曝光装置、曝光方法、元件制造方法、程序及记录媒体制造方法及图纸

本发明专利技术的曝光装置是通过液体以曝光用光使基板曝光。曝光装置，具备：具有曝光用光射出的射出面的光学构件、包含将基板的下面以可释放的方式加以保持的第1保持部以及用以规定可配置基板的开口且具有在基板被保持于第1保持部保持的状态下配置在基板上面周围的上面的第1构件的基板保持装置、以及至少一部分配置在基板与第1构件间的间隙且具有对液体为拨液性的上面的多孔构件。曝光装置通过多孔构件回收流入间隙的液体的至少一部分。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】曝光装置
本专利技术是关于曝光装置、曝光方法、元件制造方法、程序及记录媒体。本申请案主张2011年7月21日提出的日本专利申请第2011－159999号及2012年5月22日提出的日本专利第2012－116713号的优先权。并将上述申请案的内容援用于此。
技术介绍
于半导体元件、电子元件等微元件的工艺中，使用例如是下述专利文献所揭露的、通过液体以曝光用光使基板曝光的液浸曝光装置。曝光装置具备可保持基板移动的基板载台，使该基板载台所保持的基板曝光。现有技术文献专利文献专利文献1：美国专利公开第2008/0043211号说明书。专利文献2：美国专利公开第2008/0100812号说明书。
技术实现思路
专利技术欲解决的课题液浸曝光装置中，例如液体残留在基板上面及基板载台上面的至少一方时，有可能发生曝光不良。其结果，即有可能产生不良元件。本专利技术的态样，其目的在提供一种能抑制曝光不良的发生的曝光装置及曝光方法。此外，本专利技术的态样，其目的在提供一种能抑制不良元件的产生的元件制造方法、程序、及记录媒体。用以解决课题的手段本专利技术第1态样提供一种曝光装置，是通过液体以曝光用光使基板曝光，具备：光学构件，具有该曝光用光射出的射出面；基板保持装置，包含将该基板的下面以可释放的方式加以保持的第1保持部、以及用以规定可配置该基板的开口、具有在该基板被保持于该第1保持部保持的状态下配置在该基板的上面周围的上面的第1构件；以及多孔构件，至少一部分是配置在该基板与该第1构件间的间隙、具有对该液体为拨液性的上面；通过该多孔构件回收流入该间隙的该液体的至少一部分。本专利技术第2态样提供一种曝光装置，是通过液体以曝光用光使基板曝光：具备光学构件，具有该曝光用光射出的射出面；基板保持装置，包含将该基板的下面以可释放的方式加以保持的第1保持部、以及用以规定可配置该基板的开口、具有在该基板被保持于该第1保持部保持的状态下配置在该基板的上面周围的上面的第1构件；以及回收口，在该基板及该第1保持部的至少一方的周围配置有多个，可回收流入该基板与该第1构件间的间隙的该液体的至少一部分；在该液体的液浸空间形成在该光学构件的射出面侧的状态下，移动该基板及该第1构件；根据相对该液浸空间的该间隙的位置、及相对该液浸空间的该间隙的移动条件的一方或双方，进行从该多个回收口中的部分回收口回收该液体。本专利技术第3态样提供一种曝光装置，是通过液体以曝光用光使基板曝光：具备光学构件，具有该曝光用光射出的射出面；基板保持装置，包含将该基板的下面以可释放的方式加以保持的第1保持部、以及用以规定可配置该基板的开口、具有在该基板被保持于该第1保持部保持的状态下配置在该基板的上面周围的上面的第1构件；以及回收口，配置成与该基板的侧面对向，回收流入该基板与该第1构件间的间隙的该液体的至少一部分。本专利技术第4态样提供一种曝光装置，是通过液体以曝光用光使基板曝光：具备光学构件，具有该曝光用光射出的射出面；以及基板保持装置，包含将该基板的下面以可释放的方式加以保持的第1保持部、以及用以规定可配置该基板的开口、具有在该基板被保持于该第1保持部保持的状态下配置在该基板的上面周围的上面的第1构件；该第1构件的开口，包含位于距该第1保持部中心的第1距离、被保持于该第1保持部的该基板的侧面可对向的第1区域，以及和该第1区域相邻配置、位于距该第1保持部中心的较该第1距离长的第2距离的第2区域。本专利技术第5态样提供一种曝光装置，是通过液体以曝光用光使基板曝光：具备光学构件，具有该曝光用光射出的射出面；以及基板保持装置，包含将该基板的下面以可释放的方式加以保持的第1保持部、以及用以规定可配置该基板的开口、具有在该基板被保持于该第1保持部保持的状态下配置在该基板的上面周围的上面的第1构件；该第1构件的内面，包含第1内面以及配置在该第1内面上方、该基板侧面的至少一部分对向且下端与该第1内面连结而上端与该第1构件上面连结的第2内面；该第1内面与该第2内面非平行，于该第1构件上面的法线方向，该第2内面的尺寸较该第1内面的尺寸大；至少该第2内面是相对该第1保持部中心朝外侧向上方倾斜。本专利技术第6态样提供一种曝光装置，是通过液体以曝光用光照射基板的上面：具备光学构件，具有该曝光用光射出的射出面；以及基板保持装置，包含将该基板的下面以可释放的方式加以保持的第1保持部、以及具有上面及用以规定该上面外缘的一部分的边缘部的第1构件；该第1构件的该边缘部，以被保持于该第1保持部的该基板的边缘部沿此的方式延伸于既定方向；于该第1构件的该边缘部，沿该既定方向形成有多个凸部。