定向自组装制程/邻近校正的方法技术

本发明专利技术涉及定向自组装制程/邻近校正的方法，在实施例中，一种集成电路的制造方法包含设计光学掩模以形成在半导体基板上光阻层中的预图案(pre-pattern)开口，其中，该光阻层与该预图案开口涂布有经过定向自组装(DSA)的自组装材料以形成DSA图案。设计该光学掩模的步骤包含：使用运算系统、输入DSA标的图案、以及使用该运算系统应用DSA模型以产生第一DSA定向图案。更进一步地，设计该光学掩模的步骤包含：使用运算系统、计算该DSA标的图案与该DSA定向图案间的留数、以及使用该运算系统应用DSA模型于该第一DSA定向图案与该留数以产生第二、更新的DSA定向图案。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种制造集成电路的方法，包括：设计光学掩模以形成在半导体基板上光阻层中的预图案开口，其中，该光阻层与该预图案开口涂布有经过定向自组装(DSA)的自组装材料以形成DSA图案，且其中，设计该光学掩模的步骤包含：使用运算系统，输入DSA标的图案；使用该运算系统，应用DSA模型于该DSA标的图案，以产生第一DSA定向图案；使用该运算系统，计算该DSA标的图案与该DSA定向图案间的留数；以及使用该运算系统，应用该DSA模型于该第一DSA定向图案与该留数，以产生第二、更新的DSA定向图案。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：A·拉特波夫，
申请(专利权)人：格罗方德半导体公司，
类型：发明
国别省市：开曼群岛;KY