株式会社日立高新技术专利技术

株式会社日立高新技术共有2368项专利

  • 本发明提供一种核酸分析装置,其在处理多片流通池的情况下也不会增大需要的移动量,使载置台机构小型化、装置小型化。本发明的核酸分析装置特征在于:包括含有作为分析对象的核酸样本的样本容器、观察核酸样本的摄像单元和使样本容器移动的载置台机构,载...
  • 目的在于提供针对图像的对位精度而言鲁棒的核酸分析技术。本发明的优选的一个方面提供一种核酸分析装置,其特征在于,具备:碱基预测部,用于将检测来自配置于基板的生物体关联物质的发光而得到的多个图像作为输入进行碱基预测;对位部,进行多个图像的向...
  • 燃料电池单体(1)具备硅基板(2)、多孔质的支撑材料层(5)、多个孔(60)或柱(40)和层叠体。层叠体具备上部电极层(10)、固体电解质层(100)和下部电极层(20)。上部电极层(10)还形成于与硅基板(2)的主面平行的面,以使得与...
  • 本发明公开了在低浓度区域及高浓度区域的任一个中都可准确地进行测定的、通过胶乳凝集法测定目标物质的方法及其试剂。在包括使敏化胶乳粒子的悬浮液与目标物质反应,然后从光学变化量来测定敏化胶乳粒子的凝集的、通过胶乳凝集法测定目标物质的方法中,敏...
  • 具有:认知工序,认知一体型架子(301A、301B、301C),该一体型架子搭载有保持清洗液的清洗液容器、以及保持校准品的校准品容器、或者保持包含已知浓度的试样的QC检体的QC检体容器;清洗液供给工序,吸引清洗液;以及供给工序,吸引校准...
  • 本发明提供一种搬送容器(100)及搬送方法,具备用于载置搬送物的底部件(2)、配置于底部件(2)的侧方的左右的侧部件(3)、配置于底部件(2)的上方的把手部件(4)、将底部件(2)与侧部件(3)之间连结的左右的下部连结部件(5)、以及将...
  • 本发明的目的在于提供一种能够抑制对分析处理量的影响并提高分注探针的清洗效果的技术。本发明的方法通过重复向分注探针的内部输送清洗液的内表面送液期间和不输送所述清洗液的内表面停止期间,从而清洗所述分注探针的内表面(参照图3)。的内表面(参照...
  • 本发明提供一种自动分析装置,能够将反应容器顺利地插入到所培养箱具有的孔中。一种分析检体的自动分析装置(100),其特征在于,具备:培养箱(105),其具有将容纳所述检体与试剂的混合液的反应容器(114)插入的孔(202);以及移送部(1...
  • 本发明提供一种从混存有细菌和杂质的试样推断细菌浓度并将试样中的细菌浓度调整为期望的值的技术。本发明的自动分析装置对混存有细菌和杂质的试样导入破坏所述杂质的物质,并将被破坏后的所述杂质与所述细菌分离,之后利用滤件取出所述细菌,按照留在所述...
  • 本公开提出一种电泳系统,具有:电泳装置,其具有:多根毛细管,其在内部进行样品的电泳;光源,其向毛细管的检测位置照射光;检测器,其对取决于样品所包含的成分的光进行检测,该光是照射光源的光而产生的;以及缓冲液收纳部,其收纳缓冲液,在样品的电...
  • 本发明提供能够抑制引出电极中的不均匀的温度分布的电子枪(901)以及测长SEM(900)。电子枪(901)具备:带电粒子源(1);引出电极(3),其从带电粒子源(1)引出带电粒子,并且使带电粒子的一部分通过,遮蔽带电粒子的另一部分;以及...
  • 本发明提供一种能够使以规定的混合比将供试血浆与正常血浆混合而成的混合血浆实现自动配制的分析装置以及方法。自动分析装置(100)具备:样本分注机构(101),其将供试血浆及/或为校正所述供试血浆的凝固时间而添加的正常血浆分注至多个样本容器...
  • 气体供给控制装置向处理被加工物的处理室供给气体,该气体供给控制装置具备:与吹扫用气体的气体源连接的第一端口;与处理用气体的气体源连接的第二端口;使从所述第一端口及第二端口供给的所述吹扫用气体和所述处理用气体各自合流地流动的集合配管;设置...
  • 本发明的目的在于提供即使使管嘴朝向液面高速移动并以较高的加速度减速/停止,也能够防止气泡从管嘴飞出并实现精度较高的分注的分注装置。本发明的分注装置在管嘴开始朝向液体的液面下降后,在所述管嘴的端部接触所述液体的液面后且到所述管嘴下降停止之...
  • 本公开涉及一种分析系统(100),其包括液相色谱(LC)系统(10),液相色谱(LC)系统(10)包括可经由物流选择阀(20)交替连接到共用检测器(60)的多个流体物流(11、12、13、Sn
  • 本发明提供一种自动分析装置(1),其具备:试剂瓶设置部(200),其设置容纳有分析所使用的试剂的试剂瓶(301);以及喷嘴单元(210),其用于将连接使用试剂的部位和设置于试剂瓶设置部(200)的试剂瓶(301)内的供给流路(220)接...
  • 使成品率得以提升的等离子处理装置具备:配置于真空容器内部且在内侧形成等离子的处理室;配置于该处理室内且在上表面搁放处理对象的晶片的样品台;配置于该样品台内部的具有圆板或圆筒形状的金属制的基材;在该基材的内部绕着其中心同心状多重配置并在内...
  • 等离子处理装置具备:具备载置半导体晶片的载置面的样品台;具备包围样品台配置的环状的薄膜电极的电介质制环;和覆盖薄膜电极的电介质制的基座环,薄膜电极包含:位于比半导体晶片的背面低的位置的第1部分;位于比半导体晶片的主面高的位置的第2部分;...
  • 在各向同性蚀刻时,控制晶片上的自由基分布,并且防止第二遮挡板上表面的异物飞扬。等离子体处理装置具备:处理室(106),其对样品进行等离子体处理;高频电源(113),其供给用于生成等离子体的高频电力;样品台(120),其载置所述样品;以及...
  • 为了进行高效率的质量分析,特征在于,具有质量分析装置,质量分析装置包括:离子源、离子导向器、四极杆质量过滤器和配置在四极杆质量过滤器的后级的检测器,并且包括DC电源和RF电源、以及通过控制电源来控制直流电压即加速电压的电压控制装置,电压...