一种真空镀膜机的磁控溅射靶装置制造方法及图纸

技术编号:25841606 阅读:28 留言:0更新日期:2020-10-02 14:20
本实用新型专利技术公开了一种真空镀膜机的磁控溅射靶装置,包括主框体、磁轭、靶材、进出水通槽法兰和环形支撑座,所述主框体底部的两内侧壁上皆固定有环形支撑座,且环形支撑座上方的主框体内部固定有进出水通槽法兰,并且进出水通槽法兰下方的环形支撑座内壁上设有密封圈,所述进出水通槽法兰顶端的中心位置处安装有磁轭,磁轭的外壁上设有密封环,且磁轭外侧的主框体内部设有水冷通槽,并且磁轭的顶端设有水冷背板,所述水冷背板底端的两侧皆设有基柱,且水冷背板顶端的中心位置处安装有靶材。本实用新型专利技术不仅确保了磁控溅射靶使用时的溅射效果,降低了磁控溅射靶使用时出现侵蚀的现象,而且提高了磁控溅射靶使用时的稳定性。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜机的磁控溅射靶装置
本技术涉及磁控溅射
,具体为一种真空镀膜机的磁控溅射靶装置。
技术介绍
目前在工业镀膜生产中,磁控溅射技术已成为主要的技术之一,相关的磁控溅射镀膜设备也发展迅速,磁控溅射靶作为镀膜系统核心部件,直接关系镀膜效果的好坏,对于整套镀膜设备的开发起到了至关重要的作用,因此需使用到相应的磁控溅射靶。目前市面上的磁控溅射靶多种多样,但功能性较为单一,还存在一定的问题,已逐渐无法满足人们的需求,具体问题有以下几点:(1)现有的此类磁控溅射靶的冷却效果一般,导致靶材易因高温出现损坏的现象,进而对溅射效率与设备的使用产生严重的影响;(2)现有的此类磁控溅射靶的密封性一般,导致水源易与靶材以及磁轭相接触,进而对其造成侵蚀的现象;(3)现有的此类磁控溅射靶的稳定性一般,导致靶材易出现偏移的现象,时常困扰着人们。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种真空镀膜机的磁控溅射靶装置,以解决上述
技术介绍
中提出磁控溅射靶的冷却效果一般、密封性一般以及稳定性一般的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种真空镀膜机的磁控溅射靶装置,包括主框体、磁轭、靶材、进出水通槽法兰和环形支撑座,所述主框体底部的两内侧壁上皆固定有环形支撑座,且环形支撑座上方的主框体内部固定有进出水通槽法兰,并且进出水通槽法兰下方的环形支撑座内壁上设有密封圈,所述进出水通槽法兰顶端的中心位置处安装有磁轭,磁轭的外壁上设有密封环,且磁轭外侧的主框体内部设有水冷通槽,并且磁轭的顶端设有水冷背板,所述水冷背板底端的两侧皆设有基柱,基柱的底端与进出水通槽法兰的顶端固定连接,且水冷背板顶端的中心位置处安装有靶材,并且靶材外侧的主框体内壁上固定有密封块,密封块的两内侧壁上皆设有防滑结构。优选的,所述基柱内部的一端分别设有第一流通口以及第二流通口,且第一流通口以及第二流通口的两端皆延伸至基柱的外部,以便水源进行流通处理。优选的,所述防滑结构的内部依次设有燕尾安置槽、工型紧固件以及橡胶防滑垫片,所述密封块的两内侧壁上皆安装有橡胶防滑垫片,橡胶防滑垫片远离密封块一侧的外壁与靶材的外壁相触碰,且橡胶防滑垫片位置处的密封块内部皆设有燕尾安置槽,并且燕尾安置槽内部的中心位置处固定有工型紧固件,工型紧固件的一端延伸至橡胶防滑垫片的内部,提高磁控溅射靶使用时的稳定性。优选的,所述水冷背板一侧的内壁上设有第一水冷通孔,第一水冷通孔的一端延伸至水冷通槽的内部,且水冷背板远离第一水冷通孔一侧的内壁上设有第二水冷通孔,第二水冷通孔的一端延伸至水冷通槽的内部,以便水源流入与流出水冷背板的内部。优选的,所述水冷背板的两端皆设有等间距的导热块,导热块的一端皆延伸至水冷背板的外部,且水冷背板外侧的导热块一端皆涂抹有低熔点金属粉末,以便磁轭以及靶材的热量高效导入至水源内部。优选的,所述进出水通槽法兰底部的一侧设有流进口,流进口的顶端延伸至水冷通槽的内部,且流进口一侧的进出水通槽法兰底部设有流出口,流出口的顶端延伸至水冷通槽的内部,以便水源流入与流出水冷通槽的内部。与现有技术相比,本技术的有益效果是:该真空镀膜机的磁控溅射靶装置不仅确保了磁控溅射靶使用时的溅射效果,降低了磁控溅射靶使用时出现侵蚀的现象,而且提高了磁控溅射靶使用时的稳定性;(1)通过设置有水冷通槽、流进口、第一流通口、第一水冷通孔、水冷背板、第二水冷通孔、第二流通口、流出口、导热块以及低熔点金属粉末,通过流进口的流通作用,使得水源流入至水冷通槽的内部,随后水源会经第一流通口以及第一水冷通孔流入至水冷背板的内部,以便对靶材进行水冷处理,同时导热块具有良好的导热作用,并经低熔点金属粉末遇热散发的性能,将靶材的热能导入至水冷背板内部的水源中进行高效散热处理,随后水冷背板内部的水源会依次经第二水冷通孔、第二流通口以及流出口流出,完成对靶材进行高效散热处理,降低其因高温出现损坏的现象,从而确保了磁控溅射靶使用时的溅射效果;(2)通过设置有密封块、密封圈以及密封环,通过密封圈的密封作用,使得水源准确无误经流进口以及流出口流入或流出于水冷通槽的内部,再通过密封块以及密封环的密封作用,使得水源精准在水冷通槽的内部进行流动,避免其因渗透与靶材以及磁轭相接触,从而降低了磁控溅射靶使用时出现侵蚀的现象;(3)通过设置有燕尾安置槽、工型紧固件以及橡胶防滑垫片,通过燕尾安置槽内部的工型紧固件,将橡胶防滑垫片定位设置于密封块的内壁上,因橡胶防滑垫片具有良好的防滑性能,使其与靶材之间的摩擦力得到提升,以降低靶材出现滑移的现象,从而提高了磁控溅射靶使用时的稳定性。附图说明图1为本技术正视剖面结构示意图;图2为本技术防滑结构剖视放大结构示意图;图3为本技术水冷背板剖视放大结构示意图;图4为本技术图3中A处放大结构示意图。图中:1、主框体;2、第一流通口;3、基柱;4、防滑结构;401、燕尾安置槽;402、工型紧固件;403、橡胶防滑垫片;5、水冷背板;6、磁轭;7、靶材;8、密封环;9、密封块;10、水冷通槽;11、第二流通口;12、进出水通槽法兰;13、环形支撑座;14、密封圈;15、流出口;16、流进口;17、第一水冷通孔;18、第二水冷通孔;19、导热块;20、低熔点金属粉末。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。请参阅图1-4,本技术提供的一种实施例:一种真空镀膜机的磁控溅射靶装置,包括主框体1、磁轭6、靶材7、进出水通槽法兰12和环形支撑座13,主框体1底部的两内侧壁上皆固定有环形支撑座13,且环形支撑座13上方的主框体1内部固定有进出水通槽法兰12,进出水通槽法兰12底部的一侧设有流进口16,流进口16的顶端延伸至水冷通槽10的内部,且流进口16一侧的进出水通槽法兰12底部设有流出口15,流出口15的顶端延伸至水冷通槽10的内部,以便水源流入与流出水冷通槽10的内部;并且进出水通槽法兰12下方的环形支撑座13内壁上设有密封圈14,进出水通槽法兰12顶端的中心位置处安装有磁轭6,磁轭6的外壁上设有密封环8,且磁轭6外侧的主框体1内部设有水冷通槽10,并且磁轭6的顶端设有水冷背板5,水冷背板5一侧的内壁上设有第一水冷通孔17,第一水冷通孔17的一端延伸至水冷通槽10的内部,且水冷背板5远离第一水冷通孔17一侧的内壁上设有第二水冷通孔18,第二水冷通孔18的一端延伸至水冷通槽10的内部,以便水源流入与流出水冷背板5的内部;水冷背板5的两端皆设有等间距的导热块19,导热块19的一端皆延伸至水冷背板5的外部,且水冷背板5外侧的导热块19一端皆涂抹有低熔点金属粉本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空镀膜机的磁控溅射靶装置,包括主框体(1)、磁轭(6)、靶材(7)、进出水通槽法兰(12)和环形支撑座(13),其特征在于:所述主框体(1)底部的两内侧壁上皆固定有环形支撑座(13),且环形支撑座(13)上方的主框体(1)内部固定有进出水通槽法兰(12),并且进出水通槽法兰(12)下方的环形支撑座(13)内壁上设有密封圈(14),所述进出水通槽法兰(12)顶端的中心位置处安装有磁轭(6),磁轭(6)的外壁上设有密封环(8),且磁轭(6)外侧的主框体(1)内部设有水冷通槽(10),并且磁轭(6)的顶端设有水冷背板(5),所述水冷背板(5)底端的两侧皆设有基柱(3),基柱(3)的底端与进出水通槽法兰(12)的顶端固定连接,且水冷背板(5)顶端的中心位置处安装有靶材(7),并且靶材(7)外侧的主框体(1)内壁上固定有密封块(9),密封块(9)的两内侧壁上皆设有防滑结构(4)。/n

