【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种基于宽场受激发射差分的显微方法，首先对样品进行宽场照明并成像，然后利用激光经两个渥拉斯顿棱镜形成两束垂直偏振光（s光）和两束平行偏振光（p光），这四束线偏光聚焦形成的干涉光斑对荧光样品进行照明并成像，然后同FED类似对宽场下得到的图像和干涉光斑下得到的图像进行差分处理，由于暗斑的大小小于衍射极限，所以能够得到暗斑中的超分辨图像，最后通过扫描振镜控制干涉光斑在样品上移动，以得到样品全部的显微图像。本专利技术还公开了本专利技术一种基于宽场受激发射差分的显微装置，结构简单，便于操作，能够实现基于宽场受激发射差分的快速超分辨显微成像，可用于光学显微成像领域。【专利说明】一种基于宽场受激发射差分的显微方法和装置
本专利技术属于超分辨显微领域，尤其涉及一种基于宽场受激发射差分的显微方法和>J-U ρ?α装直。
技术介绍
由于光学系统衍射的影响，常规远场光学显微方法可实现的分辨率存在限制。根据阿贝衍射极限理论，光束经显微物镜聚焦后所成光斑的尺寸用半高全宽表示为【权利要求】1.一种基于宽场受激发射差分的显微方法，其特征在于，包括以下步骤: 1)第一激光光束准直处理后，经物镜聚焦到荧光样品表面进行宽场照明，收集荧光样品发出的荧光，得到宽场照明下的第一样品图像； 2)将第二激光光束分为四束线偏光后，经物镜聚焦到荧光样品表面并形成干涉光斑，所述干涉光斑中的亮斑部分对荧光样品进行照明并激发荧光，并采集荧光得到干涉光斑照明下的第二样品图像； 其中，所述四束线偏光包括两组的平行偏振光和垂直偏振光； 3)对步骤I)和步骤2)中的两幅...
【技术保护点】
一种基于宽场受激发射差分的显微方法，其特征在于，包括以下步骤：1）第一激光光束准直处理后，经物镜聚焦到荧光样品表面进行宽场照明，收集荧光样品发出的荧光，得到宽场照明下的第一样品图像；2）将第二激光光束分为四束线偏光后，经物镜聚焦到荧光样品表面并形成干涉光斑，所述干涉光斑中的亮斑部分对荧光样品进行照明并激发荧光，并采集荧光得到干涉光斑照明下的第二样品图像；其中，所述四束线偏光包括两组的平行偏振光和垂直偏振光；3）对步骤1）和步骤2）中的两幅样品图像进行差分处理，得到所述干涉光斑中暗斑部分的显微图像。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：匡翠方，蔡欢庆，葛剑虹，刘旭，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：发明
国别省市：浙江;33
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。