【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体制造装备离子注入机,离子注入机工作的基本条件是其真空状态,保证真空安全是设备重要的要求之一。技术背景离子注入机是半导体工艺中离子掺杂的典型设备,对晶片进行掺杂就要有离子束的产生,而离子束的产生,包括晶片的传输和晶片的掺杂都是在真空条件下进行的。随着对半导体制造设备的性能要求也就越来越高,对真空的安全也要求越来越高,一方面要对真空泵提高要求,而另一方面对真空阀门也提出了更高的要求。真空阀门安全对离子注入机是至关重要的,采用新的设计预防阀门控制失效对真空计设备的损坏。
技术实现思路
本专利技术公开了离子注入机系统中一种真空隔离安全阀装置。本专利技术通过以下方案实现:1.一种真空隔离安全阀装置,包括:标准法兰(1)电磁阀(2)、活塞(3)、小孔(4)、弹簧(5)。2.如权利要求1中所述的真空隔离安全阀装置,其特征在于电磁阀(2)开关控制大气与真空之间的隔离。3.如权利要求1中所述的真空隔离安全阀装置,其特征 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种真空隔离安全阀装置,包括:标准法兰(1)、电磁阀(2)、活塞
(3)、小孔(4)、弹簧(5)。
2.如权利要求1中所述的真空隔离安全阀装置,其特征在于电磁阀(2)
开关控制大气与活塞(3)上部真空之间的...
【专利技术属性】
技术研发人员:胡东京,
申请(专利权)人:北京中科信电子装备有限公司,
类型:发明
国别省市:
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