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伊莱利利公司专利技术
伊莱利利公司共有1631项专利
长效利尿钠肽及其用途制造技术
本发明涉及心房利尿钠肽(ANP)多肽以及用ANP多肽治疗的方法。
制备替尔泊肽的工艺和中间体制造技术
本发明提供了用于制备替尔泊肽或其药学上可接受的盐的新中间体和方法。
用于生物缀合的自水解马来酰亚胺制造技术
本发明涉及包含自水解马来酰亚胺官能团的新型化合物、这些化合物的盐、这些化合物的药学上可接受的盐、制备这些化合物的方法,以及使用这些化合物与抗体进行生物缀合的方法。本发明还涉及在生理条件下具有改良的稳定性的抗体药物缀合物。本发明还涉及包含...
含防腐剂的GIP/GLP激动剂组合物制造技术
一种含防腐剂的替尔泊肽的组合物,其包含小于或等于约3mg/mL的NaCl;磷酸盐缓冲液、苯酚、苯甲醇和甘油。
脂质纳米颗粒制剂的稳定化制造技术
本公开的多个方面涉及用于改善脂质纳米颗粒(LNPs)的稳定性的组合物和方法。在一些实施方案中,所述LNPs包含一种或多种包封在其中的活性药物成分(API)。本公开部分地基于直接或间接地减少脂质纳米颗粒的一种或多种脂质组分的降解(例如氧化...
用于分析不合规可穿戴设备数据的技术制造技术
提供了一种用于确定由多个传感器获取的至少一些数据的质量的方法。该方法包括:从与多个受试者相关联的多个传感器接收由多个传感器在获取周期期间获取的数据,其中该数据指示与多个受试者的身体相关联的信号;将获取周期划分为多个子周期;将该数据中的至...
胰高血糖素样肽1受体激动剂制造技术
在一个实施方案中,本发明提供下式的化合物:或其药学上可接受的盐,以及使用这种化合物治疗II型糖尿病的方法。
替尔泊肽的治疗用途制造技术
本发明涉及替尔泊肽的治疗用途。本发明涉及治疗、预防或延缓与认知有关的障碍,如认知减退、认知损害或痴呆的方法。本发明还涉及治疗、预防或延缓心力衰竭,如射血分数保留型心力衰竭(HFpEF)或射血分数降低型心力衰竭(HFrEF)的方法。
用于肠降血糖素合成的肽制造技术
提供了肽片段的结晶形式、其制备方法及其在制备肽中的用途。本发明的结晶性化合物可以用作用于肽合成的具有改善的纯度和物理性质的中间体。
用于确定设备剂量的方法和装置制造方法及图纸
本文描述的技术涉及用于确定由一个或多个药物输送设备注射到用户体内的剂量的计算机化方法和装置。访问指示注射事件组的数据,该注射事件组包括与一个或多个药物输送设备相关联的一个或多个注射事件。对注射事件组进行处理以基于如下中的一个或多个来确定...
合成靶向配体缀合的核苷酸亚磷酰胺的方法技术
本发明公开了用于制备称为adem‑A‑GalNAc亚磷酰胺的靶向配体缀合的核苷酸亚磷酰胺的方法,该adem‑A‑GalNAc亚磷酰胺可用于合成寡核苷酸,如治疗性寡核苷酸。
治疗性抗体制剂制造技术
用于治疗性抗体的稳定水性药物制剂和使用此类稳定水性药物制剂的方法。
用于注射成型塑料部件的方法和注射成型装置制造方法及图纸
本发明涉及注射成型技术领域中的改进。此外,提出的改进包括一种用于注射成型塑料部件(2)的方法,其中,为了生产塑料部件(2),将液化的塑料材料注射到注射成型工具(3)的装备有芯(5)的模腔(4)中。该方法的特征在于,在注射塑料材料之前感应...
用于浓缩生物分子的装置和方法制造方法及图纸
描述了用于经由切向流过滤(TFF)浓缩溶液、例如含有寡核苷酸的溶液中的生物分子的装置,其中所述装置可以将寡核苷酸浓缩至浓度>100mg/mL。还描述了经由TFF浓缩含有生物分子溶液、例如含有寡核苷酸的溶液用于高剂量/低体积应用的方法。
法尼醇X受体激动剂的制剂制造技术
本申请涉及法尼醇X受体激动剂的制剂。具体地,本文描述了法尼醇X受体激动剂3‑羟基氮杂环丁烷‑反式‑1‑甲酸4‑((4‑(1‑(叔丁基)‑1H‑吡唑‑4‑基)吡啶‑2‑基)((4‑(4‑甲氧基‑3‑甲基苯基)二环[2.2.2]辛烷‑1‑基...
合成4'-磷酸盐类似物核苷酸亚磷酰胺的方法技术
本发明公开了用于制备称为MeMOP的4'‑磷酸盐类似物亚磷酰胺的方法,该MeMOP可用于合成寡核苷酸,如治疗性寡核苷酸。
AHR激动剂制造技术
本公开涉及某些AHR激动剂化合物、其制备方法和包含这些化合物的药物组合物以及使用这些化合物治疗免疫介导的疾病(诸如银屑病和特应性皮炎)的方法。
治疗银屑病的方法技术
本发明一般涉及用结合到人IL‑23的p19亚单位的抗体的银屑病治疗,特别是月于治疗该疾病的剂量方案。
抗人LAIR1抗体制造技术
本公开涉及结合人LAIR1的抗体(“抗人LAIR1抗体”或“抗人LAIR1抗体”),包含此类抗人LAIR1抗体的组合物,以及使用此类抗人LAIR1抗体的方法。
糖皮质激素受体激动剂制造技术
本发明提供了式I的化合物:其中R是H或;R1是H、卤素、C1‑C3烷基、C3‑C6环烷基、C1‑C3烷氧基、C2‑C3烯基、OCF3,R2是H、卤素、C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基或C2‑C4烯基;R3是NH2或CH2NH2;且X是O...
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