本申请提供一种测量光学元件厚度与间隔的方法，涉及光学精密测量技术领域。本申请包括以下步骤：A、调节变焦镜头和光学元件的位置，并调节变焦镜头和光学元件的光轴处于同一直线；B、第二光源分别向光学元件和延迟线模块发射光线；C、调节延迟线模块的...

本技术提供一种基片键合均匀加压装置及加压系统，包括：均化压力组件、流体控制组件、外部加压组件，所述均化压力组件包括连接所述外部加压组件的加压外层、和待键合表面接触的加压内层以及设置于所述加压外层与所述加压内层之间的压力均化层，所述流体控...

本申请提供一种激光束调节机构及激光辅助键合设备，涉及芯片制造的技术领域，其包括激光器、整形扩束组件、激光角度调节组件及光束聚焦组件；整形扩束组件的入射口与激光器的出射口对应设置，以接收激光器射出的激光束并对激光束进行光束整形及变焦扩束；...

本发明的光谱可调的共焦位移和厚度的测量系统，属于高精度测量的技术领域，至少解决现有技术中的光源的光谱特性均匀性或稳定性较低，降低被测物的测试效率的技术问题。包括镜头组件、分叉光纤、光源组件、光谱仪和控制器，光源组件包括基础光源和调节光源...

本申请提供一种消除自准直仪光斑重合影响的平行度测试系统及其平行度测试方法，涉及光学测试技术领域。所述平行度测试系统包括：自准直仪；至少两个待测平面，以将所述自准直仪发出的光反射回所述自准直仪；光路转变件，能够分别贴合于两个所述待测平面上...

本申请提供一种大量程低相干光干涉光学元件间距测量装置及方法，涉及光学精密测量技术领域。所述大量程低相干光干涉光学元件间距测量装置，包括光路传输模块、测头模块和参考光延迟模块，所述光路传输模块包括可见光光源、激光器电源控制器、第一超辐射发...

本申请提供一种晶圆卡盘标记版固定方法、晶圆卡盘标记版固定装置及晶圆卡盘装置，涉及半导体技术领域。所述晶圆卡盘标记版固定装置主要包括吸盘、晶圆卡盘、一对精密垫片、一对标记版、两标记版支架、两压块、三维线性模组、点胶装置、高度传感器及拍摄装...

本申请提供一种掩模版组及应用该掩模版组的曝光设备，应用于半导体和泛半导体制备技术领域，该掩模版组通过在工作掩模版和工作光源之间设置防护掩模版，并在工作掩模版和/或防护掩模版上设置透明加热系统，可显著减少到达工作掩模版的无效光刻能量，防止...

本申请提供一种调节机构、调节装置及半导体精加工系统，包括：包括：放置台、固定框、调节组件、第一吸附组件和第二吸附组件。放置台具有放置面、底面和连接面。贯穿孔的侧壁用于和连接面对接。调节组件安装于活动腔内，调节组件具有用于对接底面的调节面...

本发明属于光刻工艺设备技术领域，具体涉及一种光学镜头，可用于高分辨率紫外光刻机。一个物面(掩模面)经过投影物镜后可以多次成像形成多个像面，从而使产率成倍增加。节省了投影物镜以及整个曝光设备的成本。同时，本发明可以实现多个物面成一个或多个...

本发明属于半导体加工装置技术领域，具体涉及一种接近接触式曝光装置。本发明在传统接近接触式曝光装置的基础上，设置一个比基片待曝光区域小的曝光照明视场，同时设置支撑掩摸台和基片台或者支撑照明系统的步进或扫描运动装置，在掩模版和基片完成调焦调...