【技术实现步骤摘要】
一种定位装置
本专利技术涉及硅片研磨定位
,尤其涉及一种定位装置。
技术介绍
随着电子科学技术的发展,硅片使用量越来越大,应用的领域也越来越多。硅片在加工过程中需要对其进行研磨。一般是采用机械手(机械手抓取硅片的方式主要是真空吸附和夹取两种方式)将硅片从晶圆盒中取出,移至研磨盘处,采用真空吸附固定,然后再进行研磨。硅片在研磨盘的放置位置并不完全固定,真空吸附仅仅是起到固定的作用,并不能调节硅片的位置,导致硅片偏心,致使硅片研磨不均匀。严重影响硅片研磨的合格率。因此,亟需一种定位装置,以解决上述技术问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种定位装置,其能够对硅片进行定位,在对硅片研磨时,可以保证研磨比较均匀,保证硅片研磨的合格率。为达此目的,本专利技术采用以下技术方案:提供一种定位装置,包括:放置台,其用于承载硅片,所述放置台上设置有至少三个滑动槽,所有的所述滑动槽所在的直线交于一点;定位组件,其与所述滑动槽一一对应设置,且能够沿所述滑动槽的长度 ...
【技术保护点】
1.一种定位装置,其特征在于,包括:/n放置台(11),其用于承载硅片,所述放置台(11)上设置有至少三个滑动槽(111),所有的所述滑动槽(111)所在的直线交于一点;/n定位组件(12),其与所述滑动槽(111)一一对应设置,且能够沿所述滑动槽(111)的长度方向移动,所述定位组件(12)包括定位件(121),所述定位件(121)露于所述滑动槽(111)设置;/n驱动件(13),其能够驱使所述定位件(121)相互靠拢,以夹持定位所述硅片;还能够驱使所述定位件(121)相互远离,以解除对所述硅片的夹持。/n
【技术特征摘要】
1.一种定位装置,其特征在于,包括:
放置台(11),其用于承载硅片,所述放置台(11)上设置有至少三个滑动槽(111),所有的所述滑动槽(111)所在的直线交于一点;
定位组件(12),其与所述滑动槽(111)一一对应设置,且能够沿所述滑动槽(111)的长度方向移动,所述定位组件(12)包括定位件(121),所述定位件(121)露于所述滑动槽(111)设置;
驱动件(13),其能够驱使所述定位件(121)相互靠拢,以夹持定位所述硅片;还能够驱使所述定位件(121)相互远离,以解除对所述硅片的夹持。
2.根据权利要求1所述的定位装置,其特征在于,所述放置台(11)上设置有六个滑动槽(111),所述定位组件(12)的数量为六个。
3.根据权利要求1所述的定位装置,其特征在于,还包括旋转盘(14)和拨叉(15),所述旋转盘(14)位于所述放置台(11)的下方,所述拨叉(15)与所述定位组件(12)一一对应设置,所述拨叉(15)的第一端转动连接于所述旋转盘(14)的非轴心处,所述拨叉(15)的第二端连接于所述定位组件(12),所述旋转盘(14)转动能够驱使所述定位组件(12)相互靠拢或远离。
4.根据权利要求3所述的定位装置,其特征在于,所述定位组件(12)还包括第一连接轴(122),所述第一连接轴(122)的一端连接于所述拨叉(15)的第一端,另一端与所述定位件(121)转动连接。
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【专利技术属性】
技术研发人员:杨兆明,颜凯,中原司,
申请(专利权)人:浙江芯晖装备技术有限公司,
类型:发明
国别省市:浙江;33
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