一种防反射基板制造技术

本实用新型专利技术涉及一种防反射基板，其在表面形成有防反射凸起(anti-reflection)，防反射凸起具有纳米尺度(nano scale)凸起和微尺度(micro scale)凸起混合的形状，从而共同改善短波长和长波长的透射率。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
一种防反射基板
本技术涉及可提高透光性及耐久性的防反射表面的制造方法以及形成 有防反射表面的基板。具体地本技术中，引起蒸镀于基板上的金属凝聚，并且将 上述凝聚的金属点（dot)用作蚀刻掩膜（etching mask),从而在基板表面形成防反射 (anti-reflection)凸起，并且控制上述凝聚的金属点的大小及分布,从而提高防反射表面 的透光性及耐久性。 根据本技术，可调节短波长和长波长的选择性透射率，或者均可改善对于短 波长和长波长的透射率，并且将纳米尺度（nanoe scala)和微尺度（micro scale)的防反 射凸起进行混合，从而可提高耐久性。此外，在防反射凸起形成后，易于去除基板上所残留 的金属点，并且甚至可提高涂覆于上述防反射凸起上的防水（water repellent)层的耐久 性。 如上所述，形成有可提高透光性及耐久性的防反射表面的基板可应用于光学装 置、图像显示面板（Image Display Panel)或太阳能电池等各种领域。
技术介绍
为了在基板表面形成纳米图案，从而赋予防反射（anti-reflection)功能，首先 需要在基板上形成纳米掩膜（mask)(图1)基板防反射。上述纳米掩膜可通过各种方法形 成，通常使用如下方法：在基板表面蒸镀掩膜层，并且通过纳米加工等，形成纳米掩膜，或者 将纳米大小的珠子（beads)涂覆为断层，从而蚀刻空出来的空间。 最近，在将不易氧化的贵金属薄薄地蒸镀后，通过热处理来进行凝聚，从而形成掩 膜的方法也正在研究中，但是问题在于，难以去除蚀刻后基板表面所残留的贵金属。 此外，上述方法全部形成均匀的纳米大小的掩膜，因此不仅难以选择性地改善特 定波长的透射率，而且也难以改善均包括短波长和长波长的大范围的透光率。 并且，使用上述纳米掩膜，在基板表面形成均匀大小的纳米图案时，根据与外部接 触的荷重，从而形成上述纳米图案的凸起易于被破坏，从而降低纳米图案所形成的防反射 层的耐久性。 此外，为了在基板表面赋予耐指纹或防污染特性，可在上述纳米图案上额外涂覆 防水层（图1)，此时，上述纳米图案上所涂覆的防水层的厚度为非常薄的A尺度（scala)， 从而问题在于，通过与外部的接触从而防水层易于产生磨损。 由此，需要开发防反射表面的技术，上述防反射表面可调节短波长和长波长的选 择性透射率，或者均改善对于短波长和长波长的透射率，并且均可提高防反射层及防水层 的耐久性防反射。
技术实现思路
为解决上述问题，本技术的目的在于，提供一种防反射基板，其防反射表面可 调节短波长和长波长的选择性透射率，或者均可改善对于短波长和长波长的透射率。 toon] 此外，本技术的目的在于，提供一种防反射基板，其防反射表面均可提高防反 射层级防水层的耐久性，并且易于去除形成防反射凸起后基板上所残留的金属点。 为达上述目的，本技术提供了一种防反射基板，基板的表面形成有防反射凸 起，防反射凸起具有纳米尺度凸起和微尺度凸起混合的形状。 此时，优选地，上述金属基板使用具有500°C以下的熔点的低熔点金属，以便可通 过温度控制来调节凝聚的程度，并且作为一个实施例，上述低熔点金属可使用金（Au)、铅 (Pb)、镉（Cd)、铋（Bi)或锡（Sn)等。 此外，可通过各种方法对上述凝聚的金属点的大小、厚度及分布进行控制，作为一 个实施例，可通过调节温度、调节金属的蒸镀次数或蒸镀速度来进行控制，并且由此可调节 短波长和长波长的选择性透射率或者均改善对于短波长和长波长的透射率。 并且，上述凝聚的金属点（dot)可以是混合有纳米尺度和微尺度的点的形状，并 且防反射凸起可具有纳米尺度和微尺度混合的形状，上述防反射凸起将上述混合的尺度的 金属点利用为蚀刻掩膜后形成。