本技术涉及一种板架车暂存循环装置，包括固定架，固定架上设置有直线模组、工作台和暂存台，工作台和暂存台均位于直线模组的正上方；工作台和暂存台上均设置有对接轨道，对接轨道上搭载板架车，板架车沿对接轨道移动；板架车底部设置有顶接口；直线模组连...

本技术涉及一种PCB自动上板线，其包括固定架，固定架上设置有第一上板装置、第二上板装置、插拔开夹装置和传输装置，且上述装置均与中央控制器电性连接；传输装置上搭载有板架车，板架车上设置有夹板框，传输装置带动夹板框移动至插拔开夹装置下方，插...

本技术涉及一种板架车自动传输装置，其包括轨道机构和转运机构，转运机构与中央控制器电性连接；轨道机构包括第一直线导轨和轨道齿条，转运机构包括移动架，移动架设置在第一直线导轨上，移动架上固接有第一电机，第一电机驱使移动架沿第一直线导轨滑动；...

本技术涉及一种精密卡扣机构；其包括底座，底座上设置有导向座和推拉气缸，导向座上设置有卡扣件，推拉气缸活动端连接传动件；卡扣件包括相互垂直的卡扣部和滑移部，滑移部上设置有传动凸起；导向座上设置有滑移槽和滑道，滑移部设置于滑移槽内；传动件上...

本发明涉及电路板自动化生产设备，尤其涉及一种辅助上板装置；本装置通过开合气缸和插框组件配合，先将夹板框竖直的插入插框组件中，再通过开合气缸将插框组件和夹板框一起水平放倒至上板区域，之后旋转伸缩组件抵接压紧夹板框，开夹气缸驱使开夹件打开夹...

本技术公开的一种用于多个PCB板的同步上下料装置，包括基板和板框，板框用于承托和同步夹紧多个PCB板；板框上设置有承托孔，每个承托孔的外围设置有至少两个用于同步夹紧对应孔内PCB板的合页式自张夹头组件；基板上相对两侧设置有两组限位立板，...

本发明涉及电路板自动化生产装备领域，尤其涉及一种自动插板装置，其包括固定支架，固定支架上设置行车轨道供板架车上下，固定支架上设置横移机构用来固定并顶起板架车，之后驱使板架车左右横向移动，固定支架上还设置夹插板机构，机械手将电路板抓取至夹...

本技术公开的一种具有双腔结构的PCB板处理机，包括等离子气源发生器、第一等离子体加工腔和第二等离子体加工腔，等离子气源发生器的顶侧设置有主气源管路；主气源管路上安装有将气源分支成两路分别与第一等离子体加工腔连通的第一分支管路和与第二等离...

本技术公开的一种承载PCB板转运的板框，包括本体板框，其板面上设置有至少四个阵列分布、且分别对每个PCB板承托及固定的方形通孔，方形通孔外缘周边形成台阶状与每个PCB板周缘配合、并沿水平方向对每个PCB板周向进行围框固定限位的阶梯台面；...

本申请提供一种挂架，包括架体和夹持组件，架体包括间隔设置的两个第一架部，每一第一架部设有夹持组件，夹持组件包括合页件和第一复位件，合页件包括固定页、活动页以及穿过固定页和活动页的转轴，固定页连接于一第一架部，活动页相对另一第一架部设于固...

本发明公开的一种用于PCB板生产的Plasma自动控制线，包括上料生产线、PCB板上料装置、载具上料装置、板框及PCB板自动转运装置、双工位等离子清洗刻蚀机、载具下料及缓存装置、PCB板下料装置和下料生产线，PCB板上料装置将上料生产线...

本发明涉及一种PCB自动上板线，其包括固定架，固定架上设置有第一上板装置、第二上板装置、插拔开夹装置和传输装置，且上述装置均与中央控制器电性连接；传输装置上搭载有板架车，板架车上设置有夹板框，传输装置带动夹板框移动至插拔开夹装置下方，插...

本发明涉及一种新型电极冷却系统，包括电极组件、循环水箱和冰水机；电极组件上设置有循环水道和温度传感器，循环水道具有水道入口和水道出口，水道入口设置有第一水泵；循环水箱上设置有第一入水口、第一出水口和第二出水口，第一入水口通过第一水管连通...

本发明公开的一种用于多个PCB板的同步进出料移送装置，包括基板和板框，板框用于承托和同步夹紧多个PCB板；板框上承托孔的外围设置有用于同步夹紧PCB板的合页式自张夹头组件；基板上相对两侧设置有两组限位立板，两组限位立板的内侧分别相对安装...

本发明涉及PCB板生产自动化领域，尤其涉及一种可调式PCB板架车；其包括底板，底板上设置有第一定位组件和第一轨道；底板上还设置有位于同一竖直平面内的U形固定框和U形移动框，U形固定框与底板固定连接，U形移动框与U形固定框滑动连接，以形成...

本发明公开的双腔PCB板处理机，包括两个同步进出料移送装置和双腔等离子处理装置，两个同步进出料移送装置分别将板框横移至上下料区、以及通过自动机械手将输送的多个待加工PCB板放置于板框上锁紧固定，并沿水平方向横移进给送料至一个腔室的蚀刻加...

本技术公开的一种用于刻蚀腔加热装置，包括刻蚀箱，刻蚀箱底侧设置有用于承接半导体器件的承载台；承载台顶侧形成由刻蚀箱围拢密封的刻蚀工作腔，在刻蚀工作腔周向外缘设置有位于刻蚀箱内壁处、对承载台上待加工半导体器件再次周向环形防护的腔壁密封环；...

本发明公开的一种提高刻蚀均匀性的射频源装置及其刻蚀机，该射频源装置安装于反应腔室的顶部，包括：腔体上盖、绝缘顶盖、第一射频电极组件、第二射频电极组件、第一等离子气源组件和第二等离子气源组件，绝缘顶盖呈“凸”字形的台阶状结构；绝缘顶盖内对...

本技术涉及半导体加工领域，尤其涉及一种控温装置，包括连接座，连接座底面固接有第一控温板，第一控温板底面固接有第二控温板，第二控温板底面固接有待控温设备，第一连接座上设置有入口和出口，第一控温板内设置有第一通道，第二控温板内设置有第二通道...

本发明公开的一种刻蚀机，用于sic刻蚀或深槽刻蚀，包括底架座、抽真空及惰性气体充注装置、真空刻蚀箱、料口密封装置、射频源组件和下电极组件，抽真空及惰性气体充注装置安装于底架座后侧上部，真空刻蚀箱的中心形成的刻蚀腔侧壁上开设有抽真空以及气...