采用场发射阵列激发的平板紫外辐射光源的清洗箱制造技术

本实用新型专利技术涉及紫外超精密清洗领域。采用场发射阵列激发的平板紫外辐射光源的清洗箱，包括紫外清洗箱主体，紫外清洗箱主体包括箱壁，箱壁围成一清洗腔，清洗腔内设有清洗执行系统，清洗执行系统连接一紫外光源，以及一控制系统，紫外光源采用一场发射阵列激发的平板紫外辐射光源，光源位于清洗腔内；光源包括一阳极板，阳极板上设有一紫外荧光粉层；光源还包括一场发射阴极阵列，场发射阴极阵列朝向阳极板。由于场发射阵列激发的平板紫外辐射光源采用的是场发射阴极阵列，故光源整体呈板状，可以直接作为箱盖使用，增加了清洗腔的容积，而且板状的光源均匀照射清洗腔，可以减少管状光源造成的遮挡问题，提高清洗效果。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
采用场发射阵列激发的平板紫外辐射光源的清洗箱，包括紫外清洗箱主体，所述紫外清洗箱主体包括箱壁，所述箱壁围成一清洗腔，所述清洗腔内设有清洗执行系统，所述清洗执行系统连接一紫外光源，以及一控制系统，其特征在于：?所述紫外光源采用一场发射阵列激发的平板紫外辐射光源，所述场发射阵列激发的平板紫外辐射光源位于所述清洗腔内；?所述光源包括一阳极板，所述阳极板上设有一紫外荧光粉层；?所述光源还包括一场发射阴极阵列，所述场发射阴极阵列朝向所述阳极板。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：钟伟杰，赵健，夏忠平，
申请(专利权)人：上海显恒光电科技股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：