兴核科学研究福建有限责任公司专利技术

兴核科学研究福建有限责任公司共有17项专利

  • 本发明属于废水处理设备技术领域,尤其涉及一种提铀材料生产后端废水处理工艺,通过废水预处理部件将废水中的第一沉淀和溶液分离,并通过第一处理部件对溶液进行进一步过滤,去除溶液中的悬浮物和杂质,并对溶液进行pH值调节,通过精滤部件将经过第一处...
  • 本发明涉及注射成型工艺领域,具体为一种注射成型用氮化硅粉末喂料配置方法及其装置,喂料配置方法包括:步骤一:将氮化硅原料粉末倒入到喷雾造粒机中进行喷雾造粒,得到氮化硅颗粒;步骤二:将步骤一得到的氮化硅颗粒过筛,将细于目标目数的氮化硅颗粒重...
  • 本发明涉及氮化硅陶瓷浆料制备领域,具体为一种适用于光固化成型工艺的氮化硅陶瓷浆料制备方法,步骤1:将氮化硅原料粉末与酚醛树脂溶液加入球磨装置,经球磨细化后得到纳米级料浆;步骤2:将步骤1得到的料浆经高温真空煅烧后得到改性粉末颗粒;步骤3...
  • 本发明涉及陶瓷加工领域,具体提供了一种氮化硅陶瓷激光辅助加工方法及其装置,方法包括:步骤1:利用激光加热装置加热氮化硅陶瓷工件,使得氮化硅陶瓷工件达到分解温度后分解成Si及N2,得到材质为Si的工件;步骤2:对材质为Si的工件进行机械加...
  • 本发明涉及陶瓷材料技术领域,特别涉及一种氮化硅陶瓷轴承球制备方法及其装置,制备方法包括步骤一:将氮化硅粉末、烧结助剂粉末、粘结剂、水投入混炼装置混炼得到喂料;步骤二:将喂料投入挤出成型机内,经挤出成型得到喂料棒;步骤三:将喂料棒投入滚圆...
  • 本实用新型公开了一种可剥离膜溶液用均匀喷涂装置,包括喷涂设备,所述喷涂设备包括储液箱和设备底箱,所述储液箱外壁上分别固定设置有进液口和控制面板,所述储液箱底板上端面固定设置有供液泵,所述设备底箱上端面两侧分别转动连接有升降调节丝杆和限位...
  • 本实用新型公开了一种KNiFC吸污剂小球制备用均匀搅拌装置,包括搅拌设备,所述搅拌设备内端转动连接有正向搅拌轴,所述正向搅拌轴外壁上固定连接有多根正向搅拌杆,所述正向搅拌轴下端转动套接有逆向搅拌轴,所述逆向搅拌轴外壁上固定连接有逆向搅拌...
  • 本实用新型公开了一种可剥离膜溶液制备用均匀混合装置,包括混合罐体,所述混合罐体上下端中部之间转动连接有主动转轴,所述主动转轴,所述主动转轴中部位置处外壁上固定套接有主动齿轮,所述混合罐体上端面中部位置处固定连接有机架,所述机架上端面固定...
  • 本实用新型公开了一种可剥离膜溶液用辅助涂抹工具,包括支撑机构和存储机构,所述存储机构包括存储箱,所述存储箱上端开口处螺纹套设有密封盖,所述密封盖的下端面中心处固定设置有密封头,所述存储箱的内部靠上端处固定设置有隔板,所述存储箱的加压口处...
  • 本实用新型公开了一种铯锶元素吸附剂颗粒制备用挤压机,包括支撑柱,所述支撑柱上端固定设置有底座,所述底座上端一侧固定设置有挤压箱,所述挤压箱一侧壁固定设置有出料管,所述底座上端远离挤压箱的一侧固定设置有收集箱,所述收集箱远离挤压箱的一侧内...
  • 本实用新型公开了一种气凝胶制备用均匀搅拌装置,所述搅拌槽的内部中心处设置有转动杆,所述搅拌槽的内部且位于转动杆的外壁套设有搅拌叶,所述搅拌叶包括搅拌片和固定片,所述搅拌片的外壁设置有多根低功率加热棒,所述搅拌罐的顶端后侧贯穿开设有进料通...
  • 本实用新型公开了一种可剥离膜溶液用废气处理装置,包括主箱,所述主箱的上端面开口处固定套设有密封套,所述密封套的内部活动套设有处理机构,所述主箱的一侧中心处开设有凹槽,所述凹槽的内部通过两个连接杆固定设置有一号风机,所述凹槽靠近处理机构的...
  • 本实用新型公开了一种气凝胶制备用超声波分散装置,所述分散槽的内部且位于两个超声波器的底端均设置有超声波针头,所述分散锅的内部且位于分散槽的底端开设有电机槽,所述电机槽的内部设置有搅拌电机,所述分散锅的内部且位于电机槽和分散槽之间开设有导...
  • 本发明公开一种用于吸附碘元素的附银气凝胶的制备方法,包括以下步骤:1)气凝胶制备:将正硅酸乙酯与无水乙醇混合,搅拌均匀待用;称取氧化石墨烯粉末、富勒烯粉末,加入到配置好的正硅酸乙酯乙醇溶液中,使用超声对溶液分散,加入硫化氨溶液至溶液呈现...
  • 本发明公开一种铯锶元素吸附剂颗粒的制备方法,包括:1)金属亚铁氰化物粉末的合成:将Co(NO
  • 本发明公开用于放射性核素去污的可剥离膜溶液、制备及使用方法,所述可剥离膜溶液由以下原料制备而成:聚乙烯醇3.5‑14.93wt%,聚乙二醇1‑5wt%、氧化石墨烯0.005‑0.3wt%,0.5‑3mol/L酸剂15‑30wt%、络合剂...
  • 本发明公开一种放射性泡沫去污剂,所述去污剂由以下原料制备而成:碳酸氢钠0.5~5%、乙醇胺0.5~8%或三乙醇胺0.5~8%、表面活性剂、络合剂0.5~3%、助溶剂5~10%,余量为水。本发明中去污剂碱性较弱,对于各种材料表面腐蚀较小,...
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