本实用新型公开了一种磁控溅射靶遮挡装置，包括反应腔、遮挡板、安装夹、传动杆和第二通道，所述反应腔内部的两侧皆设有遮挡板，所述反应腔的外侧壁上安装有制冷板，所述遮挡板外侧壁的两端皆设有散热环，所述遮挡板的内侧安装有缓存板，所述反应腔的顶端...

本实用新型公开了一种离化源靶块用水冷镀膜结构，包括主膜体、钢化耐磨层、光源吸收层、膜体隔离层和中心膜片，所述主膜体内部的中心位置处设有中心膜片，且中心膜片一侧的主膜体内部设有上膜体基层，并且上膜体基层远离中心膜片一侧的主膜体内部设有光源...

本实用新型公开了一种用于主轴绝缘处理装置，包括装置底座、处理腔、第一凹槽、电动伸缩杆和第一支持架，所述装置底座的顶端安装有处理腔，所述第一凹槽的内部设有第一滑块，所述处理腔的内部设有支持板，所述支持板的顶端安装有旋转电机，所述支持板顶端...

本实用新型公开了离子镀膜机废气处理装置，包括装置主体、进气管、储气管、第一出气管和控制面板，所述装置主体顶部的中心位置处安装有进气管，进气管的底部延伸至装置主体的内部，且进气管下方的装置主体内部安装有储气管，并且储气管的底部皆安装有等间...

本实用新型公开了一种镀膜质量转架用多级行星齿轮传动装置，包括壳体、行星齿轮、输出齿轮、导轴和一级太阳齿轮，所述壳体内部的一端设有一级太阳齿轮，且一级太阳齿轮顶端的中心位置处固定有导轴，导轴的顶端延伸至壳体的外部，并且导轴外侧的壳体顶端设...

本实用新型公开了一种具有检测装置的磁控溅射靶，包括真空腔体、靶材、靶座、连接座和水冷背板，所述真空腔体底部的中心位置处安装有靶座，且真空腔体底部的两内侧壁上皆固定有连接座，连接座的一端与靶座的外壁相触碰，并且连接座下方的靶座外壁上设有安...

本实用新型公开了一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶，包括靶材本体、外冷却环本体、中心柱本体、中空槽和清洗结构，所述靶材本体的内部设置有中空槽，且中空槽内部的中心位置处设置有中心柱本体，中心柱本体的一端与靶材本体固定连接，并且中心柱本体的外...

本实用新型公开了一种真空镀膜机的磁控溅射靶装置，包括主框体、磁轭、靶材、进出水通槽法兰和环形支撑座，所述主框体底部的两内侧壁上皆固定有环形支撑座，且环形支撑座上方的主框体内部固定有进出水通槽法兰，并且进出水通槽法兰下方的环形支撑座内壁上...