本实用新型涉及镀膜设备技术领域，提出了多级传动式转架，包括主架、转动设置在主架上的主轴，还包括设置在所述主轴上的一级公转盘，固定设置在所述主架上的一级定齿轮，还包括转动设置在所述一级公转盘上的一级自转轴组件，所述一级自转轴组件与所述一级...

本实用新型涉及磁控溅射技术领域，提出了磁控靶材的遮挡机构，包括壳体，具有溅射腔；靶材，设置在所述溅射腔内，设置有若干个，若干个所述靶材至少有两种材质的靶材；基体，转动设置在所述溅射腔内，若干个所述靶材周向设置在所述基体外侧；及防护罩，转...

本实用新型涉及密封机构技术领域，提出了一种高真空组合密封式镀膜弓形门，包括门体和密封结构，密封结构与门体接触，密封结构包括第一密封档条、第二密封档条和密封条，第一密封档条设置在门框上，第二密封档条设置在门框上，第一密封档条与第二密封档条...

本实用新型涉及镀膜技术领域，提出了环绕式旋转进气的镀膜室，包括镀膜室和设置在镀膜室内的若干管道，管道上具有若干开口，开口用于喷射工作气体，还包括角度调节装置，设置在镀膜室内，管道设置在角度调节装置上，角度调节装置用于调节管道角度，工作气...

本实用新型涉及镀膜机械技术领域，提出了一种斜交式离化源的镀膜腔，包括具有镀膜腔的壳体及设置在壳体上的抽气口，还包括等离子靶源和转动架，等离子靶源有若干个，均设置在壳体上，转动架有若干个，均转动设置在壳体的镀膜腔内，等离子靶源的输出端均向...

本实用新型涉及遮挡护目技术领域，提出了具有磁吸式遮挡机构的观察窗，包括用于设置在镀膜室上的主体法兰、设置在主体法兰上的观测窗组件和转动设置在主体法兰上的遮挡组件，遮挡组件用于遮挡观测窗组件，遮挡组件包括磁性件，磁性件转动设置在主体法兰上...

本实用新型涉及节流阀技术领域，提出了高精度节流阀开度控制机构，高精度节流阀开度控制机构，包括阀体、设置在阀体上的轴承组件，通过轴承组件转动设置在阀体上的阀板组件和驱动阀板组件转动的动力单元，阀板组件包括齿轮组件通过轴承组件转动设置在阀体...

本实用新型涉及真空阀技术领域，提出了高真空气动挡板过滤式充气组合阀，包括阀体、伸缩件和阀板，阀体具有内腔、接泵口和抽气口，接泵口和抽气口与内腔连通，接泵口连接在真空泵上，抽气口连接在设备上，伸缩件设置在阀体上，阀板设置在伸缩件伸缩端，伸...

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，提出了多回转中心自转镀膜转架，包括用于设置在镀膜室上的回转机构和设置在回转机构上的自主轴，回转机构包括驱动件和公转盘，自主轴设置公转盘上，跟随公转盘转动，回转机构还包括自转动轮和固定轮，自转动轮设置在自主...

本实用新型公开了一种隧道式不锈钢装饰卷板的连续卷绕真空镀膜生产装置，具体涉及真空镀膜设备技术领域，包括开卷室、挡板、镀膜室和收卷室，所述开卷室和镀膜室之间设置有挡板，所述镀膜室和收卷室之间设置有另一挡板。本实用新型通过设置翻转气缸和整体...

本发明公开了一种隧道式不锈钢装饰卷板的连续卷绕真空镀膜生产装置，具体涉及真空镀膜设备技术领域，包括开卷室、挡板、镀膜室和收卷室，所述开卷室和镀膜室之间设置有挡板，所述镀膜室和收卷室之间设置有另一挡板。本发明通过设置翻转气缸和整体密封板，...

本实用新型涉及真空镀膜设备，具体是一种双体双面真空镀膜设备。包括镀膜室、真空系统、控制真空系统的电控系统，镀膜室为两个，镀膜室均包括外筒体与置于外筒体内部的内筒体，内筒体与外筒体之间的密闭空间为镀膜区，内筒体、外筒体相对的侧面上均设有离...

本实用新型涉及多弧离子镀膜机，具体是一种多弧离子镀膜机的间接水冷靶座电弧蒸发源。包括引弧机构、靶块、不锈钢靶座、电弧屏蔽盘、电弧调节套、绝缘套、水管、电磁装置，所述靶块与所述不锈钢靶座之间设置有紫铜板，所述紫铜板正面与所述靶块紧密接触，...

本实用新型涉及真空多弧离子镀膜机，具体是一种真空多弧离子镀膜机的脉冲磁场电弧蒸发源。包括引弧机构、靶块、水冷靶座、磁性元件，所述磁性元件包括电磁线圈和磁轭，电磁线圈由脉冲电源供电，产生脉冲磁场，磁性元件设置有电磁屏蔽套，磁性元件与水冷靶...

本发明涉及金属表面处理工艺，具体涉及一种真空镀膜仿古铜生产工艺。其步骤是：对基材表面清洁处理过的工件进行磁控溅射或多弧离子镀方法涂镀紫铜/黄铜；对涂镀紫铜/黄铜的工件进行化学药剂发黑，得到黑色表面薄层；工件表面的铜膜层进行手工或机械拉丝...

本发明涉及真空镀膜设备，具体是一种双体双面真空镀膜设备。包括镀膜室、真空系统、控制真空系统的电控系统，镀膜室为两个，镀膜室均包括外筒体与置于外筒体内部的内筒体，内筒体与外筒体之间的密闭空间为镀膜区，内筒体、外筒体相对的侧面上均设有离子发...