本发明涉及构造硬掩膜。一个实施方案涉及到在直接形成图案的过程中把前驱体转化为顶表面图案层。本发明的另一个实施方案是在基底上形成刻蚀图案的方法。本发明的再一个实施方案是在基底上形成注入区的方法。优选的前驱体由一种金属络合物形成，该金属络合...

本发明包括制作各种合成物的纳米结构和纳米多孔薄膜结构的方法。可直接在这些膜上形成图案。在这些方法中，前体膜沉积在一个表面上，前体膜的不同组分在选择的条件下起反应，形成纳米结构或纳米多孔膜。这种膜可用在各种应用中，例如，低ｋ电介质，传感器...

公开了一种制作金属氧化物、金属或其他含金属的材料的布线图案膜的无光刻胶的方法。该法包括将金属络合物的无定形膜涂覆到一种基材上。该膜可用标准的工业技术，用旋转涂布法很容易涂覆。所用的金属络合物是光反应性的，在适合波长的光存在下，可进行低温...

本发明涉及不含光刻胶的由金属配合物沉积金属，如铜，或其氧化物膜的方法。更具体地，该方法包含将金属配合物的非晶膜涂敷在衬底上。该金属配合物具有通式Ｍ＃－［ｆ］Ｌ＃－［ｇ］Ｘ＃－［ｈ］，其中，Ｍ选自Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ａｕ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎ...

描述了一种无需光刻胶即可制备金属氧化物、金属或其它含金属化合物的图案化膜的方法。该方法包括涂覆金属络合物的薄膜层，导致形成了液晶膜。该膜可被光分解，产生的化学反应导致形成了金属或金属氧化物膜。所使用的金属络合物是光反应性的，并且存在适宜...

本发明一般涉及将前体材料（１１）、尤其是有机金属前体材料转化为粘附于基板（１０）至少一部分上的膜、优选含金属膜的方法和装置（２００）。方法和装置均包括预转化步骤（４２０）或预转化部分（２１０）以及基本上将来自预转化步骤或预转化部分的一部...