一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶制造技术

本实用新型专利技术公开了一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶，包括靶材本体、外冷却环本体、中心柱本体、中空槽和清洗结构，所述靶材本体的内部设置有中空槽，且中空槽内部的中心位置处设置有中心柱本体，中心柱本体的一端与靶材本体固定连接，并且中心柱本体的外壁上套装有中心环本体，中心环本体的内壁与中心柱本体的外壁固定连接，所述中心环本体外侧的中空槽内部安装有内冷却环本体，且内冷却环本体一侧的外壁上设置有内冷却槽，所述内冷却环本体外侧的靶材本体内壁上设置有清洗结构。本实用新型专利技术不仅避免了靶材表面中毒，提高了靶材的使用效率，而且延长了磁控溅射靶的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶
本技术涉及物理气相沉积
，具体为一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶。
技术介绍
磁控溅射是物理气相沉积的一种，一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，磁控溅射包括很多种类，各有不同工作原理和应用对象，但有一共同点：利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率，所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。现今市场上的此类磁控溅射靶种类繁多，基本可以满足人们的使用需求，但是依然存在一定的不足之处，具体问题有以下几点：(1)现有的此类磁控溅射靶在反应溅射镀膜的过程中，反应性气体在靶材表面逐渐生成化合物薄膜，改变靶材的正常工作状态，甚至容易引起靶材表面中毒；(2)现有的此类磁控溅射靶在使用时通常只能使位于所述环形磁靶内的靶材得到利用，而其他的部位的靶材便被浪费，因而提高了生产成本；(3)现有的此类磁控溅射靶在使用时靶材表面的温度通常较高，长期使用不利于磁控溅射靶的使用寿命。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶，以解决上述
技术介绍
中提出磁控溅射靶在使用时容易引起靶材表面中毒，容易造成其他的部位靶材的浪费和靶材表面的温度通常较高的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶，包括靶材本体、外冷却环本体、中心柱本体、中空槽和清洗结构，所述靶材本体的内部设置有中空槽，且中空槽内部的中心位置处设置有中心柱本体，中心柱本体的一端与靶材本体固定连接，并且中心柱本体的外壁上套装有中心环本体，中心环本体的内壁与中心柱本体的外壁固定连接，所述中心环本体外侧的中空槽内部安装有内冷却环本体，且内冷却环本体一侧的外壁上设置有内冷却槽，所述内冷却环本体外侧的靶材本体内壁上设置有清洗结构。优选的，所述内冷却环本体外侧的中空槽内部设置有外冷却环本体，且外冷却环本体的外壁与靶材本体的内壁紧密接触，并且外冷却环本体一侧的外壁上设置有外冷却槽，便于对靶材本体进行冷却。优选的，所述内冷却环本体远离内冷却槽一侧的外壁上设置有固定架体，固定架体的一端与内冷却环本体固定连接，且固定架体的外壁上皆固定有等间距的第一磁铁块，便于提高靶材的利用率。优选的，所述清洗结构的内部依次设置有环状屏蔽壁、清洗腔、输气管道、进气口和出气口，内冷却环本体外侧的中空槽内部固定有环状屏蔽壁，且环状屏蔽壁靠近靶材本体的一侧设置有清洗腔，便于完成在线清洗工作。优选的，所述清洗腔远离环状屏蔽壁一侧的靶材本体内部皆固定有等间距的输气管道，且输气管道的一端设置有进气口，并且输气管道的另一端延伸至清洗腔的内部并设置有出气口，便于输入惰性气体。优选的，所述第一磁铁块一侧的固定架体外壁上皆设置有第二磁铁块，第二磁铁块的一端与固定架体的外壁固定连接，且第二磁铁块的磁性与第一磁铁块的磁性相反，第二磁铁块与第一磁铁块相互配合，便于使靶材本体的原子被溅射出来飞向工件并沉积在工件上。与现有技术相比，本技术的有益效果是：该具有在线清洗功能的磁控溅射靶不仅避免了靶材表面中毒，提高了靶材的使用效率，而且延长了磁控溅射靶的使用寿命；(1)通过设置有环状屏蔽壁、清洗腔、输气管道、进气口和出气口，将惰性气体通过进气口导入输气管道的内部并通过出气口充入至清洗腔的内部，同时在环状屏蔽壁的作用下，靶材本体表面上的各溅射部分及其附近的部分区域在反应溅射镀膜工作过程中，可周期性地进入清洗腔的内部内被其中的惰性气体离子刻蚀清洗，从而使靶材表面中毒化合物薄膜的生成情况可稳定控制，进而避免了靶材表面中毒；(2)通过设置有内冷却环本体、固定架体、第一磁铁块和第二磁铁块，由于固定架体外侧的第一磁铁块与第二磁铁块相互之间为反向磁极，当被电离的离子被约束在第一磁铁块和第二磁铁块内以及中心柱本体的内表面，从而使靶材本体的原子被溅射出来飞向工件并沉积在工件上，使得靶材本体的内外表面均被有效利用，从而提高了靶材的使用效率；(3)通过设置有外冷却环本体、外冷却槽和内冷却槽，由于第一磁铁块和第二磁铁块形成的磁场均匀的分布在靶材本体的内外表面上，由此形成磁场的离子浓度均匀使离子轰击靶材本体的几率相同，不会使靶材本体局部过热，并且，通过向外冷却环本体一侧的外冷却槽内部和内冷却环本体一侧的内冷却槽内部注入冷却液，可有效的对靶材本体进行降温，从而延长了磁控溅射靶的使用寿命。附图说明图1为本技术的正视外观结构示意图；图2为本技术的正视剖面结构示意图；图3为本技术的内冷却环本体侧视外观结构示意图；图4为本技术的清洗结构放大结构示意图。图中：1、靶材本体；2、外冷却环本体；3、外冷却槽；4、内冷却环本体；5、内冷却槽；6、中心环本体；7、中心柱本体；8、中空槽；9、清洗结构；901、环状屏蔽壁；902、清洗腔；903、输气管道；904、进气口；905、出气口；10、固定架体；11、第一磁铁块；12、第二磁铁块。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1-4，本技术提供的一种实施例：一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶，包括靶材本体1、外冷却环本体2、中心柱本体7、中空槽8和清洗结构9，靶材本体1的内部设置有中空槽8，且中空槽8内部的中心位置处设置有中心柱本体7，中心柱本体7的一端与靶材本体1固定连接，并且中心柱本体7的外壁上套装有中心环本体6，中心环本体6的内壁与中心柱本体7的外壁固定连接，中心环本体6外侧的中空槽8内部安装有内冷却环本体4，且内冷却环本体4一侧的外壁上设置有内冷却槽5，内冷却环本体4外侧的靶材本体1内壁上设置有清洗结构9；清洗结构9的内部依次设置有环状屏蔽壁901、清洗腔902、输气管道903、进气口904和出气口905，内冷却环本体4外侧的中空槽8内部固定有环状屏蔽壁901，且环状屏蔽壁901靠近靶材本体1的一侧设置有清洗腔902，清洗腔902远离环状屏蔽壁901一侧的靶材本体1内部皆固定有等间距的输气管道903，且输气管道903的一端设置有进气口904，并且输气管道903的另一端延伸至清洗腔902的内部并设置有出气口905；工作人员将惰性气体通过进气口904导入输气管道903的内部并通过出气口905充入至清洗腔902的内部，同时在环状屏蔽壁901的作用下，靶材本体1表面上的各溅射部分及其附近的部分区域在反应溅射镀膜工作过程中，可周期性地进入清洗腔902的内部内被其中的惰性气体离子刻蚀清洗，从而使靶材表面中毒化合物薄膜的生成情况可稳定控制，进而避免了本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶，包括靶材本体(1)、外冷却环本体(2)、中心柱本体(7)、中空槽(8)和清洗结构(9)，其特征在于：所述靶材本体(1)的内部设置有中空槽(8)，且中空槽(8)内部的中心位置处设置有中心柱本体(7)，中心柱本体(7)的一端与靶材本体(1)固定连接，并且中心柱本体(7)的外壁上套装有中心环本体(6)，中心环本体(6)的内壁与中心柱本体(7)的外壁固定连接，所述中心环本体(6)外侧的中空槽(8)内部安装有内冷却环本体(4)，且内冷却环本体(4)一侧的外壁上设置有内冷却槽(5)，所述内冷却环本体(4)外侧的靶材本体(1)内壁上设置有清洗结构(9)。/n