本专利技术第7态样提供一种曝光装置，是通过液体以曝光用光使基板曝光：具备光学构件，具有该曝光用光射出的射出面；以及基板保持装置，包含将该基板的下面以可释放的方式加以保持的第1保持部、以及用以规定可配置该基板的开口、具有在该基板被保持于该第1保持部保持的状态下配置在该基板的上面周围的上面的第1构件；该第1构件的内面，包含该基板的侧面可对向的第1内面，以及配置在该第1内面下方、相对该第1保持部较该第1内面更分离的第2内面；具备配置成至少一部分与该第2内面对向的多孔构件；通过该多孔构件，回收流入该基板与该第1构件间的间隙的该液体的至少一部分。本专利技术第8态样提供一种曝光装置，是通过液体以曝光用光使基板曝光：具备光学构件，具有该曝光用光射出的射出面；以及基板保持装置，包含将该基板的下面以可释放的方式加以保持的第1保持部、以及用以规定可配置该基板的开口、具有在该基板被保持于该第1保持部保持的状态下配置在该基板的上面周围的上面的第1构件；该第1构件包含该基板的侧面可对向的第1内面、配置在该第1内面下方且相对该第1保持部较该第1内面更分离的第2内面、以及与该第1内面的下端及该第2内面的上端连结而朝向与该第1构件的上面相反方向的下面。本专利技术第9态样提供一种曝光装置，是通过液浸空间的液体以曝光用光使基板曝光：具备光学构件，具有该曝光用光射出的射出面；基板保持装置，包含将该基板的下面以可释放的方式加以保持的第1保持部、配置在该第1保持部周围至少一部分的测量构件、以及与该测量构件相邻设置且具有该液浸空间可形成的上面的第1构件；以及多孔构件，至少一部分配置在该测量构件与该第1构件间的间隙，具有对该液体为拨液性的上面；通过该多孔构件回收流入该间隙的该液体的至少一部分。本专利技术第10态样提供一种曝光装置，是通过液浸空间的液体以曝光用光使基板曝光：具备光学构件，具有该曝光用光射出的射出面；基板保持装置，包含将该基板的下面以可释放的方式加以保持的第1保持部、配置在该第1保持部周围至少一部分的测量构件、以及与该测量构件相邻设置且具有该液浸空间可形成的上面的第1构件；以及多个回收口，可回收流入该测量构件与该第1构件间的间隙的该液体的至少一部分；在该光学构件的该射出面侧形成该液浸空间的状态下，移动该测量构件及该第1构件；根据相对该液浸空间的该间隙的位置、及相对该液浸空间的该间隙的移动条件的一方或双方，进行从该多个回收口中的一部分回收口回收该液体。本专利技术第11态样提供一种曝光装置，是通过液体以曝光用光使基板曝光：具备光学构件，具有该曝光用光射出的射出面；基板保持装置，包含将该基板的下面以可释放的方式加以保持的第1保持本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.07.21 JP 2011-159999;2012.05.22 JP 2012-116711.一种曝光装置，其特征在于，通过液体以曝光用光使基板曝光，具备：基板保持装置，包含将所述基板的下面以可释放的方式加以保持的第1保持部、以及用以规定可配置所述基板的开口、具有在所述基板被保持于所述第1保持部保持的状态下配置在所述基板的上面周围的上面的第1构件；所述第1构件的开口，包含位于距所述第1保持部中心的第1距离、被保持于所述第1保持部的所述基板的侧面可对向的第1区域，以及和所述第1区域相邻配置、位于距所述第1保持部中心的较所述第1距离长的第2距离的第2区域；所述第1区域与所述第2区域，沿所述第1保持部的周方向交互配置多个。2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述第2区域于所述第1保持部的周方向与所述第1区域相邻配置。3.如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，于所述第1保持部周方向的所述第1区域的尺寸，较于相对所述第1保持部中心的放射方向的所述第1区域与所述第2区域间的距离小。4.如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，于所述第1保持部周方向的所述第2区域的尺寸，较于相对所述第1保持部中心的放射方向的所述第1区域与所述第2区域间的距离小。5.如权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，于所述第1保持部周方向的所述第2区域的尺寸，较于相对所述第1保持部中心的放射方向的所述第1区域与所述第2区域间的距离小。6.如权利要求1至5中任一项所述的曝光装置，其特征在于，于所述第1保持部周方向相邻的所述第1区域的距离，较于相对所述第1保持部中心的放射方向的所述第1区域与所述第2区域间的距离小。7.如权利要求1至5中任一项所述的曝光装置，其特征在于，具备调整所述第1构件的温度的调整装置。8.如权利要求1至5中任一项所述的曝光装置，其特征在于，具备对所述第1构件赋予超音波的超音波产生装置。9.一种曝光装置，其特征在于，通过液体以曝光用光照射基板的上面，具备：基板保持装置，包含将所述基板的下面以可释放的方式加以保持的第1保持部、以及具有上面及边缘部的第1构件，所述边缘部是用以规定所述上面外...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤真路，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：
国别省市：