一种用于稀土加工设备的均匀加料装置，包括储料管和收集管，收集管设置于储料管的外侧处，并且收集管的内壁与储料管之间安装有连接板，储料管的内壁处安装有阻隔板，储料管的内部底端处设置有电动伸缩杆，并且电动伸缩杆的杆体处设置有推料板，推料板的顶...

本实用新型属于ITO靶材烘干设备技术领域，尤其为一种高纯度ITO靶材生产用便于固定的烘干设备，包括机体和转动杆，所述机体的外部安装有烧结炉，且机体的内壁安装有螺栓，所述机体的内部安装有烘干仓，且烘干仓的内壁安装有热风机，并且热风机的中间...

本实用新型提供了一种薄膜传送除静电装置，涉及薄膜传送技术领域，包括铁块的另一面均固定设置有除静电框，除静电框之间内部的上端均吸附有上除静电板，且上除静电板底部左端转动设置有左转轮，同时上除静电板底部中端转动设置有中转轮，并且上除静电板底...

本发明公开了硅基光伏器件面电极材料用辅助沉淀装置，涉及硅基光伏生产设备技术领域，针对现有的装置搅拌制备的方式过于单一，比表面积低，二氧化硅的活化指数低，不利于纳米二氧化硅的改性与使用，制备效果差，工作效率低的问题，现提出如下方案，包括包...

本发明属于二氧化硅薄膜制备技术领域，尤其是一种在硅基材表面形成二氧化硅薄膜的制备设备，针对存在的设备内温度、基板角度调节的问题，现提出以下方案，包括支架，所述支架用于支撑设备的一端；温度圈，所述温度圈用于支撑设备另一端；所述温度圈的一端...

本发明属于硅基光伏器件技术领域，尤其是硅基光伏器件面电极材料处理工艺，针对存在的吸光效率和载流传输能力不佳的问题，现提出以下方案，包括以下步骤，S1，纳米Si

本发明公开了一种光学镀膜材料用导料烘干装置及其烘干方法，涉及光学镀膜材料处理技术领域，针对现有导料在进行烘干时无法接受更多的流动空气，使得烘干的效率无法得到最大化的问题，现提出如下方案，包括箱体，所述箱体的两侧内壁固定连接有两个安装板，...

本发明属于硅基材料技术领域，尤其是一种应用于硅基材料的二氧化硅薄膜生成工艺，针对存在的介电和疏水效果不佳问题，现提出以下方案，包括以下步骤，S1，在薄膜生产时，准备洁净基片，镀膜前对基底进行严格的清洗，先把基片浸泡在丙酮溶液中25

本发明属于半导体薄膜技术领域，尤其是一种透明导电薄膜制备方法，针对存在的基底要求高、真空环境才能生产的问题，现提出以下方案，包括以下步骤，S1，薄膜生产中，制备薄膜基底首先经过清洗，清洗经过HCl再超声下清洗8

本发明属于二氧化硅技术领域，尤其是一种光学镀膜用高纯度二氧化硅制备方法，针对存在的杂质含量高和纯度不足的问题，现提出以下方案，包括以下步骤，S1，首先将纯化后的原料逐层平布在气相制备反应釜内，通过高纯度氧气通入，采用300

本发明属于激光烧蚀技术领域，尤其是一种激光烧蚀金属材料作用时间测试装置及方法，针对存在的激光烧蚀时长测试效果不佳问题，现提出以下方案，包括底座，所述底座为整体设备的支撑件；激光仓，所述激光仓位于底座的顶部外壁一侧，且激光仓的外边滑动连接...