如上所述，混合有尺度的形状的防反射凸起中，在基板表面 增加荷重的情况下，上述微尺度的凸起支撑表面荷重，从而可防止纳米尺度的凸起被破坏， 从而可提高耐久性。此时，优选地，上述纳米尺度的凸起宽度（width)为50?500nm，上述 微尺度的凸起宽度（width)为0· 5?100 μ m。 另外，本技术的防反射表面的制造方法在基板表面上形成防反射凸起后，可 额外包括如下步骤：iv )去除上述基板上所残留的金属点，此时，上述金属点的去除有别于 使用贵金属的情况，可通过酸处理来简单地实现。 此外，优选地，在将上述基板上所残留的金属点去除后，可额外包括如下步骤： v )在形成有上述防反射凸起的基板上涂覆防水层，并且上述防水层由氟化合物形成，并 且其厚度为50?500 A左右。 此时，将混合有纳米尺度和微尺度的尺度的金属点利用为蚀刻掩膜，从而使得防 反射凸起具有纳米尺度和微尺度混合的形状，从而在基板表面增加荷重的情况下，上述微 尺度的凸起支撑荷重，从而可防止纳米尺度的凸起表面的防水层被磨损。 另外，通过上述说明的方法，本技术提供形成有防反射表面的基板，并且上述 防反射表面可形成于基板的一面，但是彼此具有不同大小、厚度及分布的防反射凸起也可 形成于基板的两面。 此时，上述基板的两面分别选择性地透射短波长和长波长，从而可提高基板的全 光谱（full spectrum)的透射性，并且为了提高耐久性，可在上述基板的两面分别形成纳米 尺度的凸起和微尺度的凸起。在此情况下，优选地，上述纳米尺度的凸起宽度（width)为 50?500nm，厚度（depth)为50?500nm，并且上述微尺度的凸起宽度（width)为0· 5? 100 μ m，厚度（depth)为 0· 2 ?2 μ m。 如上所述，形成有可提高透光性及耐久性的防反射表面的基板可应用于光学装 置、图像显示面板（Image Display Panel)或太阳能电池等各种领域。 根据本技术，形成有防反射表面的基板可调节短波长和长波长的选择性透射 率，或者均可改善短波长和长波长的透射率，将纳米尺度和微尺度的防反射凸起进行混合， 可提高防反射层的耐久性。另外，在形成防反射凸起后，易于去除基板上所残留的金属点， 并且甚至可提高涂覆于上述防反射凸起上的防水层的耐久性。 【附图说明】 图1是表示将形成有纳米图案的防反射（anti-reflection)层和防水层涂覆于基 板上的形式的截面图。 图2是表示根据形成于基板表面的纳米凸起的大小的透射率和特性变化的曲线 图。 图3是根据本技术的一个实施例，表示混合有纳米尺度（nanoe scala)和微 尺度（micro scale)形状的金属点的扫描电子显微镜（SEM)照片。 【具体实施方式】 以下，参照附图，对本技术的可提高透光性及耐久性的防反射表面的制造方 法及形成有防反射表面的基板进行详细说明。 本技术的防反射表面的制造方法包括如下步骤：i )在基板上蒸镀金属；ii ) 对上述蒸镀的金属的凝聚进行引起的同时，对凝聚的金属点（dot)的大小、厚度及分布进 行控制；以及iii)将上述凝聚的金属点（dot)利用为蚀刻掩膜（etching mask),从而在基 板上形成防反射（anti-本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防反射基板，其特征在于： 基板的表面形成有防反射凸起，防反射凸起具有纳米尺度凸起和微尺度凸起混合的形状。

【技术特征摘要】
2012.11.20 KR 10-2012-01316761. 一种防反射基板，其特征在于： 基板的表面形成有防反射凸起，防反射凸起具有纳米尺度凸起和微尺度凸起混合的形 状。2. 根据权利要求1所述的防反射基板，其特征在于： 所述纳米尺度的凸起的宽度为50?500nm，厚度为50?500nm。3. 根据权利要求1所述的防反射基板，其特征在于： 所述微尺度的凸起的宽度为〇. 5...

【专利技术属性】
技术研发人员：李相老，罗钟周，朴明渐，金明根，金允焕，徐在亨，岳昕，李智英，
申请(专利权)人：株SEP，
类型：新型
国别省市：韩国;KR