本发明提供一种通过向平板显示元件用基板喷射干燥用空气的方式可容易地对所述基板进行干燥的气刀装置。所述气刀装置包括：主体，其内部设置有空气流入口；第一腔室，其设置在所述主体内侧，并接收由所述空气流入口供给的干燥用空气；第二腔室，其与第一腔...

本发明涉及一种用于水平安装具有狭缝喷头的喷头支承件的感光液涂敷装置，该装置可在不导致机器疲劳的情况下简便地进行精密调整。本发明的感光液涂敷装置包括：工作台；多个柱体，其结合在所述工作台上，所述多个柱体之间相互隔开预定距离；多个垂直驱动单...

本发明涉及一种可以应用于基板处理装置中将液体（ＤＩＷ）和气体（ＣＤＡ）的混合流体喷射到基板上而对基板进行清洗，且容易制作，并可以提高流体喷射效率的流体喷射装置。本发明的流体喷射装置包括：第一垫板，其用于形成气体供给单元；第二垫板，其用于...

本发明提供了一种等离子化学反应器。所述的反应器包括一个空腔，一个阴极装置和一块挡板。所述的空腔提供了一个等离子反应的空间。所述的阴极装置包括一个阴极支撑杆和一个基托。所述的阴极支撑杆一端与空腔的一个壁面连接，另一端与基托连接。所述的基托...

本发明提供一种具备喷嘴唇口清洗装置的狭缝式涂敷装置，所述喷嘴唇口清洗装置在进行用于制造平板显示元件用基板的光刻胶等药液涂覆工艺之后，可以有效去除狭缝喷嘴的喷嘴唇口（ｌｉｐ）上粘附的药液或者异物、并可以减少清洗液使用量。本发明包括：工作台...

本发明公开一种基板输送装置，其设计为提供提高在基板输送期间工作液（显影液）的液体回收效率的倾斜输送功能。所述基板输送装置包括用于输送基板的第一输送单元、与所述第一输送单元的一端间隔的第二输送单元、设置在所述第一输送单元及所述第二输送单元...

本发明涉及一种用于湿法蚀刻及剥离工序的基板处理装置。所述基板处理装置包括：供应基板的箱体；与上述箱体的上部是一体结构，并对上述基板进行药液处理工序的处理部；与上述箱体的下部是一体结构，并储存上述药液处理工序中所需药液的储存部；位于上述储...

本发明提供了一种等离子化学反应器。所述的反应器包括一个为等离子体反应提供一个空间的反应室；和一个一端与反应室壁面相连，另一端支撑一块基板使基板能够设置于反应室内中间部位，且安装后能够进行高度调节使基板保持一个水平状态的阴极组。

提供了一种混合等离子体反应器。所述混合等离子体反应器包括ＩＣＰ（感性耦合等离子体）源单元和偏移ＲＦ（射频）电源单元。所述ＩＣＰ源单元包括腔室，天线线圈单元，以及源电源单元。所述腔室包括顶部开口的腔室主体以及覆盖所述腔室主体的开口顶部的介...

本发明涉及一种具备复合天线线圈组的等离子体反应装置。这种等离子体反应装置包括：反应室，其上部设置有圆柱状介电窗，且通过等离子体反应来处理晶片；复合天线线圈组，其设置于所述介电窗的外部及上部，用于产生射频磁场（ＲＦ　　ｍａｇｎｅｔｉｃ　　...

一种面板传送装置，包括：框架；提供在该框架上以传送面板的第一面板传送单元；倒换单元，用于从该第一面板传送单元接收该面板以倒换面板传送方向；具有滚筒的第二面板传送单元，该滚筒用于从该倒换单元接收该面板，并将该面板传送到面板处理单元。

本发明公开一种对涂覆于玻璃或聚合体基板上的非晶硅进行多晶硅低温结晶化的过程中可确保重复实现性和安全性的、用于多晶硅低温结晶化的金属催化剂的掺杂装置及掺杂方法。本发明的用于多晶硅低温结晶化的金属催化剂的掺杂装置，包括：腔室、设置于所述腔室...

本发明涉及一种平板显示器用基板输送装置，其适用于平面显示器基板制造工序的显影工序，且通过使基板显影装置的安装空间最小化来获得最大的空间利用率并能够有效地排出处理室内部气体。所述处理室内设有内部相通的多个支架，所述多个支架相互连接并形成一...

本发明公开了一种用于平面显示设备的基片加工系统中的基片传输设备，它包括用于传送基片的多个传送轴，这些传送轴位于用于处理基片的工作区中；和位于传送轴下的用于防止传送轴下垂的下垂预防装置。

一种衬底输送／处理系统包括：衬底堆垛基座；用于从／向基座接收／输送衬底的衬底输送构件；用于清洁和干燥从衬底输送构件输送的衬底的衬底清洁／干燥装置；用于处理经过衬底清洁／干燥装置清洁和干燥、并且通过衬底输送构件输送的衬底的衬底处理装置。

本发明公开了一种面板处理系统，包括：用于从盒装载面板到生产流水线的装载机；Ｉ型面板生产流水线，用于（ａ）对面板进行剥离工序，（ｂ）通过喷洒去离子水到已剥离的面板上来清洁面板，并去除水，（ｃ）干燥已清洁的面板；用于从面板生产流水线卸载面板...

本发明涉及一种精细图案的制作装置。它包括带有一定处理空间的箱体；设置于所述箱体内部，用于支撑涂覆有感光有机膜的衬底的支撑台；与所述支撑台相隔一段距离，用于在衬底的有机膜上印刻预处理图案，以区分蚀刻及非蚀刻区域的模板；用于驱动所述支撑台，...

本发明提供一蚀刻气体控制系统，此系统包括一气体注射器、一气体供应管、一流量比控制器、及一气体供应单元。该气体注射器安装在一容室内，并供应气体至容室内部。该气体注射器包括一安装于容室顶部的顶部注射器，及一安装于容室一侧的侧部注射器。该气体...

本发明提供了一种在制造平板显示器用基板的各工序的输送线中，可连续投入及输出基板的基板输送装置。所述基板输送装置包括：基板输送单元，其配置有相隔一定距离的多个输送辊，并且在所述输送辊上面以水平或倾斜状态输送基板；缓冲臂，其上面可放置基板，...

本发明提供一种端点检测装置、一种具有所述端点检测装置的等离子体反应器、以及一种端点检测方法。所述端点检测装置包括ＯＥＳ数据运算单元、数据选择器、乘积发生器、ＳＶＭ、以及端点测定器。所述ＯＥＳ数据运算单元利用标准化及ＰＣＡ来处理参考ＯＥＳ...