昭和电工株式会社专利技术

昭和电工株式会社共有2541项专利

  • 当使用抛光载体抛光玻璃基底时,本发明提供:一种制造磁盘基底的方法,无论抛光载体的形状、材料和硬度如何,都可应用该方法,并且该方法能够防止在玻璃基底的外端面上出现划痕;一种通过这种方法获得的磁盘玻璃基底,其具有卓越的特性;一种制造磁盘的方...
  • 为了减小磁盘上的磁头漂浮高度,本发明提供一种磁盘基底的制造方法,能够有效地抛光玻璃基底,直到该玻璃基底的平坦度(TIR值)为5微米或更小。本发明涉及一种通过使用研磨盘片研磨的方法来抛光玻璃基底的磁盘基底制造方法,其特征在于,盘片精度被设...
  • 本发明的目的是提供抛光基底的内边缘端面、并在抛光多个用于记录介质的盘状基底的内边缘端面时保持足够高的加工精度的方法。根据本发明,提供了使用刷子抛光用于记录介质的盘状基底的内边缘端面的方法,包括:提供多片在其中心部分具有圆孔、由此形成内边...
  • 本发明可以提供能够减少玻璃基材表面缺陷数的磁盘基材的制造方法。当使用所得磁盘基材制造磁盘时,产率以及可靠性可以得到改善。在磁盘基材表面抛光后对其进行洗涤时,在经抛光的玻璃基材表面保持润湿状态的同时,将玻璃基材浸到洗涤溶液中。玻璃基材表面...
  • 本发明涉及一种磁盘玻璃基底,其能够在磁盘制造过程中防止出现灰尘以及颗粒粘附到磁盘表面,并涉及一种制造方法和一种磁盘。一种用于磁盘的玻璃基底具有以下结构,其中在主表面的圆周边缘部分附近形成的外周缘形状在以该主表面的另外的平坦部分作为参考时...
  • 提供一种对用于记录介质的基底的端表面进行抛光的方法,该方法能够有效抛光基底的内周端表面和/或外周端表面,从而防止记录介质的性能可靠性受到残留抛光材料的粘附的损害。根据本发明,提供一种对用于记录介质的基底的端表面进行抛光的方法,其中使得用...
  • 本发明提供一种磁盘基底的制造方法,它能够只用一个抛光步骤来控制表面粗糙度并能减少表面缺陷,以及提供一种磁盘的制造方法。当玻璃基底被抛光时,该玻璃基底用含磨料的研磨浆来抛光。接着,该玻璃基底用不含磨料的水性清洗液来作进一步的抛光,使得该玻...
  • 一种用于磁记录介质的玻璃基底,具有位于基底表面(数据面)和基底外周端面(直面)之间的斜面,基底表面用于在其上形成包括磁性层的薄膜,其中外周斜面在径向上具有120*或更小的突起值。
  • 一种用于磁记录介质的玻璃基底,在所述基底的用来形成有含磁性层的薄膜的表面(数据面)和所述基底的外周端面(竖直面)之间有一个斜切面,其中,在所述玻璃基底的所述数据面和所述斜切面之间有一个曲率为0.013到0.080mm的R面。
  • 本发明涉及一种磁盘基底的制造方法,其能够减少在玻璃基底表面上存在的滑痕的数量并增大玻璃基底的合格率。当通过利用每个都具有衬垫的抛光盘对玻璃基底的表面进行抛光时,通过将加工速率设定为0.15μm/分或更低并且将衬垫槽宽设定为2至4mm来对...
  • 本发明提供了一种就待抛光表面的缺陷和光滑度而言具有优异效果的低成本抛光浆料。该抛光浆料包含氧化硅磨料和氧化铈磨料,其中基于全部抛光浆料,氧化硅磨料含量低于3质量%,氧化铈磨料含量低于1质量%。此外,本发明提供了一种用于信息记录介质的结晶...
  • 本发明是一种用于磁记录介质的制造方法,其中至少磁性层、保护层、和润滑层依次层叠到非磁性基底1上,并且该非磁性基底1使用由在大约大气压下产生的等离子体激活的气体对非磁性基底进行表面处理。作为本发明的结果,通过有效地除去存在于磁记录介质表面...
  • 本发明提供一种磁记录介质,它具有优秀的启动操作性能和耐久性,以及令人满意的表面润滑性。本发明涉及到一种磁记录介质的制造工艺,在这种磁记录介质中,在非磁性基底上顺序层叠至少一层磁性层、一层保护膜层和一层润滑层,在所述制造工艺中,用在接近大...
  • 一种即使当衬底是由易碎材料制成的硅衬底时在衬底端面上也基本不碎裂或者开裂的衬底,并提供一种衬底,其防止从衬底端面生成粉尘和防止由于与处理盒摩擦而造成的粉尘。通过将衬底主面和外周侧端面之间斜切部分的长度L设置为0.1±0.03mm,以及将...
  • 一种垂直磁记录介质,其通过退火具有较高的矫顽力,为了实现该目的,本发明提供一种制造垂直磁记录介质的方法,该垂直磁记录介质包括沉积在非磁性基底上的磁记录层,其中至少相互层叠包含Co的磁性层和扩散层,并且对所层叠的层进行退火以制成磁记录层。
  • 提供了一种具有更高记录密度的垂直磁记录介质,以及利用这种介质的磁记录和再现设备。该垂直磁记录介质至少包括依次形成在非磁性基底上的底层、中间层、垂直磁记录膜以及保护膜,其中,所述垂直磁记录膜由具有不同成分的两层构成,该两层至少包含Co、P...
  • 为了通过大大地增加磁道密度而增加表面记录密度,同时又保持记录和再现特性不比现有技术中的特性差,将非磁性基底11、靶材料12和磁板21平行地安置在薄膜沉积装置10中。在所述靶材料上施加高频电压,在所述磁板的表面上交替产生间隔均匀的不同极性...
  • 本发明提供一种垂直磁记录介质,其中,记录密度大大地增加了且晶体结构的偏差很小。一种垂直磁记录介质具有至少一个软磁性衬层、一个取向控制层、一个垂直磁性层、和一个保护层,它们形成在一个非磁性基底上,所述取向控制层由多层构成,包括所述基底一侧...
  • 在能够获得更高记录密度的磁记录介质中,提供一种具有更高矫顽磁力和更低噪音的磁记录介质及其制造方法、以及磁记录和再现装置。该磁记录介质的特征在于,至少包括:非磁性内涂层、非磁性中间层、磁性层和保护层,它们按照递升的顺序层叠在非磁性基底上,...
  • 本发明提供一种记录密度较高、矫顽磁力较大和噪声较小的磁记录介质。还提供磁记录介质的制造方法、磁记录和再现装置。磁记录介质至少包括非磁性内涂层、非磁性中间层、磁性层和保护层,这些层以此顺序层叠在非磁性基底上,并且非磁性内涂层的至少一层由W...