本发明提供了一种抛光盘的驱动装置，其包括固定盘、旋转机构、机架和平移机构，固定盘内设有冷却流道，固定盘上连接有抛光盘；旋转机构包括主轴和用于驱动主轴转动的第一驱动组件，固定盘连接于主轴的上端，主轴内穿设有与冷却流道相连通的冷却管，主轴的...

本发明提供了一种硅片的清洗甩干装置，属于机械技术领域。它解决了现有技术存在着稳定性差的问题。本硅片的清洗甩干装置包括机架，还包括旋转轴、罩筒、喷气管和喷水管，上述旋转轴竖直设置且旋转轴下端轴向固连在机架上，所述旋转轴上端具有用于定位硅片...

本发明涉及硅片研磨定位技术领域，公开了一种定位装置，包括放置台、定位组件和驱动件：放置台用于承载硅片，放置台上设置有至少三个滑动槽，所有的滑动槽所在的直线交于一点；定位组件与滑动槽一一对应设置，且能够沿滑动槽的长度方向移动，定位组件包括...

本发明涉及抛光技术领域，公开一种抛光设备。所述抛光设备包括工作台、抛光盘、抛光盘清洗器、转盘、抛光头组件和传送机构。工作台上设置有一个上下料工位和多个相分隔的抛光工位。每个抛光工位均设置有一个抛光盘和一个抛光盘清洗器。转盘可转动地设置在...

本发明涉及抛光技术领域，尤其涉及一种抛光设备。该抛光设备，包括上下料工位、转接工位和抛光清洗工位，上下料工位上设置有上料盒和下料盒；转接工位上设置有第一机械手、定位机构和清洗干燥机构，第一机械手能够将上料盒内的硅片取出并转移至定位机构进...

本发明涉及硅片加工设备技术领域，尤其涉及一种抛光设备。本发明提供的抛光设备，包括工作台、抛光盘模组和抛光头模组，抛光头模组包括抛光头和抛光头驱动装置，在工作台上依次设置上下料工位、粗抛工位、中抛工位和精抛工位，并在粗抛工位、中抛工位和精...

本发明涉及硅片研磨清洗技术领域，公开了一种清洗装置，包括机架两个第一清洗机构和第二清洗机构，两个第一清洗机构间隔且滑动地设置于机架上，第一清洗机构相对于机架能够沿水平第一方向移动，第一清洗机构包括第一驱动组件和第一清洗头，第一驱动组件能...