一种斜交式离化源的镀膜腔制造技术

本实用新型专利技术涉及镀膜机械技术领域，提出了一种斜交式离化源的镀膜腔，包括具有镀膜腔的壳体及设置在壳体上的抽气口，还包括等离子靶源和转动架，等离子靶源有若干个，均设置在壳体上，转动架有若干个，均转动设置在壳体的镀膜腔内，等离子靶源的输出端均向镀膜腔的中心偏移设置，其中，上下端分别为倾斜的离化源，通过上述技术方案，解决了现有技术中靶材溅射无法有效覆盖工件的问题。法有效覆盖工件的问题。法有效覆盖工件的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种斜交式离化源的镀膜腔


[0001]本技术涉及镀膜机械
，具体的，涉及一种斜交式离化源的镀膜腔。

技术介绍

[0002]物理气相沉积技术是指在真空条件下采用物理方法将材料源(固体或液体)表面气化成气态原子或分子，或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积是主要的表面处理技术之一。
[0003]PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类：真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。物理气相沉积的主要方法有：真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜和分子束外延等。相应的真空镀膜设备包括真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。
[0004]在镀膜时，工件的尺寸大小不一，尺寸不同对镀膜效果会有一定的影响，靶材均匀溅射但在一定区域内无法溅射到工件表面，浪费材料并且达不到预期的镀膜效果。
[0005]因此我们亟需一种方案解决上述问题。

