本发明为属于电子检测技术领域的基于ＭＳＰ４３０单片机的可编程多通道电源监控模块，是利用ＭＳＰ４３０单片机的功能与端口资源设计的一种单片机控制系统，所述的系统包括ＭＳＰ４３０单片机１、电源２、滤波器３、时钟信号源４、编程接口５、通讯插座６...

一种属于伺服控制技术领域的光栅编码器反馈信号计数电路，包括数字信号处理器，可编程逻辑器件，微控制器。数字信号处理器内计数器对光栅编码器输出的脉冲进行计数；通过可编程逻辑器件内部电路的控制，数字信号处理器将计数值传输给微控制器。本发明利用...

具有间隙特性传动机构的控制系统，本发明属于在伺服系统中带有间隙的传动机构的控制系统，该控制系统包括线性控制电路１，死区电路２，ＰＷＭ电路３，伺服电机４，传动机构及负载５及位置电位计６。其特征是为了有效的改变原非线性系统的极限环，在控制系...

本发明涉及对遥感器调焦控制电路的仿真检测技术，特别是一种航天光学遥感器调焦控制电路的仿真测试方法，是将一由电压调理电路３、模数转换电路５、微型计算机系统６和串口通讯电路７组成的调焦控制仿真测试闭环系统连接在所述的被测调焦控制电路上，对调...

本发明涉及一种测控设备数字通讯系统，其采用的技术方案为：数字信号处理器通过串口通讯模块接收主控系统或各个分系统传输的数据，并对接收的数据进行运算和处理；数字信号处理器运算和处理的结果通过串口通讯模块传输给各个分系统或主控系统；可编程逻辑...

本实用新型涉及到一种对光电计时装置的改进。解决已有技术不能自动跟踪飞行目标、抗干扰能力不强的问题。包括望远物镜、分光棱镜、微光探测器、信号处理电路、记录显示、时码钟、录象机、监视器、ＣＣＤ相机。本实用新型有较高的计时精度为≤１０μｓ。当...

本发明涉及发光动力学飞秒超快过程的测量方法及装置，包括光源、分束镜、机械延迟线、反射镜、气源、气室、柱面镜、染料泵、染料池、输出镜、气体延迟线、记录仪等，可以使纳秒（ｎｓ）激光脉冲激光器的输出提高到皮秒（ｐｓ）、飞秒（ｆｓ）激光脉冲，本...

一种确定凹面全息光栅制作光路中两激光束夹角的方法属于光谱技术领域中涉及的一种确定两激光束夹角的方法。要解决的技术问题是：提供一种确定凹面全息光栅制作光路中两激光束夹角的方法。技术方案为：第一步，建立一套凹面全息光栅曝光装置；第二步，制备...

全息光栅制作中实时监测曝光量的方法，属于光谱技术领域中涉及的一种全息光栅制作中实时监测曝光量的方法。要解决的技术问题是提供一种全息光栅制作中曝光量实时监测的方法。技术方案为步骤一，配备一套全息光栅曝光装置；步骤二，配备一套精确控制全息光...

一种平面全息光栅制作中精确控制刻线密度的方法，是通过全息光栅曝光装置实现的，其特征在于平面全息光栅制作中精确控制刻线密度的方法为：第一，配备一套全息光栅曝光装置，包括激光光源（１）、反射镜（２）和（３）、扩束滤波器（４）、准直反射镜（５...

本发明涉及一种三维微光机电器件结构的制作方法。在衬底上溅射电铸阴极，光刻、电铸形成金属结构，去胶后去除暴露的电铸阴极，再次用厚型正性光刻胶曝光、显影、坚膜暴露金属结构上表面，剩余光刻胶作牺牲层。涂敷另一种光刻胶，前烘、曝光、后烘、显影、...

一种全息光栅制作中曝光量的实时监测装置，属于光谱技术领域中涉及的实时监测曝光量装置。要解决的技术问题是提供一种全息光栅制作中曝光量实时监测装置。技术方案包括光栅基底、潜像光栅、记录光束、干涉场、光电接收器、记录激光器、平面反射镜、空间滤...

一种全息光栅显影过程实时监测电路，属于光电检测技术领域中涉及的一种全息光栅显影监测电路。要解决的技术问题是：提供一种全息光栅显影过程实时监测电路。解决技术问题的方案包括光电池、前置放大器、输出调零放大器、滤波放大器、Ａ／Ｄ转换器，单片机...

本实用新型公开一种圆柱面光栅光刻刻划机，属于光学精密刻划技术领域中涉及的一种圆柱面光栅光刻刻划机，本实用新型要解决的技术问题是：提供一种圆柱面光栅光刻刻划机。解决技术问题的技术方案是：包括床身、传动系统、分度机构和曝光系统。该机是在原来...

一种自控液晶光阀组光刻快门机构，属于光学精密刻划技术领域中涉及的一种光刻快门机构，本实用新型要解决的技术问题是：提供一种自控液晶光阀组光刻快门机构，解决的技术方案是：包括灯盒、托板、液晶光阀组、曝光镜头、微型计算机、待刻码盘；在灯盒的光...

本发明涉及湿法刻蚀中的光刻技术，将抛光的样品用溶剂超声清洗；用热的保护性气体将样品吹干去湿，经粘附增强剂处理；用光刻胶溶液旋转涂覆，在一定温度下烘干去除溶剂；前烘之后的样品完全曝光，再用光刻胶溶液旋转涂覆烘干并掩膜光刻，显影之后固化，得...

一种凹球面光刻刻划机，属于超微细加工技术领域中的一种对凹球面实施光刻的光刻设备。本发明要解决的技术问题是：能在凹球面上光刻纬纬相交的网栅线或经纬相交的网栅线。技术方案是：光刻刻划机形体采用支架支撑结构，由水平回转轴系统、竖轴系统、进给轴...

本发明属于微光机电器件，涉及一种微机械光开关的闩锁它包括：微反射镜１、悬臂２、下层基片３、倾斜下电极８、倾斜绝缘层９、水平下电极１０及水平绝缘层１１，制作步骤：首先在衬底上涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、刻蚀掉闩锁图形的所在区域的水平绝缘...

本发明属于光电子器件技术领域，涉及一种电场调谐聚合物／液晶二维光栅的制备方法。本发明首先将光敏单体材料与液晶混合，然后注入液晶盒；液晶盒由内表面带有透明导电膜（ＩＴＯ）的两块玻璃基板组成，两基板间用隔垫物控制间隙，并用ＡＢ胶固定；在双束...

本发明涉及微光机电器件的制作。本发明结构包括支撑体，微反射镜芯片坑，Ｖ形槽，入射、出射微光学部件，衬底，微通道阵列和盖板组成，本发明微通道模块制备采用的材料可以采用ＳＵ－８光刻胶，ＰＭＭＡ或单晶硅，使微通道阵列的高度和宽度与微反射镜的尺...