了一种水冷铜盘清洁装置，包括主导轨、副导轨和用于盛放吸尘器头的圆环；主导轨包括结构相同的左导轨和右导轨，左导轨和右导轨均设有第一轨道和第二轨道，第一轨道位于第二轨道的上方；副导轨包括结构相同的前导轨和后导轨，前导轨和后导轨均设有凹槽；圆环卡合于前导轨和后导轨的凹槽内，并可以沿凹槽滑动；副导轨卡合于左导轨和右导轨的第一轨道内，并可以沿第一轨道滑动。本技术结构简单，制作成本低，可以在炉体底部内侧狭小的空间内方便快捷的清理精工多晶铸锭炉的水冷铜盘，避免了杂质影响水冷铜盘的散热效率，有利于硅锭的质量。主导轨与副导轨协同使用可以实现铜盘表面二维清洁。文档编号C30B28/06GK203034141SQ20122071406公开日2013年7月3日 申请日期2012年12月21日 优先权日2012年12月21日专利技术者赵希 申请人:衡水英利新能源有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种水冷铜盘清洁装置，其特征在于：包括主导轨、副导轨和用于盛放吸尘器头的圆环（1）；主导轨包括结构相同的左导轨（2）和右导轨（3），左导轨（2）和右导轨（3）均设有第一轨道（4）和第二轨道（5），第一轨道（4）位于第二轨道（5）的上方；副导轨包括结构相同的前导轨（6）和后导轨（7），前导轨（6）和后导轨（7）均设有凹槽；所述圆环（1）卡合于前导轨（6）和后导轨（7）的凹槽内，并可以沿凹槽滑动；副导轨卡合于左导轨（2）和右导轨（3）的第一轨道（4）内，并可以沿第一轨道（4）滑动。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：赵希，
申请(专利权)人：衡水英利新能源有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。