本发明涉及纳米突起形成方法及具有通过该方法形成的纳米突起表面的母材，其特征在于，在不使用纳米掩模(mask)的情况下，通过使用酸溶液的湿式蚀刻工序来形成包括具有数nm～数十nm的宽度的纳米突起的抗反射层和/或包括数十nm～数μm的宽度的...

本实用新型涉及一种防反射基板，其在表面形成有防反射凸起(anti-reflection)，防反射凸起具有纳米尺度(nano scale)凸起和微尺度(micro scale)凸起混合的形状，从而共同改善短波长和长波长的透射率。

本实用新型涉及纳米图案涂覆技术领域，具体公开了一种连续式纳米图案装置包括：加载锁舱室（10），其将作为非加工物的基板投入到工艺中；溅射舱室（20），从上述加载锁舱室（10）排出的基板投入其中，并且在上述基板表面通过溅射方式形成纳米掩膜；...

本发明涉及利用等离子体预处理的RGB印刷方法及用于其的等离子体装置，更具体地涉及，其中，包括如下步骤:a)在无机基板上形成有机隔断；b)利用等离子体对基板表面进行亲水化处理，上述基板表面形成有上述有机隔断；c)利用等离子体对上述亲水化处...