包含具有微型凸起的衬底圆盘的磁性记录介质，改变衬底圆盘圆周方向上相邻微型凸起的间距Ｄ以满足“１≤［（Ｄ↓［ｍａｘ］－Ｄ↓［ｍｉｎ］）／Ｄ↓［ａｖｇ］］×１００（％）≤２００”，其中Ｄ↓［ｍａｘ］，Ｄ↓［ｍｉｎ］和Ｄ↓［ａｖｇ］是最大、最...

本发明提供一种用于抛光磁记录盘基体、使该磁记录盘表面粗糙度降低的磨料组合物。可获得高密度记录而不发生突起或抛光划痕，能使抛光以经济的速度进行。本发明公开的用于抛光磁记录盘基体的磨料组合物，包含水、二氧化硅、防胶凝剂、硝酸铝和过氧化氢。

用于磁盘基材抛光的组合物，其中包含水、精细二氧化钛颗粒和抛光促进剂，其特征在于９０－１００％的构成所述颗粒的二氧化钛具有相同的晶体结构；以及用所述的组合物制备磁盘基材的方法。该组合物可以以经济的抛光速度用于磁盘基材的抛光，以便降低表面的...

一种抛光组合物，其至少包含水、氧化铝及衍生于铝盐的溶胶产物。用该抛光组合物抛光后的磁记录盘基片抑制了其外周边部分形成的转出量，其具有几乎无凹点、结节及刮痕的高质量镜面抛光的表面，并能使它与磁头间的距离小，而由此能达到记录密度。

由含碱金属离子、磨粒、羧酸、氧化剂、凝胶化防止剂的水性介质组成的磁盘基板抛光用组合物。用该抛光用组合物抛光磁盘的基板时，表面的粗糙度非常小，用所抛光的盘制作的磁盘作为低浮上型硬盘，可高密度记录。

一种磁记录介质，它具有非磁性基片，在这个基片上有至少一层软磁性下膜、一层控制直接在其上的膜定向的定向控制膜、一层具有基本上垂直于基片的易磁化轴的垂直磁记录膜、和一层保护膜，其中定向控制膜具有形成Ｃ１１↓［ｂ］结构的材料组成。

一种垂直磁记录介质，其包括非磁性衬底（１）、以及至少由软磁性材料形成的软磁性底涂层膜（２）、对准控制膜（３），其用于控制被直接设置在其上的膜的晶体对准、垂直磁膜（５），其易磁化轴的取向一般垂直于所述衬底、以及保护层（６），所述膜和所述层...

一种磁记录介质，其在非磁性基片上提供软磁性底涂膜、第一底涂膜、第二底涂膜、垂直磁记录膜、以及保护膜，并且所述第一底涂膜由Ｐｔ、Ｐｄ或包括Ｐｔ和Ｐｄ中至少一种的合金构成，所述第二底涂膜由Ｒｕ或Ｒｕ合金构成。

本发明的目的是提供一种可以降低介质噪声的磁记录介质。本发明提供一种磁记录介质，其以如下顺序在非磁性衬底上包括至少非磁性底涂层、第一磁性层、非磁性耦合层、第二磁性层、以及保护层，其中第二磁性层与第一磁性层反铁磁性耦合，以及第一磁性层由Ｃｏ...

一种磁记录介质，其在非磁性基片１上提供至少：取向控制层３，用来控制直接形成于其上的层的取向、垂直磁性层４，具有取向基本垂直于非磁性基片１的易磁化轴、以及保护层５，其特征在于，垂直磁性层４包括两个或更多个磁性层，所述磁性层中的至少一个是主...

一种磁记录介质包括依次堆叠在非磁性衬底上的方向调整层、非磁性衬层、非磁性中间层、磁性层和保护层，该非磁性衬底在其第一表面上提供有纹理并且用于磁盘。该非磁性衬层含有由Ｃｒ－Ｍｎ类合金形成的至少一层并且具有沿其圆周方向的易磁化轴的磁各项异性...

本发明提供一种高加工速度的组合物，所述组合物能够在减小铝制磁盘的基底层、玻璃制磁盘表面的纹理加工后的平均表面粗糙度（Ｒａ），并且形成微细的纹理条痕的同时，除去存在于基底层、表面上的起因于基片研磨工序的“研磨痕”或“研磨刮痕”。本发明的组...

一种制造用于磁记录介质的基底的方法包括利用包含碱水溶液和表面活性剂的蚀刻剂对硅基底进行化学蚀刻处理。以在表面粗糙度负载曲线中接触比率达到５０％处的高度为基准，在高度为１．０ｎｍ或更大的区域中所述用于磁记录介质的基底在其表面上具有其接触比...

一种磁记录介质的制造方法，包括用带有靶的溅射法在基底上形成薄膜，其中，溅射期间在上面形成环形腐蚀区的所述靶与上面安装有多个基底的基底托架平行相对，其安置方式使得所述靶和所述基底托架的中心轴彼此对齐，并且在形成薄膜时，所述基底被安置在所述...

在用于磁记录介质的硅基底中，在所述基底的主表面与端面之间的周部分处设置半径为０．０１ｍｍ至０．０５ｍｍ的曲面。所述曲面可以设置在所述基底的外周或内周。优选地，所述端面和所述主表面的表面粗糙度的最大高度分别小于等于１μｍ和小于等于１０ｎｍ...

本发明提供了一种用于磁记录介质的硅基底，即使其为易碎材料制成的硅基底，也不易于在基底边缘面上产生碎片或者在基底上产生裂缝，并且防止从基底边缘面上产生的碎屑，以及防止由于摩擦加工盒而产生的碎屑。因此，在用于磁记录介质的硅基底中，在基底的主...

本发明涉及一种制造用于磁记录介质的玻璃基底的方法，包括用磨料粒抛光玻璃基底，然后用０．０２－０．３％的氢氟酸水溶液洗涤该基底；还涉及一种通过该方法制造的用于磁记录介质的玻璃基底。制造了一种用于磁记录介质的抛光玻璃基底，由此在抛光该玻璃基...

本发明的特征是非磁性基底、在非磁性基底的每个表面上的靶构件和在每个靶构件背向基底一侧的表面上的磁板平行放置在成膜设备中，向靶构件施加一高频电压，在磁板的表面上以相等的间隔交替排列相反的极性，以及把溅射气体导入到成膜设备中以在靶构件附近产...

一种磁记录和再现设备包括一个矩形盒体，该盒体上部有一个开口，里面装有一种磁记录介质，该介质以硅为基底，直径为５０ｍｍ或更小，该设备包括一个主轴电动机，用作驱动装置，以支撑和转动所述磁记录介质，还包括一个磁头悬架组件，它包括用来在所述磁记...

提供一种抛光方法，该抛光方法在对用于记录介质的多个盘形基底的内缘端面进行抛光时没有加工量差量。提供一种利用刷子对用于记录介质的盘形基底的内缘端面进行抛光的方法，包括：提供多片用于记录介质的盘形基底，其在中心部分具有圆形孔从而形成内缘端面...