磁性记录介质及其生产工艺制造技术

包含具有微型凸起的衬底圆盘的磁性记录介质，改变衬底圆盘圆周方向上相邻微型凸起的间距Ｄ以满足“１≤［（Ｄ↓［ｍａｘ］－Ｄ↓［ｍｉｎ］）／Ｄ↓［ａｖｇ］］×１００（％）≤２００”，其中Ｄ↓［ｍａｘ］，Ｄ↓［ｍｉｎ］和Ｄ↓［ａｖｇ］是最大、最小和平均间距，除去２．５％最大间距和除去２．５％最小间距，Ｄ↓［ｍａｘ］，Ｄ↓［ｍｉｎ］和Ｄ↓［ａｖｇ］从剩余的９５％的间距中计算。例如可以通过调制激光束脉冲重复频率Ｆ使（Ｆ↓［ｍａｘ］－Ｆ↓［ｍｉｎ］）／Ｆ↓［ａｖｇ］”的比率保持在０．０１到１００之间来获得凸起间距的变化，Ｆ↓［ｍａｘ］，Ｆ↓［ｍｉｎ］和Ｆ↓［ａｖｇ］是激光束Ｆ的最大、最小和平均值。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及包含在其上形成有磁性记录层的衬底圆盘的磁性记录介质和生产这种磁性记录介质的工艺。尤其是涉及对包含在其上形成有磁性记录层的衬底圆盘的磁性记录介质的改进，以及对生产这种磁性记录介质工艺的改进。所述衬底圆盘的表面具有多个微型凸起，这是通过聚焦激光束使衬底表面起纹理(texturing)而形成的。本专利技术的磁性记录介质展示出良好的CSS(接触式起止)特性和降低的磁头噪声，从而提高由于磁性硬盘(此后简称为“HD”)和磁头滑动接触所引起磨损持久性。最近加大磁性记录介质密度取得了显著进步。以前硬盘驱动器(其后简称“HDD”)记录密度以大约为每十年十倍的增长率增长，而现今可以说密度增长率大约为每十年一百倍。在HDD中，主要采纳温彻斯特(Winchester)系统，即，CSS(接触式起止)系统，包括由HD和磁头接触引起滑动，HD上方磁头的浮动以及之后由HD和磁头接触引起的滑动等基本操作。CSS系统在很大程度上有助于记录密度增长的迅速发展。然而，该系统存在引人注意的磨擦学问题。尤其，记录密度增长的迅速发展引起圆盘旋转速度的提高以及磁头浮动高度的降低。因此，现在急需改进磁头和圆盘的磨本文档来自技高网...

【技术保护点】
包含在其上有形成磁性记录层的衬底圆盘的磁性记录介质，所述衬底圆盘具有通过聚焦激光束使衬底表面起纹理而在其表面形成的多个微型凸起；其特征在于：衬底圆盘圆周方向上相邻微型凸起的间距Ｄ的在一定范围变化以满足以下公式（１）：１≤［（Ｄ↓［ｍａｘ ］－Ｄ↓［ｍｉｎ］）／Ｄ↓［ａｖｇ］］×１００（％）≤２００ （１）其中Ｄ↓［ｍａｘ］，Ｄ↓［ｍｉｎ］和Ｄ↓［ａｖｇ］分别是最大间距，最小间距和平均间距，在衬底圆盘圆周方向上相邻的微型凸起的间距Ｄ中，除去２．５％具有最大尺寸的间距Ｄ和除 去２．５％具有最小尺寸的间距Ｄ，Ｄ↓［ｍａｘ］，Ｄ↓［ｍｉｎ］和Ｄ↓［ａｖｇ］从剩余的９５％的间距Ｄ中计算。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 1996-10-4 264230/961.包含在其上有形成磁性记录层的衬底圆盘的磁性记录介质，所述衬底圆盘具有通过聚焦激光束使衬底表面起纹理而在其表面形成的多个微型凸起；其特征在于衬底圆盘圆周方向上相邻微型凸起的间距D的在一定范围变化以满足以下公式(1)1≤[(Dmax-Dmin)/Davg]×100(％)≤200(1)其中Dmax，Dmin和Davg分别是最大间距，最小间距和平均间距，在衬底圆盘圆周方向上相邻的微型凸起的间距D中，除去2.5％具有最大尺寸的间距D和除去2.5％具有最小尺寸的间距D，Dmax，Dmin和Davg从剩余的95％的间距D中计算。2.如权利要求1的磁性记录介质，其中所述微型凸起的平均直径为1到10μm，平均高度为1到30nm以及在衬底圆盘圆周方向上的相邻微型凸起的平均间距Davg为1到50μm，微型凸起占衬底圆盘表面总面积的0.1到99.9％。3.如权利要求1或2的磁性记录介质，其中衬底圆盘圆周方向上相邻的微型凸起的所述间距D在一定范围变化以满足以下公式(3)10≤[(Dmax-Dmin)/Davg]×100(％)≤150(3)其中Dmax，Dmin和Davg如权利要求1中所定义。4.包括激光纹理处理衬底表面在表面形成多个微型凸起步骤的产生磁性记录介质的工艺，其特征在于激光束以使得衬底圆盘圆周方向上相邻的微型凸起的间距D在一定范围变化以满足以下公式(1)的方式聚焦1≤[(Dmax-Dmin)/Davg]×100(％)≤200(1)其中Dmax，Dmin和Davg分别是最大间距，最小间距和平均间距，...

【专利技术属性】
技术研发人员：大泽弘，渡边裕之，
申请(专利权)人：昭和电工株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]