【技术特征摘要】
1.一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶，包括靶材本体(1)、外冷却环本体(2)、中心柱本体(7)、中空槽(8)和清洗结构(9)，其特征在于：所述靶材本体(1)的内部设置有中空槽(8)，且中空槽(8)内部的中心位置处设置有中心柱本体(7)，中心柱本体(7)的一端与靶材本体(1)固定连接，并且中心柱本体(7)的外壁上套装有中心环本体(6)，中心环本体(6)的内壁与中心柱本体(7)的外壁固定连接，所述中心环本体(6)外侧的中空槽(8)内部安装有内冷却环本体(4)，且内冷却环本体(4)一侧的外壁上设置有内冷却槽(5)，所述内冷却环本体(4)外侧的靶材本体(1)内壁上设置有清洗结构(9)。


2.根据权利要求1所述的一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶，其特征在于：所述内冷却环本体(4)外侧的中空槽(8)内部设置有外冷却环本体(2)，且外冷却环本体(2)的外壁与靶材本体(1)的内壁紧密接触，并且外冷却环本体(2)一侧的外壁上设置有外冷却槽(3)。


3.根据权利要求1所述的一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶，其特征在于：所述内冷却环本体(4)远离内冷却槽(5)一侧的外壁上设置有固定架体(10)，固定架体(10)的一端与内冷却环本体(4)固定连接，且固定...

【专利技术属性】
技术研发人员：李兰保，
申请(专利权)人：遵化市洪晟霖翼钛金设备有限公司，
类型：新型
国别省市：河北;13