映瑞光电科技上海有限公司专利技术

映瑞光电科技上海有限公司共有267项专利

  • 本发明揭露了一种LED芯片的结构及其制造方法,所述LED芯片的电极包括第一电极群和第二电极群,所述第一电极群的电极分排均匀分布在管芯上,与管芯对应区域接触,第二电极群分布在以第一电极群的电极为中心的正六边形的顶点上,采用这样的结构能获得...
  • 本发明揭露了一种LED芯片及其制造方法,所述LED芯片的制造方法在生成电极群之后继续生成电极层和绝缘层等结构,优化了传统的倒装芯片工艺的两个步骤,同时这样的方法对LED芯片的厚度得到有效的控制。并且将传统的设置一对电极分隔为分布在管芯对...
  • 本发明提出一种惠斯登电桥交流LED器件的制造方法,步骤如下:提供具有串联的LED的衬底;对所述衬底进行切割,得到多个第一LED模块和第二LED模块,其中,所述第一LED模块和第二LED模块的数量比小于等于4∶1,所述第二LED模块的面积...
  • 本发明提供了一种电冰箱,包括多个LED灯条,多个LED灯条设置在电冰箱内上顶面和除门以外的三个侧面位置上;多个紫外线LED灯珠,紫外线LED灯珠设置在LED灯条上;以及多个白光LED灯珠,白光LED灯珠设置在LED灯条上,并且白光LED...
  • 本发明提出一种隔离深沟槽的制造方法,步骤如下:在衬底上形成一掩膜层,通过刻蚀在掩膜层中形成多个相互隔离的窗口,每个窗口底部暴露出衬底;采用选择LED结构外延侧向过生长,在各窗口内及窗口周围的部分掩膜层上分别形成外延结构,每个外延结构具有...
  • 本发明公开了一种图形化衬底的制作方法,所述方法包括:提供一衬底;在衬底上沉积铟锡氧化物薄膜;使用铟锡氧化物腐蚀液对铟锡氧化物薄膜进行湿法刻蚀,以在衬底表面形成不连续的铟锡氧化物薄膜;将上述不连续的铟锡氧化物薄膜作为掩膜,干法刻蚀衬底,形...
  • 本发明提出一种侧壁具有微柱透镜阵列图案的LED芯片的制造方法,步骤如下:在一衬底上由下至上依次生长外延层和电流扩散层;利用侧壁具有圆弧形阵列和台面图案的光刻版进行光刻工艺,在所述电流扩散层上形成光刻胶,所述光刻胶具有侧壁微柱透镜阵列和台...
  • 本发明公开了一种发光二极管封装结构及其封装方法,本发明通过在LED芯片表面涂覆胶体,并将一个内壁形成有荧光粉的聚焦透镜置于LED芯片之上并与胶体固化,实现荧光粉的远场激发,通过此种方式,可很好地控制荧光粉的形状与厚度,色度易控,光斑性好...
  • 本发明公开了一种发光二极管,包括:衬底;依次位于衬底上的n型氮化镓层、有源层、p型氮化镓层;深度延伸至n型氮化镓层的第一开口;形成于第一开口内的第一电极;形成于所述p型氮化镓层上的电流扩散层,所述电流扩散层具有暴露出所述p型氮化镓层的第...
  • 本发明提供了一种电冰箱,包括多个LED灯条,多个LED灯条设置在电冰箱内上顶面和除门以外的三个侧面位置上;多个紫外线LED灯珠,紫外线LED灯珠设置在LED灯条上;以及多个白光LED灯珠,白光LED灯珠设置在LED灯条上,并且白光LED...
  • 本发明提出一种高压LED器件的制造方法,包括如下步骤:提供一衬底,所述衬底上依次形成有N型限制层、外延层和P型接触电极层;制作至少一个隔离沟槽,以在衬底上方隔离出的每个所述区域内制作N型接触电极台阶;沉积隔离介质层;通过光刻、蚀刻工艺,...
  • 本发明提出一种高压氮化物LED器件的制造方法,包括如下步骤:提供一衬底,在衬底上依次形成有N型氮化物成核层和外延层;蚀刻所述外延层形成N型接触电极台阶;依次蚀刻所述N型氮化物成核层,形成LED隔离沟槽,所述LED隔离沟槽暴露出所述衬底的...
  • 本发明提出一种高压LED器件的制造方法,包括如下步骤:提供一衬底,在所述衬底上依次形成N型限制层、外延层和反射层;在衬底上制作至少一个隔离沟槽,以在衬底上方隔离出至少两个区域,在每个所述区域内制作多个均匀分布的N型通孔;在N型通孔和隔离...
  • 本发明公开了一种背光模组中多层导光薄膜的制作方法,包括:提供一基体;在基体上形成第一层薄膜,对第一层薄膜进行出光点压印,形成具有导光网点的第一导光薄膜;在具有导光网点的第一导光薄膜上叠置第二层薄膜,根据第一导光薄膜上的导光网点分布结构,...
  • 本发明提出一种高压氮化物LED器件,包括多个发光二极管串联成一路发光二极管,所述一路发光二极管按序连续划分成n组,每组发光二极管与一个放电二极管反向并联,其中n为自然数。由上述技术方案的实施,不仅能获得高压LED器件,提高器件的抗静电性...
  • 本实用新型公开了一种LED芯片结构,所述LED芯片的表面呈正六边形,且其电极结构呈中心发射状,从而提高了LED芯片的出光效率,并且避免了电流集中效应。
  • 本发明公开了一种氮化物LED结构,包括衬底以及在衬底上生长的低温成核层和非掺杂氮化物层,在所述低温成核层上生长三维生长层,在所述三维生长层与所述非掺杂氮化物层之间设置有一AlxIn1-xN材料层,所述AlxIn1-xN材料层具有粗糙表面...
  • 本发明提出一种LED芯片的制造方法,包括如下步骤:提供半导体衬底,在半导体衬底上采用金属有机化学气相淀积依次生长氮化物成核层、非掺杂氮化物层、N型氮化物层、多量子阱、P型氮化物层;在P型氮化物层上沉积掩膜层;蚀刻掩膜层以形成周期性图形结...
  • 本发明公开了一种发光二极管及其制造方法,所述发光二极管包括:衬底;形成于所述衬底上的第一缓冲层和第二缓冲层,所述第一缓冲层邻近第二缓冲层的表面形成有多个凹槽,位于所述凹槽内的第二缓冲层中形成有空洞;形成于所述第二缓冲层上的第一导电半导体...
  • 本发明公开了一种LED封装结构,该LED封装结构采用LED器件模块结构,从而不需对每个LED芯片单元进行单独划片及打引线等一系列封装工序,节省了工序,降低了制作成本;且所述LED模块采用垂直电极结构,可直接进行正装封装,提高了LED的整...