中国科学院长春光学精密机械与物理研究所专利技术

中国科学院长春光学精密机械与物理研究所共有10268项专利

  • 本发明涉及振动控制技术领域,具体提供一种基于参数化模型的解耦方法,通过系统辨识得到系统参数化模型;将状态空间的馈通项通过积分算子消除,得到一组线性约束方程;构造系统优化问题得到优化公式;构造优化目标,得到优化目标公式;通过对优化目标优化...
  • 本发明涉及光谱学成像技术领域,具体提供一种基于偏振成像与光谱获取技术的快照型光谱仪,包括前置透射光学系统、后置光学阵列和探测器,所述前置透射光学系统包括前置会聚透镜组和准直透镜,所述后置光学阵列包括微透镜阵列、滤光片阵列以及偏振阵列,目...
  • 本发明涉及光学技术领域,尤其涉及一种分裂椭圆型超表面折射率传感器及其制备方法,传感器包括:基底和全介质超表面结构阵列;全介质超表面结构阵列包括多个全介质超表面单元结构,多个全介质超表面单元结构周期性的排列在基底上,全介质超表面单元结构包...
  • 本发明涉及面形检测技术领域,具体提供一种光学平面面形绝对检测方法,基于四平面法对参考镜、辅助透射镜和待检镜的四个平面进行依次干涉,获得一组欠定方程组,利用方程式的加减消元,剔除光学不均匀性的影响;对辅助透射镜进行旋转,利用Moore‑P...
  • 本发明涉及一种多波段周扫式搜跟一体光电预警识别系统,属于智能预警技术领域,解决了现有光电预警系统存在的探测波段单一、目标定位精度低、隐蔽性不佳等问题。在该系统中,可见光周扫成像分系统、红外周扫成像分系统、激光测距分系统均安装在精密跟踪架...
  • 本发明涉及一种基于视差修正的光电望远镜外挂镜头图像实时配准方法,属于图像处理技术领域,解决了现有的基于图像特征信息的配准方法对特征点依赖性强、计算时间长及不能满足光电望远镜对配准低误差、高实时性、特殊情况下无特征点的需求的问题。获取基准...
  • 本发明涉及电路与控制技术领域,尤其涉及一种基于压电驱动的位置控制系统,包括指令发送模块、数据读取模块、电源处理模块、信号隔离模块、故障监测模块和安全保护模块,其中,电源处理模块用于对数字电源和功率电源进行稳压和滤波处理;指令发送模块用于...
  • 本发明涉及光电跟踪测量技术领域,尤其涉及一种小型经纬仪的水平轴锁紧机构,包括微调环转动结构、第一锁紧结构、第二锁紧结构以及水平调节结构;其中:转动结构配合水平调节结构带动第一锁紧结构、微调环以及第二锁紧结构夹紧锁定经纬仪轴;第一锁紧结构...
  • 本发明涉及一种机载光电吊舱快速装卸装置,主要包括:机载固定转接盘、光电吊舱活动盘、型材架、可拆卸承重把手和随形转运架。本发明的机载光电吊舱快速装卸装置,在丁字型承重件安装面上设置凹陷的锁紧安装槽,锁紧安装槽尺寸按照减振器弹性件装置外形尺...
  • 本发明涉及技术领域,具体提供一种水下高分辨率成像装置,包括:架体、整流罩、与整流罩密封安装的第一可调气压空气透镜组件、用于对由第一可调气压空气透镜组件汇聚的光子进行二次汇聚的第二可调气压空气透镜组件、用于识别由第二可调气压空气透镜组件汇...
  • 本发明涉及惯性传感器电荷管理技术领域,尤其涉及一种解算测试质量的表面电荷波动的方法,包括:S1、通过直流电压电源分别向第一极板、第二极板、第三极板和第四极板对应施加电压,使测试质量发生偏转;S2、在预设的时间范围内,以相同的时间间隔采集...
  • 本发明涉及光场成像的技术领域,具体提供基于内联遮挡处理的抗噪光场深度测量方法及系统,方法包括:获取光场原始图像;采用光场参数化,为角坐标,为空间坐标,输入光场中的每个像素并基于候选深度标签重新映射到剪切光场;根据剪切光场,判断遮挡类型;...
  • 本发明涉及一种空间机械臂基座刚度特性模拟装置,属于空间产品地面模拟验证设备领域。模拟装置用于模拟机械臂固定端的刚度特性,以获取机械臂在固定端刚度较低的情况下的运行策略和操作方法。模拟装置可以模拟固定端3种刚度特性,包括:空回和间隙特性模...
  • 本发明涉及刀痕面形评价技术领域,尤其涉及一种磁流变抛光元件表面刀痕质量的定性评价方法。包括:采集或计算磁流变抛光元件的刀痕面形数据;根据平面光入射公式计算从磁流变抛光元件返回引入的光程差;将干涉仪与磁流变抛光元件作为整体,令常数振幅,计...
  • 本发明涉及光场成像的技术领域,具体提供一种基于镜面高光去除的抗噪光场深度测量方法、系统及介质,其中,基于镜面高光去除的抗噪光场深度测量方法包括:获取光场原始图像;对光场原始图像进行光场参数化;光场重聚焦图像;基于剪切光场获取每一个深度标...
  • 本发明涉及半导体机构技术领域,尤其涉及一种实现复制光栅槽型稳定的支撑装置及系统,支撑装置包括支撑结构、第一结构、第二结构以及支撑板。支撑结构内的部分结构中设有预设角度的刚性结构,用于形成复制光栅槽型,以对复制光栅槽型的整体的至少一部分进...
  • 本发明涉及光学加工驻留时间求解技术领域,尤其涉及一种大口径光学元件抛光驻留时间快速求解方法。包括:通过干涉仪测量待加工工件表面的面形,根据实际加工对元件面形RMS指标的需要,降采样获得去除量分布;选择所述待加工工件的加工工艺,测量得到工...
  • 本发明涉及空间天文望远镜技术领域,尤其涉及一种旋转光瞳成像系统波前信息检测方法,首先根据旋转光瞳成像系统本身的参数,得到旋转光瞳成像系统的光瞳函数结合相位函数得到旋转光瞳成像系统在不同角度上存在的瞳函数关系;根据根据旋转光瞳成像系统拍摄...
  • 本发明涉及动态视觉传感器技术领域,具体提供一种基于DMD的DVS等效帧频检测方法,利用恒定光强的光线照射DMD,利用DMD高时间分辨率的特点,将DMD的出射光以固定的光强变化频率投射到DVS图像传感器中,实现DVS图像传感器在全画幅0至...
  • 本发明提供一种用于大口径光学元件的磁控溅射技术的辅助装置,其包括第一拓展部件,光学元件具有待沉积面,光学元件的待沉积面的外侧边缘为连续的第一边缘,第一拓展部件贴近第一边缘设置,第一拓展部件靠近第一边缘的一侧的边缘的形状与第一边缘的形状相...