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜机的磁控溅射靶装置,包括主框体(1)、磁轭(6)、靶材(7)、进出水通槽法兰(12)和环形支撑座(13),其特征在于:所述主框体(1)底部的两内侧壁上皆固定有环形支撑座(13),且环形支撑座(13)上方的主框体(1)内部固定有进出水通槽法兰(12),并且进出水通槽法兰(12)下方的环形支撑座(13)内壁上设有密封圈(14),所述进出水通槽法兰(12)顶端的中心位置处安装有磁轭(6),磁轭(6)的外壁上设有密封环(8),且磁轭(6)外侧的主框体(1)内部设有水冷通槽(10),并且磁轭(6)的顶端设有水冷背板(5),所述水冷背板(5)底端的两侧皆设有基柱(3),基柱(3)的底端与进出水通槽法兰(12)的顶端固定连接,且水冷背板(5)顶端的中心位置处安装有靶材(7),并且靶材(7)外侧的主框体(1)内壁上固定有密封块(9),密封块(9)的两内侧壁上皆设有防滑结构(4)。


2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机的磁控溅射靶装置,其特征在于:所述基柱(3)内部的一端分别设有第一流通口(2)以及第二流通口(11),且第一流通口(2)以及第二流通口(11)的两端皆延伸至基柱(3)的外部。


3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机的磁控溅射靶装置,其特征在于:所述防滑结构(4)的内部依次设有燕尾安置槽(401)、工型紧固件(402)以及橡胶防滑垫片(403),所述密封块(9)的两...

【专利技术属性】
技术研发人员:孙艳山
申请(专利权)人:遵化市洪晟霖翼钛金设备有限公司
类型:新型
国别省市:河北;13

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