技术实现思路

[0006]本技术提出一种斜交式离化源的镀膜腔，解决了相关技术中靶材溅射无法有效覆盖工件的问题。
[0007]本技术的技术方案如下：
[0008]一种斜交式离化源的镀膜腔，包括具有镀膜腔的壳体及设置在所述壳体上的抽气口，还包括，
[0009]等离子靶源，有若干个，均设置在所述壳体上，
[0010]转动架，有若干个，均转动设置在所述壳体的镀膜腔内，
[0011]所述等离子靶源的输出端均向镀膜腔的中心偏移设置。
[0012]作为进一步技术方案，所述等离子靶源的输出端与水平面的夹角在0
°
～5
°
之间。
[0013]作为进一步技术方案，所述壳体具有开合区和工作区，所述开合区的一侧具有第一开口；还包括门体，所述门体铰接设置在所述壳体上，用于遮挡所述第一开口。
[0014]作为进一步技术方案，所述等离子靶源沿所述壳体的工作区圆弧均匀设置组成离子源组，若干个所述离子源组沿所述壳体竖直方向均匀设置。
[0015]作为进一步技术方案，所述转动架有若干个；还包括传动装置，设置在所述壳体上，所述传动装置包括，
[0016]驱动轴，所述驱动轴穿过所述壳体，所述驱动轴转动设置在所述壳体上，
[0017]第一齿轮，所述第一齿轮设置在所述驱动轴上，位于所述驱动轴镀膜腔内的一端，
[0018]第二齿轮，有若干个，所述第二齿轮均与所述第一齿轮啮合，若干个所述第二齿轮分别与若跟个所述转动架连接。
[0019]作为进一步技术方案，所述传动装置还包括，
[0020]第三齿轮，所述第三齿轮设置在所述驱动轴上，所述第三齿轮位于所述驱动轴镀膜腔外的一端，
[0021]减速机，所述减速机的输出端与所述第三齿轮啮合，
[0022]驱动电机，所述驱动电机设置在所述壳体上，所述驱动电机的输出端与所述减速机的输入端连接，所述驱动电机通过所述减速机驱动所述第三齿轮转动。
[0023]作为进一步技术方案，所述门体上具有视镜，所述视镜用于观察镀膜腔内部。
[0024]本技术的工作原理及有益效果为：
[0025]本技术中，一种斜交式离化源的镀膜腔，包括具有镀膜腔的壳体及设置在壳体上的抽气口，还包括等离子靶源和转动架，等离子靶源有若干个，均设置在壳体上，转动架有若干个，均转动设置在壳体的镀膜腔内，等离子靶源的输出端均向镀膜腔的中心偏移设置，
[0026]工作时，将镀膜件安装在转动架后，通过抽气口将镀膜腔内抽成真空，向腔体内通入电离气体，通过等离子靶源向镀膜腔内发射电束，每一束电束将一片区域内的电离气体进行电离，电离后的离子附在镀膜件表面，实现镀膜，
[0027]有益效果，将上下两端的等离子靶源的输出端向镀膜腔的中心偏移设置，而中部的等离子靶源不进行偏移，可以使等离子靶源发射的电束电离区域更加靠近镀膜件，使镀膜件的镀膜效果更好，通过偏移设置可以增加交叉区域内的离子分布，当区域内的气体被电离后周边的电离气体会向中心转移，从而实现电离气体的充分利用。
附图说明
[0028]下面结合附图和具体实施方式对本技术作进一步详细的说明。
[0029]图1为本技术结构示意图；
[0030]图2本技术轴侧结构示意图；
[0031]图中：1、壳体，11、抽气口，3、等离子靶源，4、转动架，12、开合区，13、工作区，121、第一开口，5、门体，31、离子源组，6、传动装置，61、驱动轴，62、第一齿轮，63、第二齿轮，64、第三齿轮，65、减速机，66、驱动电机，14、视镜。
具体实施方式
[0032]下面将结合本技术实施例，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都涉及本技术保护的范围。
[0033]如图1～图2所示，本实施例提出了一种斜交式离化源的镀膜腔，包括具有镀膜腔的壳体1及设置在所述壳体1上的抽气口11，还包括，
[0034]等离子靶源3，有若干个，均设置在所述壳体1上，
[0035]转动架4，有若干个，均转动设置在所述壳体1的镀膜腔内，
[0036]所述等离子靶源3的输出端均向镀膜腔的中心偏移设置。
[0037]本实施例中，一种斜交式离化源的镀膜腔，包括具有镀膜腔的壳体1及设置在壳体1上的抽气口11，还包括等离子靶源3和转动架4，等离子靶源3有若干个，均设置在壳体1上，
转动架4有若干个，均转动设置在壳体1的镀膜腔内，等离子靶源3的输出端均向镀膜腔的中心偏移设置，其中，上下端分别为倾斜的离化源，其他为水平设置，
[0038]工作时，将镀膜件安装在转动架4上，通过抽气口11将镀膜腔内抽成真空，向腔体内通入电离气体，通过等离子靶源3向镀膜腔内发射电束，每一束电束将一片区域内的电离气体进行电离，电离后的离子附在镀膜件表面，实现镀膜，
[0039]将上下两端的等离子靶源3的输出端向镀膜腔的中心偏移设置，而中部的等离子靶源3不进行偏移，可以使等离子靶源3发射的电束电离区域更加靠近镀膜件，使镀膜件的镀膜效果更好，通过偏移设置可以增加交叉区域内的离子分布，当区域内的气体被电离后周边的电离气体会向中心转移，从而实现电离气体的充分利用。
[0040]进一步，所述等离子靶源3的输出端与水平面的夹角在0
°
～5
°
之间。
[0041]本实施例中，等离子靶源3的输出端与水平面的夹角在0
°
～5
°
之间，壳体1中部的等离子靶源3的偏移角度为0
°
，壳体1两端的等离子的靶源在5
°
作用，可以使相邻的等离子靶源3的电离区域均有一定的交叉，可以本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种斜交式离化源的镀膜腔，包括具有镀膜腔的壳体(1)及设置在所述壳体(1)上的抽气口(11)，还包括，等离子靶源(3)，有若干个，均设置在所述壳体(1)上，转动架(4)，有若干个，均转动设置在所述壳体(1)的镀膜腔内，其特征在于，所述等离子靶源(3)的输出端均向镀膜腔的中心偏移设置。2.根据权利要求1所述的一种斜交式离化源的镀膜腔，其特征在于，所述等离子靶源(3)的输出端与水平面的夹角在0
°
～5
°
之间。3.根据权利要求1所述的一种斜交式离化源的镀膜腔，其特征在于，所述壳体(1)具有开合区(12)和工作区(13)，所述开合区(12)的一侧具有第一开口(121)；还包括门体(5)，所述门体(5)铰接设置在所述壳体(1)上，用于遮挡所述第一开口(121)。4.根据权利要求3所述的一种斜交式离化源的镀膜腔，其特征在于，所述等离子靶源(3)沿所述壳体(1)的工作区(13)弧面均匀设置组成离子源组(31)，若干组所述离子源组(31)沿所述壳体(1)竖直方向均匀设置。5.根据权利要求1所述的一种斜交式离化源的镀膜腔，其特征在于，所述转动架(4)有若干个；还包括传动...

【专利技术属性】
技术研发人员：李龙，李飞，李兰民，
申请(专利权)人：遵化市超越钛金设备有限公司，
类型：新型
国别省市：