本发明提供能够容易地变更从离子源照射的离子束的离子电流密度分布、小型且廉价的离子源、离子电流密度分布变更方法以及基材处理装置。离子源(6)具有：放电室(61)，其具有释放离子的开口，并由绝缘体形成；磁铁，其使放电室(61)内部产生磁场；...

本发明提供一种能够准确测量电子部件的电特性的测量装置和测量方法。测量装置具有：第一腔室(20)，其具有第一空间(24)；多个接触探针(21)，其配置于第一腔室(20)的第一面，测量配置于与第一面对置的第二面的多个电子部件的电特性；切换部...

提供一种能够有效检查电子部件的电特性并且误差少的测量装置和测量方法。测量装置具有：压力变更单元，其改变测量室内的压力；多个接触探针，其同时接触多个石英振子的外部电极；电源部，其对石英振子施加电压；测量部，其测量石英振子的阻抗；以及切换部...

提供一种可以取得具有稳定的再现性的电子部件的检查结果，直流电阻、高频电感等变动较小，能够应对小型窄间距化，不污染检查空间的高寿命的探针单元。用于电子部件的检查的探针单元(1)具有探针(20)和支架(10)，探针(20)具有沿着中心线伸缩...

本申请提供一种不管电子部件有没有泄漏，都能够计算电子部件的泄漏量的小型且容易组装到现有装置、设计自由度高的泄漏检查方法和泄漏检查装置。在泄漏检查方法中，在比石英振子的内部压力低的压力下第1规定时间配置石英振子，获取石英振子的第1阻抗的变...

提供一种探针销对位装置，能够容易地对探针销与电极焊盘的位置的偏差量实时地进行校正，并且能够防止探针销或电子设备受到损伤。探针销对位装置(100)具备：反射镜(110)，其在探针销(331A、331B)靠近晶体振子(21)时，使电极焊盘(...

本发明提供能够减少向压力传感器附着的成膜物质，延长压力传感器的寿命的成膜装置及成膜方法。原料气体供给部用于成膜处理，向成膜室(10)供给含有成膜成分的原料气体，第二气体配管(90)用于成膜处理，将与原料气体不同的处理气体从蓄存该处理气体...

本发明的发光装置是具有发出蓝色光的LED元件和发出红色及绿色荧光的荧光体的白色LED发光装置。LED元件被分散有荧光体的封固树脂所封固。其周围被透明树脂所封固，具有炮弹型形状。在透明树脂的表面上形成有透明膜，该透明膜具有透光性且反射混合...

本实用新型提供原子层沉积装置。其具有光特性测定装置（41）和ALD成膜室。光特性测定装置（41）具有电源（42）、探头（43）、测定装置（44）、承载台（45）和控制部（48）。探头（43）为接受来自发光装置（10）的光的受光体。测定装...

提供一种离子枪以及用于该离子枪的格栅。上述离子枪具备格栅更换时输出特性的可重复性、伴随温度变化的形状稳定性以及保管性良好的半管型格栅。在离子枪中，具备在内部产生等离子体的主体、用于从主体内部引出等离子体的格栅以及在与主体之间夹持格栅的框...

本发明提供一种离子管及离子束的引出方法，离子管排列有多个离子束引出孔，使得离子束电流密度变得均匀。该离子管具有由阴极和阳极构成的等离子体生成构件，以及从等离子体中引出离子束的栅极，栅极沿长边方向具有多个或者一连串的离子束引出孔，以多个或...

本发明提供一种排列有多个离子束引出孔的离子管，使得离子束电流密度变得均匀。该离子管具有由阴极（１０）和阳极（２０）构成的等离子体生成构件，以及从由等离子体生成构件生成的等离子体中引出离子束的栅极（３０），阴极由架设于一对丝电极（１３）之...

本发明提供一种薄膜形成装置，提高靶材料的利用率、生产节拍时间、维修性能以及成膜精度。所述薄膜形成装置包括：真空室；保持靶材料的溅射阴极；搭载用于堆积被溅射的靶材料的基板的搭载单元；以及搭载单元的搬运机构；在搬运机构中，按照使基板通过靶材...

改进排列在真空室内的旋转电极和接触该旋转电极以便向其提供电功率的电源装置间的接触状态。真空设备具有真空室、排列在真空室内并与真空室电绝缘的旋转电极，以及接触旋转电极以便向其提供电功率的电源装置，其中，旋转电极具有环形形状以及相对于环形形...

在真空蒸镀等成膜中使用的真空槽的致冷剂路径的构成中，通过减少冷却管的使用量缩短施工期间，通过缩短致冷剂路径抑制致冷剂流量的下降，其中，在包括被槽壁覆盖的槽、配置在槽内部的内部机构或配置在槽外部的外部机构、和用于冷却内部机构或外部机构的至...

本发明以低成本且高维护性的构成提供一种中和器，即使电极热膨胀也不会变形及破损。该中和器具有丝极、使电流流过该丝极的一对电极、及在绝缘状态下支承一对电极的基座，其中，该中和器构成为具有如下的保持装置：将一对电极和基座在相对位置至少在一方向...

提供一种在有限的空间内也能效率良好地进行转动机构的装配分解且维修性和作业性优良的真空装置。而且，由于防止基板拱顶的径向振动，防止由轴承产生的粉尘而引起污染，因而通过转动机构的薄型化使成膜精度提高。在由真空槽、固定在该真空槽内部的基座、安...

抑制因真空排气或加工精度引起的真空槽的变形，使槽内部配置的设备及部件的位置关系保持一定，其中，在由具有排气口部的真空槽及与真空槽底部相对配置的基板圆顶构成的真空装置中，在排气口部的内部或周边部配置加强部件。

抑制因在基板拱顶内成膜过程中的热膨胀和转动而引起的离心力，使配置在基板拱顶上的基板上的膜厚分布精度下降。在包括真空槽和搭载了成膜基板并与真空槽底部相向设置的基板拱顶的真空装置中，形成由钛或钛合金构成的材料的基板拱顶。